JP4703222B2 - 印刷版の製版装置 - Google Patents
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Description
F1=F2・(pc/pp)
F1=F2・(pc/pp)
F1=F2・(pc/pp)
ことにより、印刷版の彫刻を実行する。
なお、トップハット部T自体を形成しない場合には、ステップdtおよびプラトーwtにゼロを代入すればよい。
また、これらの図に示す第1変調信号は、粗彫刻のため、AOM25により粗彫刻ビームL2を変調するための信号である。粗彫刻ビームL2は、この第1変調信号によりオン、オフとその強度が変更される。同様に、これらの図に示す第2変調信号は、AOM22により精密彫刻ビームL1を変調するための信号である。精密彫刻ビームL1は、この第2変調信号によりオン、オフとその強度が変更される。
E2=PW2*t2 ・・・ (3)
ただし、E1は精密彫刻ビームL1のエネルギー量、E2は粗彫刻ビーム12のエネルギー量、PW1は精密彫刻ビームL1のビームパワー、PW2は粗彫刻ビームL2のビームパワー、t1は基準面積を走査するのに要する時間、t2は基準面積を走査するのに要する時間である。
また、前記基準面積を粗彫刻画素ピッチpc四方の矩形領域と措くと、E1=vp*spであり、E2=vc*scであるので、さらに、式(4)はさらに式(5)のように書き換えられる。
また、精密彫刻ビームL1のビームパワーPW1と粗彫刻ビームL2のビームパワーPW2との和を総合レーザパワーをpwとする。
また、粗彫刻ビームL2のビームパワーPW2は式(7)のようになる。
なお、精密彫刻時の最大深度dpを式(1)に基づいて算出した場合には、式(6)を以下の式(8)のように変換することができる。ここで、以下の式(8)、(9)において、(2d・α+4・pc・α+d・pc・β)をAとしている。
一方、粗彫刻ビームL2が基準面積である粗彫刻画素ピッチPC四方の矩形領域を走査するのに要する時間t2は以下のようになる。
精密彫刻と粗彫刻とは同期して実行されるのでt1=t2である。従って式(10)と式(11)を以下のように変形して走査速度比が決定される。
次に、粗彫刻ビームL2のビームパワーPW2を以下の式13に代入することにより粗彫刻ビームL2の走査速度v2を決定する(ステップS7−9)。
そして、上記によって決定された走査速度v2を式(12)に適用することで精密彫刻ビームL1の走査速度v1を決定する(ステップS7−10)。
11 記録ドラム
20 記録ヘッド
21 第1レーザ光源
22 AOM
23 AOD
24 第2レーザ光源
25 AOM
26 光学系
27 ビーム合成器
30 記録ヘッド
31 レーザ光源
32 AOM
33 AOD
34 AOM
36 ビーム径変更手段
41 ビームスプリッタ
42 折り返しミラー
43 折り返しミラー
44 合成手段
50 記録ヘッド
51 第1レーザ光源
52 AOM
53 AOD
54 光学系
55 第2レーザ光源
56 光学系
61 レーザドライバ
62 AOMドライバ
63 AODドライバ
64 レーザドライバ
66 AOMドライバ
70 制御部
71 パーソナルコンピュータ
72 回転モータ
73 エンコーダ
74 移動モータ
75 エンコーダ
L1 精密彫刻ビーム
L2 粗彫刻ビーム
d レリーフ深度
dp 最大深度
dc 彫刻深度
pp 精密彫刻画素ピッチ
pc 粗彫刻画素ピッチ
Claims (9)
- その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行うための第1レーザビームを出射する第1照射手段と、
記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うための第2レーザビームを出射する第2照射手段と、
前記第1照射手段から照射される第1レーザビームと前記第2照射手段から照射される第2レーザビームとを前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる第1走査手段と、
前記第1照射手段から照射される第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる第2走査手段と、を備え、
前記第2走査手段による前記第1レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をF1、前記第2レーザビームの変調周波数をF2、前記第1の画素ピッチをpp、前記第2の画素ピッチをpcとしたとき、下記の式を満足することを特徴とする印刷版の製版装置。
F1=F2・(pc/pp) - その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行うための第1レーザビームを出射する第1レーザ光源と、
記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うための第2レーザビームを出射する第2レーザ光源と、
前記第1レーザビームを変調する第1変調手段と、
前記第1変調手段により変調された第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第2レーザ光源より出射された第2レーザビームを変調する第2変調手段と、
前記偏向器により偏向された第1レーザビームと前記第2変調手段により変調された第2レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第1、第2レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第1、第2レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、
を備えたことを特徴とする印刷版の製版装置。 - その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
第1レーザビームを出射する第1レーザ光源と、
第2レーザビームを出射する第2レーザ光源と、
前記第1レーザビームを変調するための第1変調手段と、
前記第1変調手段により変調された第1レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第2レーザビームを変調するための第2変調手段と、
