JP4713250B2 - 半導体素子および半導体素子の製造方法 - Google Patents
半導体素子および半導体素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4713250B2 JP4713250B2 JP2005193616A JP2005193616A JP4713250B2 JP 4713250 B2 JP4713250 B2 JP 4713250B2 JP 2005193616 A JP2005193616 A JP 2005193616A JP 2005193616 A JP2005193616 A JP 2005193616A JP 4713250 B2 JP4713250 B2 JP 4713250B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- mold resin
- lead
- laser diode
- semiconductor element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
また、特開平4−280487号公報には、フレームを曲げて凹部を形成する技術が記載されている。
また、意匠登録1236059においては、フレームの厚さを半導体チップ搭載部のみ厚くすることで、裏面にフレームの一部を露出させようとしている。
また、特開平4−280487号については、このような半導体素子を取り付ける場合、フレーム表面(サブマウント界面側)を基準面として取り付ける場合が多いが、この手法ではこの面からの放熱が利用できない。
また、意匠登録123605号については、通常のリードフレームは圧延によって薄く加工されるため、モールド樹脂が入り込むほどの大きな段差を設けることは困難であり、できたとしてもコストのかかる工程を経る必要があった。
また、複数のワイヤボンドの少なくとも一部に入り込む形で、仕切り部分をモールド部分に形成することにより、衝撃や接触によるワイヤボンド変形時の電気的な短絡を防止することが可能となる。
また、フレームのリード部分がレーザダイオードチップ搭載部に対して段差を有し、モールド樹脂がフレームのレーザダイオードチップ搭載部裏面よりも突出しないことにより、機器搭載時に機器筐体やヒートスプレッダに対する密着度が増し、フレーム裏面からの放熱が容易になる。
図1は、この発明を実施するための実施の形態1による半導体素子を説明するための模式図で、図1(a)は俯瞰図、(b)は上面図、(c)、(d)は前面図である。
0.25mm厚のCu製リードフレーム101には中央リードと、電気的に独立した左右のリードが形成されている。中央リードに繋がった部分に、サブマウント107(AlN製、0.6mm×1.5mm×0.25mm)に搭載されたレーザダイオードチップ109(GaAs製、0.2mm×1.5mm×0.1mm)が搭載され、その周囲はモールド樹脂103が形成されており、独立したリード105が固定されている。レーザダイオード109とサブマウント107間はAuSnはんだ(融点280℃)であらかじめ接合され、リードフレーム101に対しては導電性接着剤(Agフィラーを拡散させたアクリル樹脂)が用いられる。また、電気的接続にはワイヤボンド113(Au太さ30μm)が用いられる。フレーム101の前端部分には、幅Wが0.5mm、長さLが0.7mmで間隔Sが0.7mmの2つの突起が金型成形によりダイオードチップ側に折り曲げられ、折り曲げ部111が形成されている。その高さH1はフレーム表面から0.6mmの高さとなっており、モールド樹脂103の高さと同じで、サブマウント107とレーザダイオードチップ109を合わせた高さ0.35mmやAuワイヤボンドループの最大高さ0.5mmよりも大きくなっている。
また、本発明の半導体素子をCD−RやDVD−Rなどのピックアップ装置に使用するような場合には、折り曲げ部111の折り目方向が半導体チップの長辺に対して垂直であることにより、一般的にレーザダイオードチップの長辺に対して平行に流れるメディアの回転風を受けて効率的な空冷が可能となる。
図3は、この発明を実施するための実施の形態2による半導体素子を説明するための模式図である。
図4は、この発明を実施するための実施の形態3による半導体素子を説明するための模式図で、図4(a)は俯瞰図、(b)は上面図である。
実施の形態2に対して、折り曲げ部111が延長されてレーザダイオードチップ109の存在部分にまで伸びている。本実施の形態3においても本実施の形態1と同様、折り曲げ部111のリードフレーム上面からの高さH2は0.6mmとなっている。
図5(a),(b)は、この発明を実施するための実施の形態4による半導体素子を説明するための模式図である。
図6は、この発明を実施するための実施の形態5による半導体素子を説明するための模式図である。
図7は、この発明を実施するための実施の形態6による半導体素子を説明するための模式図で、図7(a)はフレームを示す図、(b)は上面図、(c)は前面図、(d)は下面図である。
また、金型のモールド樹脂の注入孔を、フレームのリード部分に相当する位置を避けて、その部分以外に配置することにより、注入孔付近にできやすい樹脂の不均質でばらつきの大きいボイド(空隙)を原因とする熱伝導の個体差や超音波伝達変化によるワイヤボンド不良を抑制することが可能となる。
また、フレームに形成した開口部を介してモールドの注入を行うことにより、樹脂のフレームに対する密着度を増し、パッケージの外形を縮小することが可能となる。
103 モールド樹脂
105 リード
109 レーザダイオードチップ
111 折り曲げ部
113 ワイヤボンド
115 発光点
511 折り曲げ部
601 突起部
701 レーザダイオードチップ搭載部
703 リード
705 開口部
707 リード裏面露出部
Claims (6)
- 発光半導体チップを、フレームに搭載することによって形成される半導体素子において、
前記フレームの端部の、前記発光半導体チップの発光点に近い部分を折り曲げ、
前記フレームの折り曲げられた部分と前記発光半導体チップは、モールド樹脂から露出し、
前記フレームの折り曲げられた部分は、前記半導体素子の周囲の空気にさらされていることを特徴とする半導体素子。 - 請求項1に記載の半導体素子であって、
前記フレームの折り曲げられた部分の少なくとも一部が、半導体チップの上面よりも高くなるように形成されていることを特徴とする半導体素子。 - 請求項1に記載の半導体素子であって、
前記フレームの折り曲げる方向が前記発光半導体チップの長辺に平行であることを特徴とする半導体素子。 - 請求項1に記載の半導体素子であって、
モールド樹脂が前記発光半導体チップの長辺に平行な部分には配置されていないことを特徴とする半導体素子。 - 請求項1に記載の半導体素子であって、
前記フレームの折り曲げられた部分の少なくとも一部が、前記発光半導体チップの搭載された部位にまで伸びていることを特徴とする半導体素子。 - 請求項1に記載の半導体素子であって、
前記フレームの折り曲げられた部分の少なくとも一部が、モールド樹脂中に食い込んでおり、かつ前記フレームの前端面は前記モールド樹脂から露出していることを特徴とする半導体素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005193616A JP4713250B2 (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | 半導体素子および半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005193616A JP4713250B2 (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | 半導体素子および半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007012979A JP2007012979A (ja) | 2007-01-18 |
JP4713250B2 true JP4713250B2 (ja) | 2011-06-29 |
Family
ID=37751061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005193616A Active JP4713250B2 (ja) | 2005-07-01 | 2005-07-01 | 半導体素子および半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4713250B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5271550B2 (ja) * | 2008-01-18 | 2013-08-21 | ローム株式会社 | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2009200463A (ja) | 2008-01-23 | 2009-09-03 | Panasonic Corp | 半導体装置 |
