JPH06234086A - レーザ製版装置 - Google Patents
レーザ製版装置Info
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- JPH06234086A JPH06234086A JP5022766A JP2276693A JPH06234086A JP H06234086 A JPH06234086 A JP H06234086A JP 5022766 A JP5022766 A JP 5022766A JP 2276693 A JP2276693 A JP 2276693A JP H06234086 A JPH06234086 A JP H06234086A
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- JP
- Japan
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- plate
- scanning
- line
- laser
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
- B41C1/05—Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/0823—Devices involving rotation of the workpiece
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 版シート全体としての製版時間を短縮する。
【構成】 版シート２２に対してレーザビームを照射し
て走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形
成することにより刷版を製版する際、上記画像情報の所
定濃度に対応する閾値Ｓｈを設定し、１ラインの走査で
は、濃度を有する全画素に凹み５８ａ〜５８ｇを形成し
て製版し、上記１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存
在する場合には、再度その１ラインを走査して、閾値Ｓ
ｈを超える画素のみその画素の濃度に応じた凹み５８ｈ
〜５８ｉを形成して製版する。このため、例えば、倍速
走査を行うことにより、１ライン中に閾値Ｓｈを超える
画素が存在しない場合には、その１ラインは半分の時間
で製版できる。自然画の場合には、閾値Ｓｈを超える画
素が存在するラインは、通常、10％程度であるので、版
シートにおける製版範囲の全体としての製版時間を短縮
することができる。
て走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形
成することにより刷版を製版する際、上記画像情報の所
定濃度に対応する閾値Ｓｈを設定し、１ラインの走査で
は、濃度を有する全画素に凹み５８ａ〜５８ｇを形成し
て製版し、上記１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存
在する場合には、再度その１ラインを走査して、閾値Ｓ
ｈを超える画素のみその画素の濃度に応じた凹み５８ｈ
〜５８ｉを形成して製版する。このため、例えば、倍速
走査を行うことにより、１ライン中に閾値Ｓｈを超える
画素が存在しない場合には、その１ラインは半分の時間
で製版できる。自然画の場合には、閾値Ｓｈを超える画
素が存在するラインは、通常、10％程度であるので、版
シートにおける製版範囲の全体としての製版時間を短縮
することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、グラビア印刷
機用の刷版を形成するレーザ製版装置に関する。
機用の刷版を形成するレーザ製版装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ製版装置では、版シートが
巻き付けられた版胴を一定速度で回転させながらその版
シートにレーザビームを照射することで、その版シート
に画像情報に対応する凹みが形成されて刷版が製版され
ていた。
巻き付けられた版胴を一定速度で回転させながらその版
シートにレーザビームを照射することで、その版シート
に画像情報に対応する凹みが形成されて刷版が製版され
ていた。
【０００３】この場合、照射されるレーザビームの照射
時間を画像情報の濃淡（濃度）に応じて変化させて、画
素単位で開口面積の異なる凹みを形成することにより上
記画像情報に応じた刷版が製版されていた。
時間を画像情報の濃淡（濃度）に応じて変化させて、画
素単位で開口面積の異なる凹みを形成することにより上
記画像情報に応じた刷版が製版されていた。
【０００４】通常、画素は、画素単位でその最大開口面
積が予め決められている。このため、画像情報の濃淡、
すなわち画像濃度は、その画素単位の凹みの「開口面積
×深さ＝体積」で決定されることになる。例えば、グラ
ビア印刷機においては、周知のように、その凹みの体積
に対応して印刷インクが詰み込まれて印刷されるので、
その詰み込まれた印刷インクの量、すなわち、凹みの体
積に濃度が依存する。
積が予め決められている。このため、画像情報の濃淡、
すなわち画像濃度は、その画素単位の凹みの「開口面積
×深さ＝体積」で決定されることになる。例えば、グラ
ビア印刷機においては、周知のように、その凹みの体積
に対応して印刷インクが詰み込まれて印刷されるので、
その詰み込まれた印刷インクの量、すなわち、凹みの体
積に濃度が依存する。
【０００５】したがって、レーザビームのレーザパワー
が一定であり、版胴の回転速度、言い換えれば、レーザ
ビームの版シートに対する相対走査速度が一定であれ
ば、凹みの深さが一定値になり、凹みの開口面積に濃度
が比例することになる。
が一定であり、版胴の回転速度、言い換えれば、レーザ
ビームの版シートに対する相対走査速度が一定であれ
ば、凹みの深さが一定値になり、凹みの開口面積に濃度
が比例することになる。
【０００６】そこで、版シートにレーザビームを照射し
て走査し、刷版を作成する際には、上記のような観点か
ら、まず、画像情報を表すデータ（以下、必要に応じて
画像データという）の各画素データのうち、最高濃度を
有する画素データを、凹みの開口面積が最大で深みが最
深になる「相対走査速度×レーザパワー」に設定する。
この値は、通常、レーザ製版装置の仕様（性能）によっ
て決定される。
て走査し、刷版を作成する際には、上記のような観点か
ら、まず、画像情報を表すデータ（以下、必要に応じて
画像データという）の各画素データのうち、最高濃度を
有する画素データを、凹みの開口面積が最大で深みが最
深になる「相対走査速度×レーザパワー」に設定する。
この値は、通常、レーザ製版装置の仕様（性能）によっ
て決定される。
【０００７】そして、その設定の基で、画像データを構
成する各画素データの濃度に応じて１画素あたりのレー
ザ照射時間を変化させることで、一定の深さで所定の濃
度に対応する種々の開口面積を有する凹みが形成されて
刷版が製版される。
