JP4680565B2 - レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ - Google Patents
レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4680565B2 JP4680565B2 JP2004310376A JP2004310376A JP4680565B2 JP 4680565 B2 JP4680565 B2 JP 4680565B2 JP 2004310376 A JP2004310376 A JP 2004310376A JP 2004310376 A JP2004310376 A JP 2004310376A JP 4680565 B2 JP4680565 B2 JP 4680565B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- holder
- storage box
- state
- reticle holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
− 放射線の投影ビームを供給する照明システムと、
− パターン付与手段を支持する支持構造とを有し、パターン付与手段が、投影ビームの断面にパターンを与える働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板ホルダと、
− パターン付与したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを有し、
装置が、請求項1から7いずれかに記載の少なくとも1つのアセンブリおよび/または請求項8から16いずれかに記載の少なくとも1つのシステムおよび/または請求項17または18に記載の少なくとも1つの支持構造および/または請求項19に記載の少なくとも1つのレチクルホルダおよび/または請求項20から23いずれかに記載の少なくとも1つの保存箱を有するものであるリソグラフィ装置が提供される。
− 放射線の投影ビームPB(例えばUV放射線、EUV放射線または他のタイプの放射線)を供給する放射線システム(照明装置)ILと、
− パターン付与手段(例えばマスク)を支持するために、品目PLに対して正確にパターン付与手段の位置決めを行う第一位置決め手段PMに連結を行った第一支持構造(例えばマスクテーブル)と、
− 基板(例えばレジスト塗布ウェハ)を保持するために、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段PWに連結を行った基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
− パターン付与手段MAによって投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば1つあるいはそれ以上のダイから成る)に描像する投影システム(例えば屈折性投影レンズ)PLとを有する。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている間に、投影ビームに与えた模様全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期操作する一方、投影ビームに与えられた模様を目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターン付与手段を保持し、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、プログラム可能なパターン付与手段は、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラム可能なパターン付与手段を使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (13)
- レチクル及びレチクルホルダのアセンブリであって、
前記レチクルホルダの状態が、レチクル阻止状態とレチクル解放状態との間で調節可能であり、
前記レチクルホルダは、前記レチクルホルダが前記レチクル阻止状態にある場合に、実質的に力を加えない方法で少なくとも1つの方向にて前記レチクルを保持するよう配置構成され、
前記レチクルホルダは、前記レチクルホルダが前記レチクル解放状態にある場合に、前記レチクルを解放するよう配置構成され、
前記レチクルホルダは、前記レチクル阻止状態と前記レチクル解放状態とをそれぞれ提供するために、レチクル阻止位置とレチクル解放位置との間で動作可能な少なくとも1つの可動レチクル保持要素を有し、
少なくとも1つの可動レチクル保持要素は、前記レチクル阻止位置で固定されるよう配置構成され、
前記可動レチクル保持要素が、前記レチクル阻止位置にあり、前記レチクルが前記レチクルホルダによって保持されている場合に、各可動レチクル保持要素と前記レチクルとの間の距離は、0nm以上且つ約1μm未満である、アセンブリ。 - 前記可動レチクル保持要素が前記レチクル解放位置にある場合に、各可動レチクル保持要素と前記レチクルとの間の距離は、約1μmより大きい、特には約100μmより大きい、さらに特には約1mmより大きい、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記レチクルホルダは、前記レチクル阻止状態と前記レチクル解放状態とをそれぞれ提供するため、固体状態と変形可能な状態とにすることができる少なくとも1つの物質、例えば、凍結可能な流体、強磁性流体及び/又は熱可塑性樹脂を有する、請求項1又は請求項2に記載のアセンブリ。
- 前記レチクルホルダは、実質的に力を加えない方法で前記レチクルを保持するために前記レチクルの少なくとも一部に突き当たるよう配置構成された少なくとも1つの不動レチクル保持要素を有する、請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載のアセンブリ。
- 前記レチクルホルダは、前記レチクルの側部を支持する支持フレームを有する、請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載のアセンブリ。
- 請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載のアセンブリのレチクルホルダ。
- 請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載のアセンブリを含むよう配置構成された保存箱。
- 保持器がホルダ保持状態にある場合に、前記レチクルホルダを保持するよう配置された少なくとも1つの保持器を有し、前記保持器は、前記保持器がホルダ解放状態にある場合に、前記レチクルホルダを解放するよう配置構成された、請求項7に記載の保存箱。
- 少なくともレチクル及びレチクルホルダを有するアセンブリを保存するよう配置構成された保存箱であって、
前記レチクルホルダの状態が、レチクル阻止状態とレチクル解放状態との間で調節可能であり、
前記レチクルホルダは、前記レチクルホルダが前記レチクル阻止状態にある場合に、実質的に力を加えない方法で少なくとも1つの方向にて前記レチクルを保持するよう配置構成され、
前記レチクルホルダは、前記レチクルホルダが前記レチクル解放状態にある場合に、前記レチクルを解放するよう配置構成され、
前記レチクルホルダは、前記レチクル阻止状態と前記レチクル解放状態とをそれぞれ提供するために、レチクル阻止位置とレチクル解放位置との間で動作可能な少なくとも1つの可動レチクル保持要素を有し、
少なくとも1つの可動レチクル保持要素は、前記レチクル阻止位置で固定されるよう配置構成され、
前記可動レチクル保持要素が、前記レチクル阻止位置にあり、前記レチクルが前記レチクルホルダによって保持されている場合に、各可動レチクル保持要素と前記レチクルとの間の距離は、0nm以上且つ約1μm未満であり、
前記保存箱は、保持器がホルダ保持状態にある場合に、前記レチクルホルダを保持するよう配置構成された少なくとも1つの保持器を有し、前記保持器は、前記保持器がホルダ解放状態にある場合に、前記レチクルホルダを解放するよう配置構成された保存箱。 - 支持構造と運動学的にドッキングするために協働するように配置構成された保存箱であって、