JP2009238970A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Panasonic Corp | 半導体装置用パッケージと光半導体装置 |
JP2010074142A (ja) | 2008-08-20 | 2010-04-02 | Panasonic Corp | 半導体装置及びそれを用いた電子機器 |
WO2013074122A1 (en) * | 2011-11-18 | 2013-05-23 | Intel Corporation | Thermal management in packaged vcsels |
JP2016058407A (ja) * | 2013-01-31 | 2016-04-21 | パナソニック株式会社 | 半導体レーザ装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04280487A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JPH05129730A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Rohm Co Ltd | モールド型半導体レーザ装置 |
JPH05129731A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Rohm Co Ltd | モールド型半導体レーザ装置の製造方法 |
JPH0677604A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JPH07297479A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Mitsubishi Electric Corp | 光半導体装置およびその製造方法 |
JPH08335657A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Fuji Electric Co Ltd | 樹脂封止半導体装置 |
JPH0992931A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2000228467A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-08-15 | Toshiba Corp | 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置とその製造方法 |
JP2002033544A (ja) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザ装置 |
JP2005116699A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Rohm Co Ltd | 半導体レーザ |
-
2005
- 2005-07-01 JP JP2005193616A patent/JP4713250B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04280487A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JPH05129730A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Rohm Co Ltd | モールド型半導体レーザ装置 |
JPH05129731A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-25 | Rohm Co Ltd | モールド型半導体レーザ装置の製造方法 |
JPH0677604A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JPH07297479A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Mitsubishi Electric Corp | 光半導体装置およびその製造方法 |
JPH08335657A (ja) * | 1995-06-08 | 1996-12-17 | Fuji Electric Co Ltd | 樹脂封止半導体装置 |
JPH0992931A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2000228467A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-08-15 | Toshiba Corp | 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置とその製造方法 |
JP2002033544A (ja) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザ装置 |
JP2005116699A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Rohm Co Ltd | 半導体レーザ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007012979A (ja) | 2007-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4713250B2 (ja) | 半導体素子および半導体素子の製造方法 | |
TW445603B (en) | Resin-sealed semiconductor device having island for mounting semiconductor element coupled to heat spreader | |
WO2002007275A1 (fr) | Dispositif laser a semi-conducteur | |
JP2010524260A (ja) | 光カプラ・パッケージ | |
JP2007521643A (ja) | 受動デバイスを有するリードフレーム | |
JP2007329516A (ja) | 半導体発光装置 | |
JPH09260550A (ja) | 半導体装置 | |
JP2006203052A (ja) | 表面実装型半導体素子 | |
JP4976168B2 (ja) | 発光装置 | |
CN104576565A (zh) | 具有散热体的半导体器件及其组装方法 | |
JP3869575B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP2008130750A (ja) | 半導体装置 | |
EP1339102B1 (en) | Lead frame for a semiconductor device | |
JP2009016794A (ja) | キャップレスパッケージ及びその製造方法 | |
JP5121421B2 (ja) | 光半導体素子用パッケージおよび光半導体装置 | |
JP2001077262A (ja) | 半導体装置 | |
JP2007048937A (ja) | 半導体レーザおよびその製法 | |
JP2017028131A (ja) | パッケージ実装体 | |
US8159835B2 (en) | Laser apparatus | |
US20080303127A1 (en) | Cap-less package and manufacturing method thereof | |
JP4362411B2 (ja) | 半導体レーザ装置およびそれを備えた光ピックアップ装置 | |
JP2007067452A (ja) | 半導体発光装置 | |
JP4389263B2 (ja) | 半導体発光装置の製法 | |
JP2006278401A (ja) | 半導体装置 | |
JP2019186338A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080605 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100623 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110324 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4713250 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |