JP4728472B2 - 磁性部品およびその製造方法 - Google Patents

磁性部品およびその製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はスナバー回路、スイッチング電源に使用されるインダクタンス素子、遅延素子等の磁性部品およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
インダクタンス素子は各種の電気回路に用いられている。例えば、RCC方式などのスイッチング電源においては、スイッチング素子であるMOS−FETのゲート信号を遅らせる電流遅延素子として、インダクタンス素子(可飽和インダクタ)が用いられている。この電流遅延素子は、スナバーコンデンサを共振コンデンサとして機能させ、MOS−FETをゼロボルトスイッチングさせるものである。
【0003】
従来のインダクタンス素子としては、例えば軟磁性合金薄帯を巻回または積層して形成したトロイダルコアを有するものが主として用いられている。このようなインダクタンス素子を上記したような電流遅延素子に適用する場合には、閉磁路構造のトロイダルコアに、被覆されたワイヤーを複数回巻くことによって、所定の特性を得ている。
【0004】
トロイダルコアを有するインダクタンス素子は、その閉磁路構造に基づいてインダクタンスを得る上では有利である。しかしながら、軟磁性合金薄帯により構成されたトロイダルコアでは、フェライト焼結体からなる焼結コアのように、予め絶縁ボビンにワイヤーを巻いておき、これに分割した焼結コアをつき合せて閉磁路を形成するという構成を、容易に適用することができない。
【0005】
このようなことから、従来の軟磁性合金薄帯により構成されたトロイダルコアを用いる場合には、トロイダルコアに直接巻線を施してインダクタンス素子を構成することが一般的である。しかしながら、このような構造ではトロイダルコアへの巻線の作業効率が低く、さらに巻線工程を自動化することに難がある。これらによって、インダクタンクス素子の製造コストの増大を招いている。
【0006】
このような課題に対して、近年では、巻線の作業効率の向上、巻線の自動化を図るため、ボビンに巻線を施した後、このボビン内に軟磁性薄帯等を配置する構造のインダクタンス素子が提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ボビンに巻線をした後、ボビン内に軟磁性薄帯等を配置する構造の場合、巻線と磁性体との密着性が損なわれるため残留インダクタの増大や大型化する傾向があった。
【0008】
このような課題を解決する方法として、特開平11−233346には、繊維状の磁心にボビンを用いずに直接電線を巻き付ける方法が示されている。しかしながら、金属繊維に直接巻線を施した場合、巻線レアショートや絶縁不良を起こす可能性がある。特に、磁気特性向上のために熱処理等を施した磁性体は脆性破壊しやすい等の問題があり、取り扱いが難しく実用的ではなかった。
【0009】
本発明は上記した課題を解決するためになされたものであって、巻線作業の効率に優れ、かつ特性に優れた磁性部品およびその製造方法を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁性部品は、厚さが4μm以上50μm以下の単層の磁性薄帯と、前記磁性薄帯の主面及び裏面を覆う厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体とを有し、前記絶縁体が熱圧着により前記磁性薄帯と一体化された磁心と、前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻いてなるコイル部とを具備するものであって、前記コイル部は長さ10mmあたりの巻数(N)が20以上500以下であることを特徴とするものである。
【0011】
本発明の磁性部品は、磁性薄帯を絶縁体で覆うことで磁性薄帯の損傷を抑制することができる。また、磁性薄帯が絶縁体で覆われているので、ボビン等を用いずなくても済むと共に、磁性薄帯と巻線との間隔を極めて短くすることができ特性を向上させることができる。