成する各画素データの濃度に応じて１画素あたりのレー
ザ照射時間を変化させることで、一定の深さで所定の濃
度に対応する種々の開口面積を有する凹みが形成されて
刷版が製版される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来のレーザ製版装置では、版シートにおける製版範囲の
全体を１回の面走査｛版胴の１回転で主走査方向の１ラ
インの製版を行いながら、１ライン（１回転）終了後に
レーザ光源を１ライン分（１画素分）の幅だけ副走査方
向にずらすことで、次の１ラインの主走査方向の製版を
行うという過程を全主走査ラインについて順次行うこと
により面走査が完了する。｝で行うようにしている。こ
の場合、１枚の版シートに対する総製版時間（１回の面
走査に対応する時間）を短くすることが要請されてい
る。
来のレーザ製版装置では、版シートにおける製版範囲の
全体を１回の面走査｛版胴の１回転で主走査方向の１ラ
インの製版を行いながら、１ライン（１回転）終了後に
レーザ光源を１ライン分（１画素分）の幅だけ副走査方
向にずらすことで、次の１ラインの主走査方向の製版を
行うという過程を全主走査ラインについて順次行うこと
により面走査が完了する。｝で行うようにしている。こ
の場合、１枚の版シートに対する総製版時間（１回の面
走査に対応する時間）を短くすることが要請されてい
る。
【０００９】しかしながら、上記従来のレーザ製版装置
では、小さな開口面積を有する凹み（画素）を製版する
場合と、大きな開口面積を有する凹み（画素）を製版す
る場合とで、１画素当たりのレーザの照射時間は異なる
ものの、１画素当たりの製版時間（走査時間）が同一の
時間になるので、総製版時間が同一の時間になり、全体
として時間の無駄が大きいという問題があった。
では、小さな開口面積を有する凹み（画素）を製版する
場合と、大きな開口面積を有する凹み（画素）を製版す
る場合とで、１画素当たりのレーザの照射時間は異なる
ものの、１画素当たりの製版時間（走査時間）が同一の
時間になるので、総製版時間が同一の時間になり、全体
として時間の無駄が大きいという問題があった。
【００１０】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、版シート全体の製版時間を短縮すること
のできるレーザ製版装置を提供することを目的とする。
たものであり、版シート全体の製版時間を短縮すること
のできるレーザ製版装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えば、図１
に示すように、版シート２２に対してレーザビームを照
射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位
に形成することにより刷版を製版するレーザ製版装置に
おいて、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを
設定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹
み５８ａ〜５８ｇを形成して製版し、上記１ライン中に
閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合には、再度その１
ラインを走査して製版するようにしたものである。
に示すように、版シート２２に対してレーザビームを照
射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位
に形成することにより刷版を製版するレーザ製版装置に
おいて、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを
設定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹
み５８ａ〜５８ｇを形成して製版し、上記１ライン中に
閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合には、再度その１
ラインを走査して製版するようにしたものである。
【００１２】また、本発明は、再度その１ラインを走査
する際、閾値Ｓｈ以下の画素は製版せず、閾値Ｓｈを超
える画素は、その画素の濃度に応じた凹み５８ｈ〜５８
ｊが形成されるように製版したものである。
する際、閾値Ｓｈ以下の画素は製版せず、閾値Ｓｈを超
える画素は、その画素の濃度に応じた凹み５８ｈ〜５８
ｊが形成されるように製版したものである。
【００１３】さらに、本発明は、版シートに対してレー
ザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹
みを画素単位に形成することにより刷版を製版するレー
ザ製版装置において、上記画像情報の所定濃度に対応す
る閾値を設定し、１ラインの走査では、上記閾値を超え
る画素にのみ凹みを形成して製版し、上記１ラインの再
度の走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成するよ
うにしたものである。
ザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹
みを画素単位に形成することにより刷版を製版するレー
ザ製版装置において、上記画像情報の所定濃度に対応す
る閾値を設定し、１ラインの走査では、上記閾値を超え
る画素にのみ凹みを形成して製版し、上記１ラインの再
度の走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成するよ
うにしたものである。
【００１４】さらにまた本発明は、１ラインを少なくと
も２回走査して版シートに凹みを形成する際、上記版シ
ートに対するレーザビームの相対走査速度を、各１回の
走査毎に変化させたものである。
も２回走査して版シートに凹みを形成する際、上記版シ
ートに対するレーザビームの相対走査速度を、各１回の
走査毎に変化させたものである。
【００１５】
【作用】本発明によれば、版シート２２に対してレーザ
ビームＬを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹
み５８を画素単位に形成することにより刷版を製版する
際に、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを設
定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹み
５８ａ〜５８ｇを形成して製版し、上記１ライン中に閾
値Ｓｈを超える画素が存在する場合には、再度その１ラ
インを走査して製版するようにしたものである。このた
め、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に
閾値Ｓｈを超える画素が存在しない場合には、その１ラ
インは半分の時間で製版できる。また、倍速走査である
ので、閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合であって
も、従来と同一の時間で製版できる。結果として、版シ
ートにおける製版範囲の全体（全製版範囲）の製版時間
を短縮することができる。
ビームＬを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹
み５８を画素単位に形成することにより刷版を製版する
際に、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを設
定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹み
５８ａ〜５８ｇを形成して製版し、上記１ライン中に閾
値Ｓｈを超える画素が存在する場合には、再度その１ラ
インを走査して製版するようにしたものである。このた
め、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に
閾値Ｓｈを超える画素が存在しない場合には、その１ラ
インは半分の時間で製版できる。また、倍速走査である
ので、閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合であって
も、従来と同一の時間で製版できる。結果として、版シ
ートにおける製版範囲の全体（全製版範囲）の製版時間
を短縮することができる。
【００１６】また、本発明によれば、版シートに対して
レーザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じ
た凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する
際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、
１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹み
を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃
度を有する全画素に凹みを形成するようにしたものであ
る。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１
ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、そ
の１ラインの最初の走査では、その１ラインをとばすこ
とができる。１ラインの再度の走査では、濃度を有する
全画素にその倍速走査で凹みを形成する。結果として、
版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮すること
ができる。
レーザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じ
た凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する
際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、
１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹み
を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃
度を有する全画素に凹みを形成するようにしたものであ
る。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１
ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、そ
の１ラインの最初の走査では、その１ラインをとばすこ
とができる。１ラインの再度の走査では、濃度を有する
全画素にその倍速走査で凹みを形成する。結果として、
版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮すること
ができる。
【００１７】さらにまた本発明は、１ラインを少なくと
も２回走査して版シートに凹みを形成する際、上記版シ
ートに対するレーザビームの相対走査速度を、各１回の
走査毎に変化させたものである。このため、画像情報の
濃度に応じて、適切な閾値と１回毎の走査速度の適切な
値を決定することにより、版シートにおける全製版範囲
の製版時間をほぼ最小化することができる。
も２回走査して版シートに凹みを形成する際、上記版シ
ートに対するレーザビームの相対走査速度を、各１回の
走査毎に変化させたものである。このため、画像情報の
濃度に応じて、適切な閾値と１回毎の走査速度の適切な
値を決定することにより、版シートにおける全製版範囲
の製版時間をほぼ最小化することができる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明レーザ製版装置の一実施例につ
いて図面を参照して説明する。図２は、この実施例によ
るレーザ製版装置の機械系の構成を示しており、この実
施例では、グラビア印刷機用の刷版である凹版を製作す
る。
いて図面を参照して説明する。図２は、この実施例によ
るレーザ製版装置の機械系の構成を示しており、この実
施例では、グラビア印刷機用の刷版である凹版を製作す
る。
【００１９】図２において、１０は、ベースであり、こ
のベース１０上に版胴回転部１２及びレーザブロック移
動部１４が設けられている。
のベース１０上に版胴回転部１２及びレーザブロック移
動部１４が設けられている。
【００２０】レーザ光源、例えば、半導体レーザとして
のレーザダイオード１５を収容するレーザブロック１６
は、ガイドレール１８，１８に沿って版胴２０の軸方向
（矢印Ｃ，Ｄ方向）に移動できるようになっている。
のレーザダイオード１５を収容するレーザブロック１６
は、ガイドレール１８，１８に沿って版胴２０の軸方向
（矢印Ｃ，Ｄ方向）に移動できるようになっている。
【００２１】版胴２０は金属製の円筒であり、この円筒
の円周面に合成樹脂製の版シート２２が巻き付けられて
いる。版胴２０の両端には、金属製のキャップ２３，２
３が固定され、このキャップ２３，２３には、軸２４，
２５が版胴２０の軸方向に突き出して設けられている。
の円周面に合成樹脂製の版シート２２が巻き付けられて
いる。版胴２０の両端には、金属製のキャップ２３，２
３が固定され、このキャップ２３，２３には、軸２４，
２５が版胴２０の軸方向に突き出して設けられている。
【００２２】軸２４は、プーリー２６とベルト２８とを
介して版胴回転用モータ３０に連結されている。版胴回
転用モータ３０が回転されることで、版シート２２が巻
き付けられた版胴２０が矢印Ａ方向またはそれと反対の
矢印Ｂ方向に回転される。
介して版胴回転用モータ３０に連結されている。版胴回
転用モータ３０が回転されることで、版シート２２が巻
き付けられた版胴２０が矢印Ａ方向またはそれと反対の
矢印Ｂ方向に回転される。
【００２３】レーザブロック１６は、レーザブロック取
付台３２に固定されている。そのレーザブロック取付台
３２は、アーム３４を介して移動子３６に固定されてい
る。移動子３６は、軸受け３８と軸受け４０との間に配