前記偏向器により偏向された第1レーザビームと前記第2変調手段により変調された第2レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第1、第2レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第1、第2レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第1レーザビームは記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行い、
前記第2レーザビームは、記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする印刷版の製版装置。 - その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザビームを、第1レーザビームと第2レーザビームに分割するビームスプリッタと、
前記第1レーザビームまたは前記第2レーザビームの少なくとも一方のビーム径を変更するビーム径変更手段と、
前記第1レーザビームを変調する第1変調手段と、
前記第1変調手段により変調された第1レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記第2レーザビームを変調する第2変調手段と、
前記偏向器により偏向された第1レーザビームと前記第2変調手段により変調された第2レーザビームとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された第1、第2レーザビームを記録材料上に集光させる光学系と、
前記光学系を通過して記録材料上に集光した第1、第2レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第1レーザビームは記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行い、
前記第2レーザビームは、記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させることを特徴とする印刷版の製版装置。 - その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行うための第1レーザビームを出射する第1レーザ光源と、
記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うための第2レーザビームを出射する第2レーザ光源と、
前記第1レーザ光源より出射された第1レーザビームを変調する第1変調手段と、
前記第1変調手段により変調された第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記偏向器により偏向された第1レーザビームを記録材料上に集光させる第1の光学系と、
前記第2レーザ光源より出射された第2レーザビームを変調する第2変調手段と、
前記第2変調手段により変調された第2レーザビームを記録材料上に集光させる第2の光学系と、
前記第1の光学系を通過して記録材料上に集光した第1レーザビームと、前記第2の光学系を通過して記録材料上に集光した第2レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記偏向器による前記第1レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をF1、前記第2変調手段の変調周波数をF2、前記第1の画素ピッチをpp、前記第2の画素ピッチをpcとしたとき、下記の式を満足することを特徴とする印刷版の製版装置。
F1=F2・(pc/pp) - その外周部に記録材料を装着して回転する記録ドラムと、
第1レーザビームを出射する第1レーザ光源と、
第2レーザビームを出射する第2レーザ光源と、
前記第1レーザビームを変調する第1変調手段と、
前記第1変調手段により変調された第1レーザビームを、前記記録ドラムの軸線方向に走査させる偏向器と、
前記偏向器により偏向された第1レーザビームを記録材料上に集光させる第1の光学系と、
前記第2レーザビームを変調する第2変調手段と、
前記第2変調手段により変調された第2レーザビームを記録材料上に集光させる第2の光学系と、
前記第1の光学系を通過して記録材料上に集光した第1レーザビームと、前記第2の光学系を通過して記録材料上に集光した第2レーザビームとを、前記記録ドラムの軸線方向に同期して走査させる走査手段と、を備え、
前記第1レーザビームは記録材料上において第1のビーム径を有し、第1の画素ピッチで記録材料を照射して、第1の深度まで彫刻を行い、
前記第2レーザビームは、記録材料上において前記第1のビーム径より大きい第2のビーム径を有し、前記第1の画素ピッチより大きい第2の画素ピッチで記録材料を照射して、前記第1の深度よりも深い第2の深度まで彫刻を行うとともに、
前記偏向器は、前記第1レーザビームを、記録材料上において前記第2の画素ピッチの範囲内において、前記記録ドラムの軸線方向に走査させ、
前記偏向器による前記第1レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をF1、前記第2変調手段の変調周波数をF2、前記第1の画素ピッチをpp、前記第2の画素ピッチをpcとしたとき、下記の式を満足することを特徴とする印刷版の製版装置。
F1=F2・(pc/pp) - 請求項2乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記第1の変調手段および前記第2の変調手段は、変調器である印刷版の製版装置。 - 請求項2乃至請求項6のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記第1の変調手段は変調器であり、前記第2の変調手段は第2のレーザ光源を制御することにより第2のレーザ光源から変調された第2レーザビームを出射させる手段である印刷版の製版装置。 - 請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の印刷版の製版装置において、
前記偏向器による前記第1レーザビームの前記記録ドラムの軸線方向への走査周波数をF1、前記第2変調手段の変調周波数をF2、前記第1の画素ピッチをpp、前記第2の画素ピッチをpcとしたとき、下記の式を満足する印刷版の製版装置。
F1=F2・(pc/pp)
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