【0012】
また、本発明の磁性部品は、中空部を有する環状とされた厚さが4μm以上50μm以下の単層の磁性薄帯と、前記磁性薄帯の主面及び裏面を覆う厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体とを有し、前記絶縁体が熱圧着により前記磁性薄帯と一体化された磁心と、前記磁心の中空部を通過するように被覆導線を少なくとも1回以上巻いてなるコイル部とを具備するものであって、前記コイル部は長さ10mmあたりの巻数(N)が20以上500以下であることを特徴とするものである。
【0013】
本発明の磁性部品では、磁性薄帯を閉磁路構造とすることで、上記した効果に加えて、さらに磁気特性を向上させ可飽和性を得ることができる。
【0014】
前記磁心において、前記絶縁体の短辺側の長さに対する前記磁性薄帯の短辺側の長さの比が0.7以上1.3以下とすることが好ましい
【0015】
前記磁性薄帯は、例えば磁気特性に優れるアモルファス磁性体であることが好ましい。
【0016】
本発明の磁性部品は、絶縁性確保や損傷防止のため、少なくともコイル部が絶縁性材料により覆われていることが好ましい。
【0018】
さらに、前記コイルの巻数(N)と前記磁性薄帯の厚さ(t(単位:μm))との比(N/t)が1以上100以下であればより好ましい。
【0019】
本発明の磁性部品の製造方法は、単層の磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻くことによりコイル部を作製する工程とを具備するものである。
【0020】
本発明の磁性部品の製造方法では、磁性薄帯の主面及び裏面を絶縁体で覆うことで、直接巻線を施すことが可能になる。従って、巻線と磁性薄帯との間隔を極めて少なくすることができ、特性を向上させることが可能になる。
【0021】
上記した製造方法のより好ましいものとしては、単層の磁性薄帯の両端部が主面または裏面のいずれかで露出するように前記磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻くことによりコイル部を作製する工程と、前記磁心を前記コイル部の一部を内包するように環状に形成し、前記磁性薄帯の両端部を磁気的に接合する工程とを具備するものである。
【0022】
このように、巻線を施した後に閉磁路構造とすることで、巻線作業を容易にするばかりでなく、特性を向上させることが可能になる。
【0023】
また、本発明の磁性部品の他の製造方法は、被覆導線を少なくとも1回以上巻回して中空部を有する一体化されたコイル部を作製する工程と、単層の磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、前記コイル部の中空部に前記磁心を挿入し、固定する工程とを具備するものである。
【0024】
本発明は、磁性薄帯の主面及び裏面を絶縁体で覆うことにより、上記したようにコイル部と磁心とを別々に作製することが可能となる。従って、磁性部品の作製をより簡単に行うことが可能となる。
【0025】
上記した製造方法のより好ましいものとしては、被覆導線を少なくとも1回以上巻回して中空部を有する一体化されたコイル部を作製する工程と、単層の磁性薄帯の両端部が主面または裏面のいずれかで露出するように前記磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、前記磁心の一部を前記コイル部の中空部に挿入した後、前記コイル部の一部を内包するように前記磁心を環状に形成し、前記磁性薄帯の両端部を磁気的に接合する工程とを具備するものである。このようにすることで、上記した効果に加えて、さらに特性の向上が可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0027】
図1は、本発明の磁性部品の一例を示した平面図である。
【0028】
本発明の磁性部品1における磁心2は磁性薄帯3の主面と裏面とを絶縁体で覆うことにより形成されている。この磁心2の下部の絶縁体部分にはリード4が固定されている。磁心2の磁性薄帯3が存在する部分には、絶縁体の上から巻線5が少なくとも1回以上巻回されてコイル部が形成されている。巻線5の両端部分は、磁心2の下部に設けられたリード4にそれぞれ電気的に接続されている。
【0029】
本発明の磁性部品1では、磁性薄帯3の主面と裏面とを絶縁体で覆うことにより、損傷しやすい磁性薄帯3の保護が可能となる。また、磁性薄帯3が絶縁体で覆われているため、磁心2の上に直接巻線を施すことができる。
【0030】
従って、従来のような巻線を行うためのボビン等が必要なくなり、磁性部品の軽量化、小型化を図ることができる。また、ボビン等を用いずに磁心2の上に直接巻線を施すことができるため、巻線5と磁性薄帯3との距離を近づけることにより磁気特性を向上させることや、巻線5の巻数1回当たりの長さを短くすることによりコイル部の直流抵抗の低減も可能となる。
【0031】
図2は本発明における磁心2の一部を示した平面図である。ここで、WAは磁性薄帯3の短辺側の幅を示し、WBは絶縁体6の短辺側の幅を示す。
【0032】
本発明においては、磁性薄帯3の短辺側の幅(WA)と絶縁体6の短辺側の幅(WB)とが大きく異ならないことが好ましい。磁性薄帯3の幅が絶縁体6の幅よりも極端に長い場合には、磁性薄帯3が絶縁体6から大きくはみ出してしまい、巻線等により磁性薄帯3が傷ついてしまうおそれがある。磁性薄帯3の幅は絶縁体6の幅と同じ程度であれば特に制限されるものではないが、磁性薄帯3を覆わない絶縁体部分が多すぎる場合には強度等の改善が見られないばかりでなく、巻線の長さが増加することによりコイル部の直流抵抗が増すおそれがあるため、絶縁体6の短辺側の幅に対する磁性薄帯3の短辺側の幅の比が0.7以上1.3以下(つまり、0.7≦WA/WB≦1.3)、さらには0.8以上1.0以下(つまり、0.8≦WA/WB≦1.0)であることが好ましい。
【0033】
図3は本発明における磁心2の一部を示した断面図である。ここで、HAは磁性薄帯3の厚さを示し、HBは絶縁体6の厚さを示す。
【0034】
磁性薄帯3の厚さ(HA)は4〜50μmとすることが好ましい。磁性薄帯3の厚さが4μmの場合、損傷しやすくなると共に、所定の磁気特性を得にくくなる。また、50μmを越える場合には、例えば環状に変形させて用いる際に亀裂等が生じるおそれがある。
【0035】
絶縁体6の厚さ(HB)は耐久性や加工性の点から、20μm〜0.2mmとすることが好ましい。20μm未満の場合には、所定の強度を得ることができず巻線等により損傷してしまうおそれがある。0.2mmを越える場合には、例えば折り曲げるような加工が困難となるおそれがある。また、巻線とコイル部の距離が大きくなり密着性が悪くなることから、残留インダクタの増大を招くおそれもある。
【0036】
以上、本発明の磁性部品を開磁路構造とした場合について説明したが、本発明の磁性部品は閉磁路構造とすることも可能である。
【0037】
次に、本発明の磁性部品を閉磁路構造とする場合について説明する。
【0038】
図4は閉磁路構造を有する磁性部品に用いられる磁心2を示した平面図である。また、図5(a)は閉磁路構造の磁性部品を示した平面図、図5(b)は同磁性部品の側面図である。
【0039】
磁心2は磁性薄帯3の主面および裏面が絶縁体6により覆われている。なお、閉磁路構造を形成するため、磁性薄帯3の主面側に貼り合わせる絶縁体6について、磁性薄帯3の両端部に位置する部分を開口部とし、磁性薄帯3が露出するようにした(以下、この部分を露出部7とする)。また、閉磁路構造を形成するため磁性薄帯3およびそれを覆う絶縁体6の長さは、開磁路構造に比べて長いものとした。
【0040】
磁心2には、例えば磁性薄帯3の長さ方向の中央部8より下側(リード4側)に巻線5がなされる。この巻線5を内包するように、磁性薄帯3の長さ方向の中央部8で磁心2は折り曲げられる。折り曲げられた磁心2は、磁性薄帯3の露出部7同士が対向配置するため、この部分を磁気的に接合する。得られた磁性部品1の形状は図5に示すようなものとなる。