置されるボールねじ４２に螺合されている。ボールねじ
４２は、軸受け４０及び軸継手４４を介してレーザブロ
ック移動用モータ４６に接続されている。
付台３２に固定されている。そのレーザブロック取付台
３２は、アーム３４を介して移動子３６に固定されてい
る。移動子３６は、軸受け３８と軸受け４０との間に配
置されるボールねじ４２に螺合されている。ボールねじ
４２は、軸受け４０及び軸継手４４を介してレーザブロ
ック移動用モータ４６に接続されている。
【００２４】したがって、モータ４６が回転することに
よって、移動子３６が矢印Ｃ，Ｄ方向に移動し、この移
動子３６にアーム３４、レーザブロック取付台３２を介
して一体的に取り付けられているレーザブロック１６が
矢印Ｃ，Ｄ方向にガイドレール１８，１８に沿って移動
することになる。
よって、移動子３６が矢印Ｃ，Ｄ方向に移動し、この移
動子３６にアーム３４、レーザブロック取付台３２を介
して一体的に取り付けられているレーザブロック１６が
矢印Ｃ，Ｄ方向にガイドレール１８，１８に沿って移動
することになる。
【００２５】図３は、この実施例の電気的系統の構成を
示すブロック図である。図１及び図４は、図２例及び図
３例の動作説明に供される線図である。図５は、図２例
及び図３例の動作説明に供されるフローチャートであ
る。以下、図３例の構成を説明しながら図１〜図５をも
参照して動作を説明する。
示すブロック図である。図１及び図４は、図２例及び図
３例の動作説明に供される線図である。図５は、図２例
及び図３例の動作説明に供されるフローチャートであ
る。以下、図３例の構成を説明しながら図１〜図５をも
参照して動作を説明する。
【００２６】図３において、入力操作パネル５０上で、
「□」などのシンボルが描かれたパネルスイッチが操作
されることで、その操作に対応した停止、リセット等の
ステータスを表す信号（以下、ステータス信号という）
Ｓ１がマイクロコンピュータ（以下、ＣＰＵという）５
２に供給される。
「□」などのシンボルが描かれたパネルスイッチが操作
されることで、その操作に対応した停止、リセット等の
ステータスを表す信号（以下、ステータス信号という）
Ｓ１がマイクロコンピュータ（以下、ＣＰＵという）５
２に供給される。
【００２７】ＣＰＵ５２は、このステータス信号Ｓ１に
応じて正転パルスまたは逆転パルスをレーザブロック移
動用モータドライバ５４と版胴回転用モータドライバ５
６に供給することで、上記したレーザブロック移動用モ
ータ４６と版胴回転用モータ３０とを回転駆動制御す
る。
応じて正転パルスまたは逆転パルスをレーザブロック移
動用モータドライバ５４と版胴回転用モータドライバ５
６に供給することで、上記したレーザブロック移動用モ
ータ４６と版胴回転用モータ３０とを回転駆動制御す
る。
【００２８】版胴回転用モータ３０によって版胴２０が
矢印Ａ方向に回転され、一方、レーザダイオード１５か
ら出射されたレーザビームＬが版シート２２に照射され
ることで、版シート２２に画像データＳ２に応じた凹み
５８が画素単位で形成される。
矢印Ａ方向に回転され、一方、レーザダイオード１５か
ら出射されたレーザビームＬが版シート２２に照射され
ることで、版シート２２に画像データＳ２に応じた凹み
５８が画素単位で形成される。
【００２９】そして、版胴２０が１回転した後（主走査
方向の１ライン分の凹み５８が版シート２２に形成され
た後）、レーザブロック移動用モータ４６を回転させ、
レーザブロック１６を矢印Ｄ方向に１画素分移動させ、
次のライン上に画像データＳ２に応じた凹み５８を形成
する。
方向の１ライン分の凹み５８が版シート２２に形成され
た後）、レーザブロック移動用モータ４６を回転させ、
レーザブロック１６を矢印Ｄ方向に１画素分移動させ、
次のライン上に画像データＳ２に応じた凹み５８を形成
する。
【００３０】このようにして、版胴２０の円周面に巻き
付けられた版シート１４の全面（全製版範囲）に画像デ
ータＳ２の濃度（濃淡、階調）に応じた凹み５８がＣＰ
Ｕ５２の制御の基に形成され、刷版が製版される。
付けられた版シート１４の全面（全製版範囲）に画像デ
ータＳ２の濃度（濃淡、階調）に応じた凹み５８がＣＰ
Ｕ５２の制御の基に形成され、刷版が製版される。
【００３１】この場合、画像データＳ２は、予めイメー
ジスキャナ（図示していない）などで取り込まれ、デー
タＲＡＭ６０に格納されている。
ジスキャナ（図示していない）などで取り込まれ、デー
タＲＡＭ６０に格納されている。
【００３２】ＣＰＵ５２は、入力操作パネル５２の操作
などによって指定された、これから版シート２２上に凹
版を形成しようとする、例えば、１ライン分の画素デー
タを有する画像データＳ２をデータＲＡＭ６０から読み
出しグレースケール変換回路６２，６３に供給する。
などによって指定された、これから版シート２２上に凹
版を形成しようとする、例えば、１ライン分の画素デー
タを有する画像データＳ２をデータＲＡＭ６０から読み
出しグレースケール変換回路６２，６３に供給する。
【００３３】グレースケール変換回路６２，６３は、画
像の濃淡（濃度）を１画素当たりのレーザ照射時間の多
少に変換する機能を有し、画像データＳ２をそのように
変換した駆動信号Ｓ３，Ｓ４をレーザドライバ６４を通
じてレーザダイオード１５に供給する。
像の濃淡（濃度）を１画素当たりのレーザ照射時間の多
少に変換する機能を有し、画像データＳ２をそのように
変換した駆動信号Ｓ３，Ｓ４をレーザドライバ６４を通
じてレーザダイオード１５に供給する。
【００３４】グレースケール変換回路６２，６３には、
予め定められた閾値Ｓｈが設定されている。閾値Ｓｈ
は、例えば、以下に説明するように決定される。
予め定められた閾値Ｓｈが設定されている。閾値Ｓｈ
は、例えば、以下に説明するように決定される。
【００３５】図４Ａは、１画素当たりのレーザ照射時間
Ｔとそれを凹版（刷版）で印刷したときの濃度Ｄとの代
表的な特性６６を示している。１画素当たりの最大レー
ザ照射時間Ｔｍａｘが凹み５８の最大開口面積を与える
ことになり、最高濃度Ｄｍａｘに対応していることが分
かる。なお、この実施例において、１画素の大きさは、
約数10μｍ×数10μｍ＝１ドットの大きさであり、ドッ
トの密度（ＤＰＩ）は、１インチ当たり400 個である。
また、版シート２２の有効走査面積（全製版範囲）が、
１ライン当たり21ｃｍの長さ及び全副走査幅21ｃｍであ
るので、１ライン当たりのドット数は、（400 ドット／
2.54ｃｍ）×21ｃｍ≒3300個になり、全ドット数（総画
素数）は、その21倍で、約70000 個になる。
Ｔとそれを凹版（刷版）で印刷したときの濃度Ｄとの代
表的な特性６６を示している。１画素当たりの最大レー
ザ照射時間Ｔｍａｘが凹み５８の最大開口面積を与える
ことになり、最高濃度Ｄｍａｘに対応していることが分
かる。なお、この実施例において、１画素の大きさは、
約数10μｍ×数10μｍ＝１ドットの大きさであり、ドッ
トの密度（ＤＰＩ）は、１インチ当たり400 個である。
また、版シート２２の有効走査面積（全製版範囲）が、