前記支持構造は、レチクルホルダが保存箱内に保持されている場合に、保存箱と運動学的にドッキングするように配置構成され、
レチクルは、1つ又は複数のレチクルマーカを有し、
レチクルホルダ及び検出器は、相互に対して運動学的に位置合わせされるよう配置構成され、
前記検出器は、レチクルホルダに対してレチクルを位置決めするために、前記レチクルマーカを検出するよう配置構成され、
保存箱の少なくとも一部が、好ましくは光学的に透明であり、検出器が使用中にレチクルマーカを検出することができる、請求項7乃至請求項9のうち何れか1項に記載の保存箱。 - 放射線の投影ビームを供給する照明システムと、
パターン付与手段を支持する支持構造であって、前記パターン付与手段は、前記投影ビームの断面にパターンを与える働きをする支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付与した投影ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載のアセンブリ、及び/又は請求項6に記載の少なくとも1つのレチクルホルダ、及び/又は請求項7乃至請求項10のうち何れか1項に記載の少なくとも1つの保存箱を有する、リソグラフィ装置。 - デバイス製造方法であって、
基板を設け、
照明システムを使用して放射線の投影ビームを供給し、
パターン付与手段が、投影ビームの断面にパターンを与えるために使用され、
パターン付与した投影ビームを基板の目標部分に投影し、
レチクルを取り扱うために、請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載のアセンブリ、及び/又は請求項6に記載の少なくとも1つのレチクルホルダ、及び/又は請求項7乃至請求項10のうち何れか1項に記載の少なくとも1つの保存箱を使用する、方法。 - レチクルホルダは、実質的に力を加えない方法で少なくとも1つの方向にて、および好ましくは少なくとも2つの方向にて、レチクルを保持する、請求項6に記載のレチクルホルダを使用する方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03078380 | 2003-10-27 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008023872A Division JP4834684B2 (ja) | 2003-10-27 | 2008-02-04 | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005129959A JP2005129959A (ja) | 2005-05-19 |
JP4680565B2 true JP4680565B2 (ja) | 2011-05-11 |
Family
ID=34610066
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004310376A Active JP4680565B2 (ja) | 2003-10-27 | 2004-10-26 | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
JP2008023872A Active JP4834684B2 (ja) | 2003-10-27 | 2008-02-04 | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008023872A Active JP4834684B2 (ja) | 2003-10-27 | 2008-02-04 | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7236233B2 (ja) |
JP (2) | JP4680565B2 (ja) |
CN (2) | CN102338992B (ja) |
SG (1) | SG111263A1 (ja) |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100609115B1 (ko) * | 2003-10-27 | 2006-08-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 레티클 홀더 및 레티클의 조립체 |
JP4710308B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2011-06-29 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、及びレチクルの搬送方法 |
JP4581681B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | レチクル保護装置および露光装置 |
US7633600B2 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7667822B2 (en) * | 2006-02-14 | 2010-02-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and stage apparatus |
WO2008007521A1 (fr) * | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Nikon Corporation | Élément de support de réticule, étage de réticule, appareil d'exposition, procédé d'exposition par projection et procédé de fabrication de dispositif |
US7581372B2 (en) * | 2006-08-17 | 2009-09-01 | Microtome Precision, Inc. | High cleanliness article transport system |
US7933000B2 (en) * | 2006-11-16 | 2011-04-26 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method, method for holding a patterning device and lithographic apparatus including an applicator for applying molecules onto a clamp area of a patterning device |
US20080128303A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-05 | Nikon Corporation | Device container assembly with adjustable retainers for a reticle |
DE602007006772D1 (de) | 2007-04-27 | 2010-07-08 | Applied Materials Inc | Substratverarbeitungsvorrichtung und Verfahren zum Platzieren eines Substrats |
NL1036028A1 (nl) * | 2007-10-09 | 2009-04-15 | Asml Netherlands Bv | Servo control system, lithographic apparatus and control method. |
EP2203666B1 (en) * | 2007-10-18 | 2011-04-13 | Rigaku Innovative Technologies Inc. | Method for making a magnetic fluid seal with precise control of fluid volume at each seal stage |