【0041】
図4に示される磁心および図5に示される磁性部品は、磁性薄帯の同一面側で接続する場合の一例を示したものであるが、例えば磁性薄帯の主面の一方の端部と、裏面の他方の端部で磁気的に接続する構造としてもよい。
【0042】
磁性部品を閉磁路構造とした場合においても、磁性薄帯の短辺側の幅(WA)と絶縁体の短辺側の幅(WB)との関係や、磁性薄帯の厚さ(HA)や絶縁体の厚さ(HB)は、開磁路構造の場合と何ら異なるものではない。
【0043】
本発明の磁性部品を閉磁路構造とすることで、前記開磁路構造の磁性部品と同様の効果が得られる他に、閉磁路構造による磁気特性の向上が可能になる。また、本発明の閉磁路構造を有する磁性部品は、巻線を行った後に閉磁路構造とするため巻線作業を自動化することができ、製造効率に優れるものである。
【0044】
次に、本発明の磁性部品の製造方法として、閉磁路構造の磁性部品を例に挙げてを説明する。
【0045】
磁性薄帯として、液体急冷法等により作製されるCo系非晶質合金からなる長方形状の磁性薄帯を用意する。磁性薄帯は、所定の磁気特性を得るために、磁場をかけながら熱処理を施されたものであってもよい。また、磁性薄帯の長さは閉磁路構造を形成するのに十分な長さとする。
【0046】
次に、2枚のPET系樹脂フィルム等を所定形状、厚さに加工する。なお、一方のPET系樹脂フィルムには、磁性薄帯同士を接続して閉磁路構造を形成するために、磁性薄帯を露出させる開口部を2つ形成しておく。
【0047】
前記磁性薄帯に上記PET系樹脂フィルムを両面から貼り合わせ、さらに熱処理により磁性薄帯およびPET系樹脂フィルムを密着一体化させて磁心を作製する。この磁心の下部には、例えば半田メッキがなされたリードを2本接合する。得られた磁心は、例えば図4のような構造となる。
【0048】
さらに、磁性薄帯の中央部からリード側の部分にかけて被覆導線を所定回数巻いた後、この被覆導線の両端部をリードに電気的に接続する。この後、磁心を磁性薄帯の中央部で、前記PET系樹脂フィルムの2つの開口部が対向するように折り曲げて、開口部に露出していた磁性薄帯同士を磁気的に接続して磁性部品を得る。得られた磁性部品は図5のような構造となる。
【0049】
上記製造方法では、磁心に直接被覆導線を巻回する製造方法について述べたが、本発明の製造方法ではコイル部と磁心部を別々に作製し、その後一体化することも可能である。以下、その方法について図6を参照して説明する。
【0050】
磁性薄帯として、液体急冷法等により作製されるCo系非晶質合金からなる長方形状の磁性薄帯を用意する。この磁性薄帯の両面に、所定形状、厚さに加工されたPET系樹脂フィルム貼り合わせ、熱処理により磁性薄帯およびPET系樹脂フィルムを密着一体化させて図6に示されるような磁心2を作製する。
【0051】
一方、コイル部を形成する被覆導線として、自己粘着性被覆導線を用意する。自己粘着性被覆導線としては、例えばポリエステル系樹脂からなり、100〜130℃程度で融着するものを用いることができる。この被覆導線を角形形状の長方形巻芯等に巻回した後、巻芯を取り外しソレノイド状のコイル部9を作製する。
【0052】
このコイル部9の中空部に前記磁心2を挿入配置する。その後、これら磁心とコイル部とを熱処理し、これらを密着一体化させて図7に示されるような磁性部品1を得ることができる。
【0053】
磁心に直接巻線を行う場合には磁心が変形するおそれがあるが、このような方法によれば、磁心の変形を抑制でき、巻線作業が容易となる。
【0054】
上記製造方法では、自己粘着性被覆導線として熱により融着するものを挙げたが、その他にアルコール等の溶剤により融着するもの等も用いることが可能である。
【0055】
また、同様の方法を用いて閉磁路構造の磁性部品を作製することもできる。以下、閉磁路構造の場合の作製例について説明する。
【0056】