１ライン当たり21ｃｍの長さ及び全副走査幅21ｃｍであ
るので、１ライン当たりのドット数は、（400 ドット／
2.54ｃｍ）×21ｃｍ≒3300個になり、全ドット数（総画
素数）は、その21倍で、約70000 個になる。
【００３６】図４Ｂは、画像データＳ２と濃度Ｄの一般
的な特性６８を示している。画像データＳ２は、例え
ば、８ビットデータであり、画像データＳ２の値が０値
のときの濃度Ｄの値がＤｍｉｎ、画像データＳ２の値が
255 のときの濃度Ｄの値がＤｍａｘになっている。
的な特性６８を示している。画像データＳ２は、例え
ば、８ビットデータであり、画像データＳ２の値が０値
のときの濃度Ｄの値がＤｍｉｎ、画像データＳ２の値が
255 のときの濃度Ｄの値がＤｍａｘになっている。
【００３７】図４Ａの特性６６と図４Ｂの特性６８から
画像データＳ２と１画素当たりのレーザ照射時間Ｔとの
関係が図４Ｃの特性７０で表されることが分かる。
画像データＳ２と１画素当たりのレーザ照射時間Ｔとの
関係が図４Ｃの特性７０で表されることが分かる。
【００３８】そこで、画像データＳ２の閾値Ｓｈは、例
えば、図４Ｃに示すように、画像データＳ２に含まれる
最大値（例えば、255 であるとする）の１画素当たりの
レーザ照射時間Ｔｍａｘの1/2 の時間Ｔｈ（Ｔｈ＝1/2
Ｔｍａｘ）に対応する値Ｓｈに決定する。もちろん、画
像データＳ２に含まれる最大値が255 未満であれば、そ
の未満の値の１画素当たりのレーザ照射時間Ｔ（Ｔ＜Ｔ
ｍａｘ）の1/2 の時間に対応する値に決定する。このよ
うに閾値Ｓｈを決定した場合には、レーザビームＬの相
対走査速度、言い換えれば、版胴２０の回転速度を２
倍、いわゆる倍速に設定することができる。すなわち、
この実施例では、閾値Ｓｈは、レーザビームＬの倍速走
査で２回同一ラインを走査したときに、最大濃度Ｄｍａ
ｘに対応する凹みが得られるように決定される。
えば、図４Ｃに示すように、画像データＳ２に含まれる
最大値（例えば、255 であるとする）の１画素当たりの
レーザ照射時間Ｔｍａｘの1/2 の時間Ｔｈ（Ｔｈ＝1/2
Ｔｍａｘ）に対応する値Ｓｈに決定する。もちろん、画
像データＳ２に含まれる最大値が255 未満であれば、そ
の未満の値の１画素当たりのレーザ照射時間Ｔ（Ｔ＜Ｔ
ｍａｘ）の1/2 の時間に対応する値に決定する。このよ
うに閾値Ｓｈを決定した場合には、レーザビームＬの相
対走査速度、言い換えれば、版胴２０の回転速度を２
倍、いわゆる倍速に設定することができる。すなわち、
この実施例では、閾値Ｓｈは、レーザビームＬの倍速走
査で２回同一ラインを走査したときに、最大濃度Ｄｍａ
ｘに対応する凹みが得られるように決定される。
【００３９】通常、被写体が自然画である場合の画像デ
ータＳ２の値の分布、すなわち、画素データの分布は、
図４Ｄに示すようなガウス分布あるいはガウス分布的な
特性７２になり、上記したように閾値Ｓｈを決定した場
合には、閾値Ｓｈ以下の画像データＳ２の値を有する画
素データ数は、総画素数の90％（図４Ｄ中、斜線部参
照）を超える画素数になる。逆に言えば、閾値Ｓｈを超
える画素数は、数％に過ぎない。したがって、このよう
な場合には、上記倍速走査１回で総画素数の90％を超え
る画素に対応する凹み５８を形成することができ（凹み
５８は全画素に形成する）、倍速走査２回で濃度の高い
画素に対応する凹み５８を形成することができる（濃度
の高い画素に対して２回走査する）。
ータＳ２の値の分布、すなわち、画素データの分布は、
図４Ｄに示すようなガウス分布あるいはガウス分布的な
特性７２になり、上記したように閾値Ｓｈを決定した場
合には、閾値Ｓｈ以下の画像データＳ２の値を有する画
素データ数は、総画素数の90％（図４Ｄ中、斜線部参
照）を超える画素数になる。逆に言えば、閾値Ｓｈを超
える画素数は、数％に過ぎない。したがって、このよう
な場合には、上記倍速走査１回で総画素数の90％を超え
る画素に対応する凹み５８を形成することができ（凹み
５８は全画素に形成する）、倍速走査２回で濃度の高い
画素に対応する凹み５８を形成することができる（濃度
の高い画素に対して２回走査する）。
【００４０】このように凹み５８を形成する場合、グレ
ースケール変換回路６２，６３には、それぞれ、図４Ｅ
に示す特性７０Ａ及び図４Ｆに示す特性７０Ｂが設定さ
れる。特性７０Ａは、閾値Ｓｈまでは特性７０の特性で
あり、閾値Ｔｈを超える特性は、時間Ｔｈが一定の特性
を有する。特性７０Ｂは、閾値Ｓｈまでは０時間であ
り、閾値Ｓｈを超える特性は特性７０の閾値Ｓｈから値
255 までの特性から閾値Ｓｈに対応する時間Ｔｈを減算
した特性になっている。
ースケール変換回路６２，６３には、それぞれ、図４Ｅ
に示す特性７０Ａ及び図４Ｆに示す特性７０Ｂが設定さ
れる。特性７０Ａは、閾値Ｓｈまでは特性７０の特性で
あり、閾値Ｔｈを超える特性は、時間Ｔｈが一定の特性
を有する。特性７０Ｂは、閾値Ｓｈまでは０時間であ
り、閾値Ｓｈを超える特性は特性７０の閾値Ｓｈから値
255 までの特性から閾値Ｓｈに対応する時間Ｔｈを減算
した特性になっている。
【００４１】そこで、まず、製版すべき総画素の画素デ
ータＳ２のうち、最初の１ライン分の画像データＳ２が
ＣＰＵ５２によって読み出されてグレースケール変換回
路６２のみに供給される。したがって、グレースケール
変換回路６２からのみ信号Ｓ３が出力され、画像データ
Ｓ２の値に対応する１画素当たりのレーザ照射時間Ｔに
変換され、対応するレーザビームＬが、矢印Ａ方向に回
転する版シート２２に照射されることで、その１ライン
分に対応する凹み５８が版シート２２上に形成される
（図５ステップＳ１１参照）。
ータＳ２のうち、最初の１ライン分の画像データＳ２が
ＣＰＵ５２によって読み出されてグレースケール変換回
路６２のみに供給される。したがって、グレースケール
変換回路６２からのみ信号Ｓ３が出力され、画像データ
Ｓ２の値に対応する１画素当たりのレーザ照射時間Ｔに
変換され、対応するレーザビームＬが、矢印Ａ方向に回
転する版シート２２に照射されることで、その１ライン
分に対応する凹み５８が版シート２２上に形成される
（図５ステップＳ１１参照）。
【００４２】このようにして版シート２２に形成された
１ライン分（１周目）の模式的な凹み５８を有する凹版
を図１Ａに示す。図１Ａから分かるように、閾値Ｓｈよ
り小さい画像データＳ２の値に対応する１画素当たりの
レーザ照射時間を有するレーザビームＬが照射された場
合には、それに対応した開口面積を有する凹み５８ａ，
５８ｂが形成される。また、閾値Ｓｈと同じ画像データ
Ｓ２の値の場合、及びそれを超える画像データＳ２の場
合には、１画素に対応する最大開口面積を有する凹み５
８ｃ〜５８ｇが形成される。
１ライン分（１周目）の模式的な凹み５８を有する凹版
を図１Ａに示す。図１Ａから分かるように、閾値Ｓｈよ
り小さい画像データＳ２の値に対応する１画素当たりの
レーザ照射時間を有するレーザビームＬが照射された場
合には、それに対応した開口面積を有する凹み５８ａ，
５８ｂが形成される。また、閾値Ｓｈと同じ画像データ
Ｓ２の値の場合、及びそれを超える画像データＳ２の場