KR100901510B1 (ko) * | 2007-11-07 | 2009-06-08 | 삼성전기주식회사 | 기판 제조 장치 및 그 방법 |
US8215510B2 (en) * | 2008-03-24 | 2012-07-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photomask storage apparatus |
NL1036785A1 (nl) * | 2008-04-18 | 2009-10-20 | Asml Netherlands Bv | Rapid exchange device for lithography reticles. |
NL1036843A1 (nl) * | 2008-05-23 | 2009-11-24 | Asml Netherlands Bv | Support structure, lithographic apparatus and method. |
US20100085554A1 (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | Fan Chih-Shen | Adaptor of an aligner system |
NL2003529A (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method and position control method. |
NL2003877A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-09 | Asml Holding Nv | Reticle support that reduces reticle slippage. |
JP2011044490A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Nikon Corp | 観察装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP5153017B2 (ja) * | 2010-02-09 | 2013-02-27 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | サポート構造およびリソグラフィ装置 |
MY170824A (en) * | 2012-04-26 | 2019-09-04 | Intevac Inc | System architecture for vacuum processing |
CN103676500B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-08-17 | 四川聚能核技术工程有限公司 | 全自动曝光机 |
CN103713478B (zh) * | 2013-12-31 | 2017-02-01 | 四川聚能核技术工程有限公司 | 预对位装置 |
JP6365105B2 (ja) * | 2014-08-18 | 2018-08-01 | 岩崎電気株式会社 | 照射装置 |
WO2016121635A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社ニコン | マスクケース、保管装置及び方法、搬送装置及び方法、並びに露光装置 |
KR102502727B1 (ko) * | 2015-11-09 | 2023-02-23 | 삼성전자주식회사 | 레티클 및 그를 포함하는 노광 장치 |
CN107285006B (zh) * | 2016-03-31 | 2020-02-18 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 掩膜版机械手预对准机构及掩膜版上版的方法和应用 |
CN107305318B (zh) * | 2016-04-22 | 2019-03-12 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种浸没式光刻***和浸没流场维持方法 |
US10256132B2 (en) | 2016-04-28 | 2019-04-09 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Reticle processing system |
DE102017200622A1 (de) * | 2017-01-17 | 2017-12-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem, und Betriebsverfahren |
CN107464770B (zh) * | 2017-08-28 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩模板存储装置 |
CN109031893B (zh) * | 2018-07-24 | 2020-02-14 | 武汉华星光电技术有限公司 | 掩膜板存放区定位装置 |
TWI818800B (zh) * | 2018-10-29 | 2023-10-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 光罩容器系統及提供該光罩容器系統觀察光罩之方法 |
TWI833889B (zh) | 2019-02-06 | 2024-03-01 | 日商尼康股份有限公司 | 遮罩配接器、遮罩配接器安裝工具、曝光裝置以及元件製造方法 |
CN109688714B (zh) * | 2019-02-26 | 2024-02-13 | 广东科视光学技术股份有限公司 | 一种防止pcb板粘菲林的装置及防粘方法 |
CN113811819A (zh) * | 2019-05-09 | 2021-12-17 | Asml控股股份有限公司 | 缓冲器装置 |
WO2021072126A1 (en) * | 2019-10-10 | 2021-04-15 | Entegris, Inc. | Reticle pod with window |
CN111483757B (zh) * | 2020-05-25 | 2020-12-04 | 广东鑫光智能***有限公司 | 平板电视的精定位装置及其精定位方法 |
CN114280067B (zh) * | 2021-12-28 | 2024-05-28 | 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 | 一种识别mask破片及裂纹的检测装置及检测方法 |
CN116088283B (zh) * | 2023-04-12 | 2023-06-30 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 掩模版预校准方法、***、电子设备以及可读存储介质 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2190187A5 (ja) * | 1972-06-22 | 1974-01-25 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | |
JPS5821824A (ja) * | 1981-08-03 | 1983-02-08 | Oki Electric Ind Co Ltd | ウエハアライメント方法 |
US4443098A (en) * | 1982-12-21 | 1984-04-17 | General Signal Corporation | Pellicle mounting fixture |
JPS62198863A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
US4986007A (en) | 1987-03-25 | 1991-01-22 | Svg Lithography Systems, Inc. | Reticle frame assembly |
JPH0722112B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1995-03-08 | キヤノン株式会社 | マスクホルダ並びにそれを用いたマスクの搬送方法 |