閉磁路構造とする場合には、例えば図8に示されるような磁心2を用いることが好ましい。ここで、図8(a)は磁心2の平面図、図8(b)は磁心2の断面図である。磁心2は磁性薄帯3の主面および裏面を絶縁体6で覆ったものであるが、磁性薄帯3の主面の一方の端部(露出部10)と裏面の他方の端部(露出部11)には絶縁体が形成されないようにする。
【0057】
この磁心2を、開磁路構造の場合と同様に作製されたコイル部9の中空部に挿入する。挿入後、磁心2の両端部を同一方向に折り曲げて、前記磁性薄帯の露出部10と露出部11が重なり合うようにして磁気的に接続する。その後、これら磁心2とコイル部9とを熱処理して密着一体化する。
【0058】
このような方法を採ることで、閉磁路構造の磁性部品を容易に作製することができる。また、閉磁路型構造とすることで、さらに磁気特性に優れた磁性部品とすることができる。本作製例では磁性薄帯の主面の一端部と裏面の他端部を磁気的に接続する構造としたが、例えば磁性薄帯の主面の両端部を磁気的に接続することも可能である。また、必要に応じて絶縁ケースに収納して使用してもよい。
【0059】
本発明における磁性薄帯には、例えば結晶質軟磁性合金、非晶質軟磁性合金、微結晶構造を有する軟磁性合金(以下、微結晶軟磁性合金と記す)などの種々の軟磁性材料を適用することができる。これらのうち、本発明においては特に非晶質軟磁性合金や微結晶軟磁性合金を用いることが好ましい。
【0060】
結晶質軟磁性合金としては、例えばパーマロイ合金が挙げられる。具体的には、Niを55〜85質量%、Moを7質量%以下、Cuを2〜27質量%含み、残部が実質的にFeからなるものが挙げられる。非晶質軟磁性合金としては、例えばCo基非晶質合金、Fe基非晶質合金、Fe−Ni基非晶質合金等が挙げられる。
【0061】
磁性薄帯は、上記した磁性合金を熱間圧延、冷間圧延、液体急冷法等、各材料に特性に適した方法で加工することにより作製される。また、磁気特性の向上のために磁場をかけながら熱処理することにより作製されたものであって構わない。
【0062】
また、本発明において磁性薄帯を被覆する絶縁体としては、各種の絶縁材料を用いることができる。絶縁体として特に好ましいものとしては、例えばPET系樹脂等が挙げられる。また、被覆方法としては、液体状態の樹脂を磁性薄帯に塗布する方法や、樹脂フィルムを磁性薄帯に貼り合わせ熱処理により密着する方法等が挙げられる。
【0063】
本発明のインダクタンス素子においては、コイルの構成は特に限定されるものではないが、好ましくは前記コイルは長さ10mmあたりの巻数(N)が20以上500以下であり、前記磁性薄帯は厚さが4μm以上50μm以下の単数または複数層からなるものであり、前記コイルの巻数(N)と前記磁性薄帯の総数(n)との比(N/n)が20以上500以下とするのがよい。
【0064】
長さ10mmあたりの巻数(N)が20未満であると、コアを構成する断面積が非常に小さい磁性薄帯をコアとして用いた場合に、十分なインダクタンス特性を得ることができないおそれがある。一方、長さ10mmあたりの巻数(N)が500を超えると、巻線の密度が大きくなりすぎて、巻線間の浮遊容量が増大してインダクタンス特性が低下してしまうおそれがある。
【0065】
また、磁性薄帯は厚さが50μmを超えると渦電流損などが増大して、特に高周波域での損失が増大するおそれがある。一方、磁性薄帯の厚さを4μm未満とすると製造性が低下し、表面の平滑性が劣化したり、またピンホールなどが増えるおそれがある。磁性薄帯のより好ましい厚さは、10μm以上30μm以下である。
【0066】
磁性薄帯は単層でも十分に効果を得られるが、複数層の磁性薄帯を積層して用いることも可能である。複数層の磁性薄帯を用いる場合、個々の磁性薄帯の形状は上記した数値の範囲内とする。
【0067】
そして、本発明のインダクタンス素子において、コイルの長さ10mmあたりの巻数(N)と磁性薄帯の積層数(n)との比(N/n)を20以上500以下とすることで、厚さ4μm以上50μm以下というような磁性薄帯を例えば単層で用いた場合においても、十分なインダクタンス特性を得ることが可能となる。
【0068】
また、上記したN/n比に加えて、コイルの長さ10mmあたりの巻数(N)と磁性薄帯の厚さ(t:μm)との比(N/t)を1以上100[/μm]以下とすることが好ましい。
【0069】
このような関係を満足させることによって、より良好なインダクタンス特性を得ることが可能となる。なお、複数層の磁性薄帯を積層して用いる場合、厚さ(t)は複数層の合計板厚とする。
【0070】
N/t比が1[/μm]未満であると、断面積が小さい磁性薄帯をコアとする本発明のインダクタンス素子では、十分なインダクタンス特性を確保することが難しい。一方、N/t比が100[/μm]を超えると、巻線の密度が大きくなって重ね巻きが必要となり、巻線間の浮遊容量が増すために、素子のインダクタンスが低下してしまう。N/t比のより好ましい範囲は、3以上20[/μm]以下である。
【0071】
【実施例】
以下、本発明の実施の形態について実施例を参照して説明する。
【0072】
実施例1、比較例1、2
実施例1
磁性薄帯としてCo系アモルファス合金からなる長さ25mm、幅6mm、厚さ16μmの合金薄帯を用いた。この合金薄帯の主面および裏面に、長さ26mm、幅7mm、厚さ50μmのポリエステル系の絶縁フィルムを貼り付け、熱圧着により一体化し磁心を作製した。
【0073】
一方、直径0.1mmの自己融着性エナメル線を7mm×0.4mm内口の長方形巻芯に150ターン(コイルの長さ10mm)巻回し、ソレノイドコイルを得た。
【0074】
このソレノイドコイル内に前記磁心を配置し、巻芯を抜き取り磁心と巻線とを密着させて、120℃で熱処理することにより磁性部品を作製した。
【0075】
比較例1
直径0.1mmの自己融着性エナメル線を7mm×0.4mm内口の長方形巻芯に150ターン(コイルの長さ10mm)巻回し、ソレノイドコイルを得た。
【0076】
次に、実施例1と同組成、同形状の磁性薄帯を用意し、これを絶縁体を設けないで前記ソレノイドコイル内に配置した後、巻芯を抜き取り磁心と巻線とを密着させて、120℃で熱処理することにより磁性部品を作製した。
【0077】
比較例2
直径0.1mmの自己融着性エナメル線を7mm×0.4mm内口の液晶樹脂からなる長方形巻芯に150ターン(コイルの長さ10mm)巻回し、ソレノイドコイルを得た。
【0078】
さらに、実施例1と同組成、同形状の磁性薄帯を用意し、これを絶縁体を設けないで前記ソレノイドコイル内に配置した後、長方形巻芯の挿入口を閉じて磁性部品を作製した。
【0079】
次に、これら実施例1、比較例1、2の磁性部品について、それぞれ100個ずつ、初期インダクタンス、残留インダクタンス、直流抵抗値および絶縁性を測定し、その平均値を表1に示した。なお、インダクタンスの評価は、50kHz、0.01Vの条件で行い、残留インダクタは直流電流50mAを流したときのインダクタンスを測定することにより対応した。直流抵抗は直流抵抗計にて測定した。また、絶縁性は特に絶縁性が優れているものを◎で表し、実用上十分な絶縁性を持つものを○で表し、実用上問題のあるものを×で表した。
【0080】
【表1】
Figure 0004728472
比較例1では、磁性薄帯に絶縁体等を形成していないため、巻線を行う際に磁性薄帯が損傷してしまい、事実上磁性部品を構成することはできなかった。
【0081】
磁性薄帯に絶縁フィルムを形成した実施例1は、巻芯を使用した比較例2に比べて初期インダクタンスが向上し、かつ残留インダクタンスやコイルの直流抵抗も大幅に低減させることができた。実施例1において直流抵抗を大幅に低減させることが可能となったのは、絶縁フィルムを用いて磁性薄帯を保護しているため、磁性薄帯にじかに巻線を施すことができ、1ターン当たりの巻線の長さを短くすることができたためである。また、実施例1では巻線と磁性薄帯の間に薄い絶縁体フィルムのみしか存在せず、比較例2のように巻線と磁性薄帯との距離がひらくのを抑制できるためインダクタンスが向上し残留インダクタンスが減少したものである。
【0082】
実施例2〜6、比較例3、4
実施例2〜6
磁性薄帯としてCo系アモルファス合金からなる長さ23mm、幅6mm、厚さ16μmの合金薄帯を用いた。この合金薄帯の主面および裏面に長さ24mm、幅7mm、厚さ70μmのポリエステル系の絶縁フィルムを貼り付け、熱圧着により一体化し磁心を作製した。なお、磁性薄帯の主面の両端部には、絶縁フィルムが形成されないようにし、磁性薄帯が露出する構造とした。また、下部にスズメッキした0.6mm角のリードを2本取り付けた。
【0083】
この磁心に直径0.1mmのウレタン線を50ターン(実施例2)、100ターン(実施例3)、200ターン(実施例4)施し、ウレタン線の両端部を前記リードに接続しコイル部を形成した。
【0084】
さらに、磁心を折り曲げ、磁性薄帯両端部の露出した部分同士を磁気的に接合し、図5に示されるような閉磁路構造を有する磁性部品を作製した。
【0085】
実施例5
磁性薄帯としてCo系アモルファス合金からなる長さ69mm、幅6mm、厚さ16μmの合金薄帯を用いた。この合金薄帯の主面および裏面にポリエステル系の絶縁フィルムを貼り付け、熱圧着により一体化し磁心を作製した。また、下部にはスズメッキした0.6mm角のリードを2本取り付けた。
【0086】
この磁心に直径0.1mmのウレタン線を100ターン施し、ウレタン線の両端部を前記リードに接続しコイル部を形成し、平均磁路長64mmの開磁路構造を有する磁性部品を作製した。
【0087】
実施例6
磁性薄帯としてCo系アモルファス合金からなる長さ106mmの合金薄帯を用いた以外は実施例5と同様とし、平均磁路長101mmの開磁路構造を有する磁性部品を作製した。
【0088】
比較例3
Co系アモルファス合金からなる磁性薄帯を47回巻回して、外径4mm、内径2mm、高さ6mmのトロイダルコアを作製した。
【0089】
このトロイダルコアを絶縁樹脂ケースに収納し、さらに直径0.1mmのウレタン線を6ターン施し、閉磁路構造を有する磁性部品を作製した。
【0090】
次に、これらの磁性部品をスイッチング電源の遅延素子として用い、評価を行った。電源は自励フライバック方式電源を使用し、スイッチング素子のゲート部に直列に挿入して、そのノイズ低減を確認した。入力は140VDC、負荷条件は24V、1Aとした。また、初期インダクタンスの測定は実施例1と同様の方法を用いた。結果を表2に示す。なお、磁性部品を用いなかった場合を比較例4として併せて表2に示す。
【0091】
【表2】
Figure 0004728472
本発明の実施例では、いずれも従来品である比較例3と同程度の初期インダクタンス、効率を有していることが分かった。特に、巻線のターン数を多くした実施例4では、初期インダクタンス、効率において、従来品である比較例3よりも優れたものであることが分かった。
【0092】
また、サージ電流についても、磁性部品を用いなかった比較例4と比較して大幅なサージ電流抑制効果が見られることが分かった。
【0093】
【発明の効果】
本発明の磁性部品は、磁性薄帯の主面及び裏面を絶縁体で覆うことにより、損傷しやすい磁性薄帯の保護が可能となり、さらに直に巻線を行うことができるため巻線作業が容易になるとともに、磁気特性の向上も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】開磁路構造を有する本発明の磁性部品を示した平面図。
【図2】本発明の磁性部品に用いられる磁心の一部を示した平面図。
【図3】本発明の磁性部品に用いられる磁心の一部を示した断面図。
【図4】閉磁路構造を有する本発明の磁性部品に用いられる磁心を示した平面図。
【図5】閉磁路構造を有する本発明の磁性部品を示した平面図およぼ側面図。
【図6】本発明の磁性部品の作製例を示した概略図。
【図7】開磁路構造を有する本発明の磁性部品の他の例を示した平面図。
【図8】閉磁路構造を作製するための磁心を示した平面図および断面図。
【図9】閉磁路構造を有する本発明の磁性部品の他の例を示した平面図。
【符号の説明】
1……磁性部品
2……磁心
3……磁性薄帯
5……巻線
6……絶縁体

Claims (10)

