JP4561063B2 - キシリレンジアミンの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)前記触媒を、140〜200℃の範囲であり、かつ平均温度が180℃以下の温度において、水素含有ガスに1時間以上接触させる工程。
(2)前記接触処理した触媒を、さらに、200〜500℃の範囲の温度で水素含有ガスに接触させる工程。
<触媒調製>
硝酸ニッケル6水和物Ni(NO3)2・6H2O 305.0g、硝酸銅3水和物Cu(NO3)2・3H2O 6.5gおよび硝酸クロム9水和物Cr(NO3)3・9H2O 7.1gを40℃の純水1kgに溶解し、さらに珪藻土29.6gをこの水溶液に懸濁させながら40℃で撹拌した。この溶液に、炭酸ナトリウムNa2CO3 128.6gを40℃の純水1kgに溶解した水溶液をよく撹拌しながら注加して沈殿スラリーを調製した。このスラリーを80℃まで昇温し、30分同温度で保持する。こうして得られた沈殿スラリーを濾過洗浄し、沈殿物を得た。この沈殿物を110℃で1晩乾燥し、380℃18時間空気雰囲気下で焼成した。この焼成粉に3重量%グラファイトを混合し、3.0mmφ×2.5mmに打錠成形した。この成型品を水素気流中400℃で還元した。還元後の成型品を希薄酸素ガス(酸素/窒素=1/99(体積比))流通下、室温〜40℃以下の温度で一晩酸化処理して安定化させた。さらに成形品を破砕して12〜28meshに粒度を揃えた破砕触媒を得た。これを触媒Aとした。
触媒A10gを管状反応管(内径10mm、充填高さ130mm)に充填した。触媒を水素気流下200℃で還元して活性化させた後、イソフタロニトリル(IPNと称す)、メタキシレン(MXと称す)、アンモニア(NH3と称す)の混合液で、組成がIPN:MX:NH3=6:54:40(重量比)である水素化原料液を、32g/hの速度で反応管上方から供給し、反応圧力7MPaで20Nl/hの水素ガスを圧入して55℃で水素化反応を行った。得られた反応器出口液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は91.6mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1mol%であった。上記収率を維持するように温度のみを上昇させて反応を継続したところ、24日目に触媒層の入口と出口の差圧が0.5MPaに上昇したので水素化原料液および水素ガスの供給を停止して反応を中断した。
触媒層を室温まで冷却後、反応器の圧力を常圧とした後、触媒層に5NL/hの水素を流通させた。触媒層を150℃まで加熱して2時間水素の流通を継続した(平均温度150℃で2時間処理)。次いで、4℃/minの速度で触媒層の温度を260℃まで加熱し、40時間水素流通を継続した後、触媒層を室温まで冷却した。
再生後の水素化反応を上述の同じ条件で再開した。反応温度55℃において、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は90.9mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1mol%であり、新触媒とほぼ同等の成績を示した。触媒層の差圧は0.00MPaであり、差圧は完全に解消された。
<水素化反応試験>
触媒A10gを管状反応管(内径10mm、充填高さ130mm)に充填した。触媒を水素気流下200℃で還元して活性化させた後、イソフタロニトリル(IPNと称す)、メタキシレン(MXと称す)、アンモニア(NH3と称す)の混合液で、組成がIPN:MX:NH3=6:54:40(重量比)である水素化原料液を、32g/hの速度で反応管上方から供給し、反応圧力7MPaで20Nl/hの水素ガスを圧入して55℃で水素化反応を行った。得られた反応器出口液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は90.9mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1mol%であった。上記収率を維持するように温度のみを上昇させて反応を継続したところ、22日目に触媒層の入口と出口の差圧が0.5MPaに上昇したので水素化原料液および水素ガスの供給を停止して反応を中断した。
触媒層を室温まで冷却後、反応器の圧力を常圧とした後、触媒層に5L/hの水素を流通させた。触媒層を150℃まで加熱して2時間水素の流通を継続した。処理後、触媒層を室温まで冷却した。
再生後の水素化反応を上述の同じ条件で再開した。反応温度55℃において、イソフタロニトリルの転化率は45.1%、メタキシリレンジアミン収率は0.1mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は28.6mol%であった。触媒層の差圧は0.4MPaであった。
<水素化反応試験>
市販の担持ニッケル触媒(Harshaw社製 Ni−3266E、ニッケル含量約50%)0.9Tを管状断熱型反応器(内径0.4m、充填高さ8m)に充填した。触媒を水素気流下200℃で還元して活性化させた後、100Nm3/hの水素ガス、およびIPN:MX:NH3=6:21:73(重量比)なる組成の水素化原料液を、55℃に予熱して1.5T/hの速度で反応管上方から供給し、水素化反応を行った。反応圧力は15MPaとした。得られた反応器出口液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は92mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1%であった。3−シアノベンジルアミンの収率が0.5mol%以下を維持するように原料の予熱温度のみを上昇させて反応を継続したところ、28日目に触媒層の入口と出口の差圧が0.4MPaに上昇したので水素化原料液および水素ガスの供給を停止して反応を中断した。
触媒層を45℃以下まで冷却し、反応器の圧力を常圧とした後、触媒層に10Nm3/hの窒素ガスを供給した。供給する窒素ガスの温度を3時間かけて室温から140℃まで昇温した。窒素ガスの供給を継続したまま、併せて0.1Nm3/hの水素ガスを供給した。0.5℃/minの速度で、供給するガスの温度を2時間かけて200℃まで昇温した。この間の平均温度は170℃であった。引き続き、供給ガスの温度を6時間かけて最終的に340℃にした。供給ガスの温度を340℃に保持したまま、水素ガスの流量を段階的に3Nm3/hまで増加し、窒素ガスの供給量を段階的にゼロまで減少させた。200〜340℃での水素ガス供給時間は15時間であった。水素ガスを供給する際は触媒層の温度を監視した。処理工程を通じて10℃/min以上の急激な発熱は観測されなかった。
再生後の水素化反応を上述の同じ条件で再開した。供給原料温度55℃において、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は91mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1%であり、新触媒とほぼ同等の成績を示した。触媒層の差圧は0.00MPaであり、差圧は完全に解消された。
<水素化反応試験>
市販の担持ニッケル触媒(Harshaw社製 Ni−3266E、ニッケル含量約50%)0.9Tを管状断熱型反応器(内径0.4m、充填高さ8m)に充填した。触媒を水素気流下200℃で還元して活性化させた後、100Nm3/hの水素ガス、およびIPN:MX:NH3=6:21:73(重量比)なる組成の水素化原料液を、55℃に予熱して1.5T/hの速度で反応管上方から供給し、水素化反応を行った。反応圧力は15MPaとした。得られた反応器出口液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は92mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は0.1%であった。3−シアノベンジルアミンの収率が0.5mol%以下を維持するように原料の予熱温度のみを上昇させて反応を継続したところ、31日目に触媒層の入口と出口の差圧が0.4MPaに上昇したので水素化原料液および水素ガスの供給を停止して反応を中断した。
反応器の圧力を常圧とした後、触媒層に280℃に予熱した10Nm3/hの水素ガスを供給した。水素ガスの供給を開始して間もなく、触媒層の上部で急激な温度上昇が観測され、触媒層の温度は最高370℃まで上昇し、制御困難となった。水素を供給している際の触媒の温度の上昇速度がは最大で59℃/minであった。水素ガスの供給を停止し、室温の窒素ガスを触媒層に流通して触媒層を140℃まで冷却した。
再生後の水素化反応を上述の同じ条件で再開した。供給原料温度55℃において、イソフタロニトリルの転化率は100%、メタキシリレンジアミン収率は82mol%、3−シアノベンジルアミンの収率は6%であり、触媒性能の劣化が認められた。
Claims (13)
- ジシアノベンゼンを触媒の存在下、液相で水素化してキシリレンジアミンを製造する方法であって、ジシアノベンゼンの水素化反応に使用されることによって活性が低下した触媒を、以下の(1)および(2)の工程によって再生処理した後に、反応系で触媒として再使用することを特徴とするキシリレンジアミンの製造方法。
(1)前記触媒を、140〜200℃の範囲であり、かつ平均温度が180℃以下の温度において、水素含有ガスに1時間以上接触させる工程。
(2)前記接触処理した触媒を、さらに、200〜500℃の範囲の温度で水素含有ガスに接触させる工程。 - 前記工程(1)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下であることを特徴とする請求項1に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(1)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下となるように水素含有ガス供給速度を制御することを特徴とする請求項2に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(1)において、前記水素含有ガス供給速度が、0℃、1気圧の標準状態で、触媒1kgあたり0.001〜1000L/hであることを特徴とする請求項3に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(2)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下であることを特徴とする請求項1に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(2)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下となるように水素含有ガス供給速度を制御することを特徴とする請求項5に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(2)において、前記水素含有ガス供給速度が、0℃、1気圧の標準状態で、触媒1kgあたり0.001〜1000L/hであることを特徴とする請求項6に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(1)および(2)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下であることを特徴とする請求項1に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(1)および(2)において、触媒温度の上昇速度が40℃/min以下となるように水素含有ガス供給速度を制御することを特徴とする請求項8に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 前記工程(1)および(2)において、前記水素含有ガス供給速度が、0℃、1気圧の標準状態で、触媒1kgあたり0.001〜1000L/hであることを特徴とする請求項9に記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- ジシアノベンゼンの水素化を固定床反応器で行うことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 触媒がニッケルおよび/またはコバルト含有触媒であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のキシリレンジアミンの製造方法。
- 触媒がニッケル含有触媒であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のキシリレンジアミンの製造方法。
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