合には、１画素に対応する最大開口面積を有する凹み５
８ｃ〜５８ｇが形成される。
【００４３】グレースケール変換回路６２は、図示しな
い比較手段を有し、その比較手段によりＣＰＵ５２から
供給された１ライン分の画像データＳ２中に、閾値Ｓｈ
を超える画像データ（画素データ値）値が含まれている
かどうかを判断して、含まれていた場合には、閾値超過
信号Ｓ５をＣＰＵ５２に供給する（ステップＳ１２参
照）。なお、この判断は、ＣＰＵ５２自身が行っても良
い。
い比較手段を有し、その比較手段によりＣＰＵ５２から
供給された１ライン分の画像データＳ２中に、閾値Ｓｈ
を超える画像データ（画素データ値）値が含まれている
かどうかを判断して、含まれていた場合には、閾値超過
信号Ｓ５をＣＰＵ５２に供給する（ステップＳ１２参
照）。なお、この判断は、ＣＰＵ５２自身が行っても良
い。
【００４４】ＣＰＵ５２は、１ライン分の凹み５８が形
成されたとき、言い換えれば、版胴２０が１回転したと
き、この１回転の間に上記閾値超過信号Ｓ５が供給され
たかどうかを確認し、供給されていなかった場合（ステ
ップＳ１２の判断が非成立の場合）には、レーザブロッ
ク１６を副走査方向（矢印Ｄ方向）に１画素分移動させ
て、次のラインの画像データＳ２に対応する版シート２
２の走査線上に凹み５８を形成する（ステップＳ１４、
ステップＳ１１）。
成されたとき、言い換えれば、版胴２０が１回転したと
き、この１回転の間に上記閾値超過信号Ｓ５が供給され
たかどうかを確認し、供給されていなかった場合（ステ
ップＳ１２の判断が非成立の場合）には、レーザブロッ
ク１６を副走査方向（矢印Ｄ方向）に１画素分移動させ
て、次のラインの画像データＳ２に対応する版シート２
２の走査線上に凹み５８を形成する（ステップＳ１４、
ステップＳ１１）。
【００４５】一方、閾値超過信号Ｓ５が供給されていた
場合（図１例ではこの場合に該当する。）には、ステッ
プＳ１２の判断が成立して、レーザブロック１６を副走
査方向に１画素分移動させずに、上記と同一の最初の１
ライン分の画像データＳ２をデータＲＡＭ６０から読み
出してグレースケール変換回路６３に供給する。
場合（図１例ではこの場合に該当する。）には、ステッ
プＳ１２の判断が成立して、レーザブロック１６を副走
査方向に１画素分移動させずに、上記と同一の最初の１
ライン分の画像データＳ２をデータＲＡＭ６０から読み
出してグレースケール変換回路６３に供給する。
【００４６】グレースケール変換回路６３は、図４Ｆに
示したように、閾値Ｓｈ以下の画像データＳ２では、レ
ーザダイオード１５からレーザビームＬが照射されない
ようにする駆動信号Ｓ４をレーザドライバ６４に供給
し、閾値Ｓｈを超える画像データＳ２の時にのみ、画像
の濃淡（濃度）を１画素当たりのレーザ照射時間Ｔの多
少に変換する駆動信号Ｓ４を出力する。
示したように、閾値Ｓｈ以下の画像データＳ２では、レ
ーザダイオード１５からレーザビームＬが照射されない
ようにする駆動信号Ｓ４をレーザドライバ６４に供給
し、閾値Ｓｈを超える画像データＳ２の時にのみ、画像
の濃淡（濃度）を１画素当たりのレーザ照射時間Ｔの多
少に変換する駆動信号Ｓ４を出力する。
【００４７】このグレースケール変換回路６３の駆動信
号Ｓ４によりレーザドライバ６４を通じてレーザダイオ
ード１５が駆動されて対応するレーザビームＬが版シー
ト２２に照射されて、図１Ｂに示すように、前回形成し
た凹み５８（５８ａ〜５８ｇ）の上からさらに凹み５８
（５８ｈ〜５８ｊ）を形成する（２回目のレーザビーム
Ｌが照射された部分は、図１Ｂ中、網点で表した部分で
ある。なお、図１Ｂ中、凹み５８ｊは、画像データＳ２
の最大値255 （画像濃度Ｄの最大値Ｄｍａｘ）に対応す
る凹みを示している。
号Ｓ４によりレーザドライバ６４を通じてレーザダイオ
ード１５が駆動されて対応するレーザビームＬが版シー
ト２２に照射されて、図１Ｂに示すように、前回形成し
た凹み５８（５８ａ〜５８ｇ）の上からさらに凹み５８
（５８ｈ〜５８ｊ）を形成する（２回目のレーザビーム
Ｌが照射された部分は、図１Ｂ中、網点で表した部分で
ある。なお、図１Ｂ中、凹み５８ｊは、画像データＳ２
の最大値255 （画像濃度Ｄの最大値Ｄｍａｘ）に対応す
る凹みを示している。
【００４８】このようにして、１ラインの凹版の製版が
完了し、そして、版胴２０が１回転したらレーザブロッ
ク１６を１画素分副走査方向に移動させ、図５に示す同
様のルーチンを版シート２２の全製版範囲を終了するま
で繰り返す。
完了し、そして、版胴２０が１回転したらレーザブロッ
ク１６を１画素分副走査方向に移動させ、図５に示す同
様のルーチンを版シート２２の全製版範囲を終了するま
で繰り返す。
【００４９】このように上記した実施例によれば、版シ
ート２２に対してレーザビームＬを照射して走査し、画
像データＳ２の濃度に応じた凹み５８を画素単位に形成
することにより刷版を作成する際に、倍速走査におい
て、画像データＳ２の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを設
定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹み
５８を形成して製版し、上記１ライン中に閾値Ｓｈを超
える画素が存在する場合には、再度その同じ１ラインを
走査して製版するようにしたものである。
ート２２に対してレーザビームＬを照射して走査し、画
像データＳ２の濃度に応じた凹み５８を画素単位に形成
することにより刷版を作成する際に、倍速走査におい
て、画像データＳ２の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを設
定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹み
５８を形成して製版し、上記１ライン中に閾値Ｓｈを超
える画素が存在する場合には、再度その同じ１ラインを
走査して製版するようにしたものである。
【００５０】このため、倍速走査を行うことにより、１
ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在しない場合に
は、その１ラインは半分の時間で製版できる。また、倍
速走査であるので、閾値Ｓｈを超える画素が存在する場
合であっても、従来と同一の時間で製版できる。結果と
して、版シート２２における全製版範囲の製版時間を短
縮することができる。言い換えれば、上記実施例によれ
ば、全製版範囲をレーザダイオード１５のレーザビーム
Ｌが１回走査して製版するのではなく、濃度の高い画素
のあるところは２回（後述するように、２回以上でもよ
い。）走査して製版し、濃度の低いところは１回の走査
で製版することにより、１回の走査速度を２倍（倍速、
後述するように２倍以上でもよい。）速くすることがで
き、濃度の低いラインが多ければ多いほど全製版時間を
短くすることができる。
ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在しない場合に
は、その１ラインは半分の時間で製版できる。また、倍
速走査であるので、閾値Ｓｈを超える画素が存在する場
合であっても、従来と同一の時間で製版できる。結果と
して、版シート２２における全製版範囲の製版時間を短
縮することができる。言い換えれば、上記実施例によれ
ば、全製版範囲をレーザダイオード１５のレーザビーム
Ｌが１回走査して製版するのではなく、濃度の高い画素
のあるところは２回（後述するように、２回以上でもよ
い。）走査して製版し、濃度の低いところは１回の走査
で製版することにより、１回の走査速度を２倍（倍速、
後述するように２倍以上でもよい。）速くすることがで
き、濃度の低いラインが多ければ多いほど全製版時間を
短くすることができる。
【００５１】例えば、具体的には、閾値Ｓｈを超える画
像データＳ２の値を含むラインが全ラインの10％有り、
その分２周目の製版も倍速走査で行うとしても、全製版
時間は、従来の技術に比較して、約1/2 ＋1/2 ×1/10＝
11/20 の時間で製版できるようになり、開口面積の小さ
い凹みを作成する際の時間の無駄を大幅に軽減すること
ができる。
像データＳ２の値を含むラインが全ラインの10％有り、
その分２周目の製版も倍速走査で行うとしても、全製版
時間は、従来の技術に比較して、約1/2 ＋1/2 ×1/10＝
11/20 の時間で製版できるようになり、開口面積の小さ
い凹みを作成する際の時間の無駄を大幅に軽減すること
ができる。
【００５２】なお、上記実施例では、１ライン目の走査
では、閾値Ｓｈ以下の画素にのみ凹みを形成し、１ライ
ンの再度の走査では、閾値Ｓｈを超える画素に凹みを形
成するようにしているが、他の実施例として、その逆
に、１ラインの走査では、閾値Ｓｈを超える画素にのみ
凹み５８を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査
では、濃度を有する全画素に凹み５８を形成するように
してもよい。この場合、例えば、倍速走査を行うことに
より、１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在しない
場合には、その１ラインの走査は同様に１回で行うこと
ができる。結果として、上記実施例と同様に版シート２
２における全製版範囲の製版時間を短縮することができ
る。
では、閾値Ｓｈ以下の画素にのみ凹みを形成し、１ライ
ンの再度の走査では、閾値Ｓｈを超える画素に凹みを形
成するようにしているが、他の実施例として、その逆
に、１ラインの走査では、閾値Ｓｈを超える画素にのみ
凹み５８を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査
では、濃度を有する全画素に凹み５８を形成するように
してもよい。この場合、例えば、倍速走査を行うことに
より、１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在しない
場合には、その１ラインの走査は同様に１回で行うこと
ができる。結果として、上記実施例と同様に版シート２
２における全製版範囲の製版時間を短縮することができ
る。
【００５３】また、さらに他の実施例として、閾値Ｓｈ
を３つ設定した場合には、最も閾値Ｓｈの小さい範囲に
含まれる画像データＳ２は、版胴２０の１周で製版し、
最も閾値Ｓｈの大きい範囲に含まれる画像データＳ２
は、版胴２０の４周で製版するようにしてもよい。この
場合にも、画像データＳ２の濃度分布（図４Ｄ参照）に
よっては、製版時間を一層短縮することができる。
を３つ設定した場合には、最も閾値Ｓｈの小さい範囲に
含まれる画像データＳ２は、版胴２０の１周で製版し、
最も閾値Ｓｈの大きい範囲に含まれる画像データＳ２
は、版胴２０の４周で製版するようにしてもよい。この
場合にも、画像データＳ２の濃度分布（図４Ｄ参照）に
よっては、製版時間を一層短縮することができる。
【００５４】さらに他の実施例として、１ラインを少な
くとも２回走査して版シート２２に凹み５８を形成する
際、版シート２２に対するレーザビームＬの走査速度
を、各１回の走査毎に変化させてもよい。このようにす
れば、画像データの濃度分布に応じて、適切な閾値Ｓｈ
と１回毎の走査速度の適切な値を決定することにより、
版シート２２における全製版範囲の製版時間をさらに短
縮することができる。
くとも２回走査して版シート２２に凹み５８を形成する
際、版シート２２に対するレーザビームＬの走査速度
を、各１回の走査毎に変化させてもよい。このようにす
れば、画像データの濃度分布に応じて、適切な閾値Ｓｈ
と１回毎の走査速度の適切な値を決定することにより、
版シート２２における全製版範囲の製版時間をさらに短
縮することができる。
【００５５】なお、本発明は上記の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得ること
はもちろんである。
明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得ること
はもちろんである。
【００５６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
版シートに対してレーザビームを照射して走査し、画像
情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形成することによ
り刷版を形成する際に、上記画像情報の所定濃度に対応
する閾値を設定し、１ラインの走査では、濃度を有する
全画素に凹みを形成して製版し、上記１ライン中に上記
閾値を超える画素が存在する場合には、再度その１ライ
ンを走査して製版するようにしたものである。このた
め、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に
閾値を超える画素が存在しない場合には、その１ライン
は半分の時間で製版できるという効果が得られる。ま
た、倍速走査であるので、閾値を超える画素が存在する
場合であっても、従来と同一の時間で製版できる。結果
として、版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮
することができるという効果が得られる。
版シートに対してレーザビームを照射して走査し、画像
情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形成することによ
り刷版を形成する際に、上記画像情報の所定濃度に対応
する閾値を設定し、１ラインの走査では、濃度を有する
全画素に凹みを形成して製版し、上記１ライン中に上記
閾値を超える画素が存在する場合には、再度その１ライ
ンを走査して製版するようにしたものである。このた
め、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に
閾値を超える画素が存在しない場合には、その１ライン
は半分の時間で製版できるという効果が得られる。ま
た、倍速走査であるので、閾値を超える画素が存在する
場合であっても、従来と同一の時間で製版できる。結果
として、版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮
することができるという効果が得られる。
【００５７】また、本発明によれば、版シートに対して
レーザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じ
た凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する
際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、
１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹み
を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃
度を有する全画素に凹みを形成するようにしたものであ
る。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１
ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、そ
の１ラインの最初の走査では、その１ラインをとばすこ
とができるという効果が得られる。１ラインの再度の走
査では、濃度を有する全画素にその倍速走査で凹みを形
成する。結果として、版シートにおける全製版範囲の製
版時間を短縮することができるという効果が得られる。
レーザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じ
た凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する
際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、
１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹み
を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃
度を有する全画素に凹みを形成するようにしたものであ
る。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１
ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、そ
の１ラインの最初の走査では、その１ラインをとばすこ
とができるという効果が得られる。１ラインの再度の走
査では、濃度を有する全画素にその倍速走査で凹みを形
成する。結果として、版シートにおける全製版範囲の製
版時間を短縮することができるという効果が得られる。
【００５８】さらにまた本発明によれば、１ラインを少
なくとも２回走査して版シートに凹みを形成する際、上
記版シートに対するレーザビームの相対走査速度を、各
１回の走査毎に変化させたものである。このため、画像
情報の濃度に応じて、適切な閾値と１回毎の走査速度の
適切な値を決定することにより、版シートにおける全製
版範囲の製版時間を短縮することができるという効果が
得られる。
なくとも２回走査して版シートに凹みを形成する際、上
記版シートに対するレーザビームの相対走査速度を、各
１回の走査毎に変化させたものである。このため、画像
情報の濃度に応じて、適切な閾値と１回毎の走査速度の
適切な値を決定することにより、版シートにおける全製
版範囲の製版時間を短縮することができるという効果が
得られる。
【図１】本発明によるレーザ製版装置の一実施例の動作
説明に供される線図である。
説明に供される線図である。
【図２】本発明によるレーザ製版装置の一実施例の機械
系の構成を示す斜視図である。
系の構成を示す斜視図である。
【図３】本発明によるレーザ製版装置の一実施例の電気
系の構成を示すブロック図である。
系の構成を示すブロック図である。
【図４】本発明によるレーザ製版装置の動作説明に供さ
れる特性図である。
れる特性図である。
【図５】本発明によるレーザ製版装置の動作説明に供さ
れるフローチャートである。
れるフローチャートである。
１５ レーザダイオード １６ レーザブロック ２０ 版胴 ２２ 版シート ５２ ＣＰＵ ５８，５８ａ〜５８ｊ 凹み ６２，６３ グレースケール変換回路 Ｌ レーザビーム Ｓ２ 画像データ Ｓ５ 閾値超過信号
Claims (4)
- 【請求項１】 版シートに対してレーザビームを照射し
て走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形
成することにより刷版を製版するレーザ製版装置におい
て、 上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、 １ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成
して製版し、 上記１ライン中に上記閾値を超える画素が存在する場合
には、再度その１ラインを走査して製版するようにした
ことを特徴とするレーザ製版装置。 - 【請求項２】 再度その１ラインを走査する際、上記閾
値以下の画素は製版せず、上記閾値を超える画素は、そ
の画素の濃度に応じた凹みが形成されるように製版する
ことを特徴とする請求項１記載のレーザ製版装置。 - 【請求項３】 版シートに対してレーザビームを照射し
て走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形
成することにより刷版を製版するレーザ製版装置におい
て、 上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、 １ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹み
を形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃
度を有する全画素に凹みを形成するようにしたことを特
徴とするレーザ製版装置。 - 【請求項４】 １ラインを少なくとも２回走査して上記
版シートに凹みを形成する際、上記版シートに対するレ
ーザビームの相対走査速度を、１ライン毎、数ライン毎
または全ライン毎の走査毎に変化させることを特徴とす
る請求項１〜３のいずれか１項に記載のレーザ製版装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5022766A JPH06234086A (ja) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | レーザ製版装置 |
| US08/191,596 US5427026A (en) | 1993-02-10 | 1994-02-04 | Press sheet engraving apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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