  1. 厚さが4μm以上50μm以下の単層の磁性薄帯と、前記磁性薄帯の主面及び裏面を覆う厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体とを有し、前記絶縁体が熱圧着により前記磁性薄帯と一体化された磁心と、
    前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻いてなるコイル部と
    を具備する磁性部品であって、
    前記コイル部は長さ10mmあたりの巻数(N)が20以上500以下であることを特徴とする磁性部品。
  2. 中空部を有する環状とされた厚さが4μm以上50μm以下の単層の磁性薄帯と、前記磁性薄帯の主面及び裏面を覆う厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体とを有し、前記絶縁体が熱圧着により前記磁性薄帯と一体化された磁心と、
    前記磁心の中空部を通過するように被覆導線を少なくとも1回以上巻いてなるコイル部と
    を具備する磁性部品であって、
    前記コイル部は長さ10mmあたりの巻数(N)が20以上500以下であることを特徴とする磁性部品。
  3. 前記磁心は、前記絶縁体の短辺側の長さに対する前記磁性薄帯の短辺側の長さの比が0.7以上1.3以下であることを特徴とする請求項1または2記載の磁性部品。
  4. 前記磁性薄帯はアモルファス磁性体であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の磁性部品。
  5. 前記磁性部品の少なくともコイル部が絶縁性材料により覆われていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の磁性部品。
  6. 前記コイルの巻数(N)と前記磁性薄帯の厚さ(t(単位:μm))との比(N/t)が1以上100以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の磁性部品。
  7. 単層の磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、
    前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻くことによりコイル部を作製する工程と
    を具備することを特徴とする磁性部品の製造方法。
  8. 単層の磁性薄帯の両端部が主面または裏面のいずれかで露出するように前記磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、
    前記磁心に被覆導線を少なくとも1回以上巻くことによりコイル部を作製する工程と、
    前記磁心を前記コイル部の一部を内包するように環状に形成し、前記磁性薄帯の両端部を磁気的に接合する工程と
    を具備することを特徴とする磁性部品の製造方法。
  9. 被覆導線を少なくとも1回以上巻回して中空部を有する一体化されたコイル部を作製する工程と、
    単層の磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、
    前記コイル部の中空部に前記磁心を挿入し、固定する工程と
    を具備することを特徴とする磁性部品の製造方法。
  10. 被覆導線を少なくとも1回以上巻回して中空部を有する一体化されたコイル部を作製する工程と、
    単層の磁性薄帯の両端部が主面または裏面のいずれかで露出するように前記磁性薄帯の主面及び裏面を厚さ20μm以上0.2mm以下の樹脂フィルムからなる絶縁体で覆い、熱圧着により一体化して磁心を作製する工程と、
    前記磁心の一部を前記コイル部の中空部に挿入した後、前記コイル部の一部を内包するように前記磁心を環状に形成し、前記磁性薄帯の両端部を磁気的に接合する工程と
    を具備することを特徴とする磁性部品の製造方法。
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