JPH02119114A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-07 | Canon Inc | 原版自動交換機および原版容器 |
JP3089590B2 (ja) | 1991-07-12 | 2000-09-18 | キヤノン株式会社 | 板状物収納容器およびその蓋開口装置 |
JP2919158B2 (ja) * | 1992-02-10 | 1999-07-12 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置 |
JPH06325996A (ja) * | 1993-05-12 | 1994-11-25 | Hitachi Ltd | レティクルフレーム |
US5608773A (en) * | 1993-11-30 | 1997-03-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask holding device, and an exposure apparatus and a device manufacturing method using the device |
JP3956245B2 (ja) * | 1997-06-24 | 2007-08-08 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスク装置 |
JP3535749B2 (ja) | 1997-12-10 | 2004-06-07 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US6216873B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-04-17 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF container including a reticle support structure |
EP1412262B1 (en) * | 2000-07-10 | 2008-05-21 | Entegris, Inc. | Smif container including an electrostatic dissipative reticle support structure |
US6931700B2 (en) * | 2001-10-02 | 2005-08-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing thin film piezoelectric elements |
TWI319123B (en) * | 2002-02-22 | 2010-01-01 | Asml Holding Nv | System and method for using a two part cover for protecting a reticle |
-
2004
- 2004-10-13 US US10/962,751 patent/US7236233B2/en active Active
- 2004-10-22 SG SG200406205A patent/SG111263A1/en unknown
- 2004-10-26 JP JP2004310376A patent/JP4680565B2/ja active Active
- 2004-10-26 CN CN201110274972.6A patent/CN102338992B/zh active Active
- 2004-10-26 CN CN200410087986.7A patent/CN1673859B/zh active Active
-
2008
- 2008-02-04 JP JP2008023872A patent/JP4834684B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008113046A (ja) | 2008-05-15 |
JP4834684B2 (ja) | 2011-12-14 |
US20050117142A1 (en) | 2005-06-02 |
CN1673859A (zh) | 2005-09-28 |
CN1673859B (zh) | 2011-09-21 |
JP2005129959A (ja) | 2005-05-19 |
CN102338992B (zh) | 2014-10-22 |
US7236233B2 (en) | 2007-06-26 |
CN102338992A (zh) | 2012-02-01 |
SG111263A1 (en) | 2005-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4680565B2 (ja) | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ | |
US7839489B2 (en) | Assembly of a reticle holder and a reticle | |
JP4854530B2 (ja) | リソグラフィ投影装置、およびデバイス製造方法 | |
JP4340255B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5823040B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2008021995A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP3926805B2 (ja) | 対象物を移送する装置及びその使用方法と該移送装置を含むリソグラフィ投影装置 | |
JP2006165577A (ja) | センサー・シールド | |
KR100945566B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2013098552A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US7675606B2 (en) | Lithographic apparatus and method | |
JP4332146B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
NL2009549A (en) | Lithographic apparatus and substrate handling method. | |
EP1531363A1 (en) | Reticle holder | |
JP4392398B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US7808612B2 (en) | Lithographic apparatus and method for masking a substrate | |
US7131999B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
KR100696737B1 (ko) | 기계부품을 유지보수하기 위한 장치 및 방법 | |
JP2007189217A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070531 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080204 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081219 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100910 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101125 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4680565 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |