JP4674477B2 - 半導体モジュール - Google Patents

半導体モジュール Download PDF

Info

Publication number
JP4674477B2
JP4674477B2 JP2005058776A JP2005058776A JP4674477B2 JP 4674477 B2 JP4674477 B2 JP 4674477B2 JP 2005058776 A JP2005058776 A JP 2005058776A JP 2005058776 A JP2005058776 A JP 2005058776A JP 4674477 B2 JP4674477 B2 JP 4674477B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
mounting substrate
mounting
semiconductor device
semiconductor chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005058776A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006245278A (ja
Inventor
浩章 桂
剛史 東條
信治 吉野
英信 西川
隆司 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2005058776A priority Critical patent/JP4674477B2/ja
Publication of JP2006245278A publication Critical patent/JP2006245278A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4674477B2 publication Critical patent/JP4674477B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors

Landscapes

  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

本発明は半導体装置及び半導体モジュールに係り、特に高速対応メモリ及び高速対応メモリモジュールとして用いて好適な半導体装置及び半導体モジュールに関するものである。
従来の半導体モジュールとしては、メモリの容量を大きくするために、基板に複数の半導体チップを積層しているものがあった(例えば、特許文献1参照)。図11は、特開2002−9227号公報に記載された従来の実施形態を示すものである。
図11の実施形態は、インタポーザ基板(中間実装基板)510の少なくとも片面に半導体チップ211を実装したものを、スペーサ基板512を介して互いに積層した構成となっている。しかしながら、図11の実施形態では、中間実装基板が存在するために、半導体モジュールの高密度化を妨げるという問題を有している。
実装密度を高めるためには、半導体装置を搭載する実装基板を少なくして、実装基板に搭載する半導体チップ211の数を増やすことが必要である。実装基板を少なくして、実装基板に搭載する半導体チップ211の数を増やす方法として、実装基板に対して、半導体装置を、立設もしくは斜めに実装するものがあった(例えば、特許文献2参照)。図12は、特開平10−335374号公報に記載された従来の実施形態を示すものである。
図12において、半導体チップ211の回路形成面の接続部に外部接続端子104を設けてあった。この外部接続端子には折曲部105が設けてあり、この折曲部を垂立するように半田付けすることによって、立設もしくは斜めに実装することが可能となっている。
特開2002−9227号公報 特開平10−335374号公報
しかしながら、前記従来の構成では、半導体モジュールの高さは、半導体チップの高さと実装基板の厚みと外部接続端子の高さの合計によって決定される。したがって、外部接続端子が存在することによって、半導体チップと実装基板との間に接続のための空間が必要になり、半導体モジュールの低背化を妨げるという課題を有していた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、半導体装置の実装密度を大きくしつつ低背化を図った高容量かつ小型な半導体モジュールを提供することを目的とする。
上記目的を解決するために、回路形成面を有する半導体チップと前記半導体チップ上に設けられた複数の突起電極とからなる半導体装置を、複数の電極部を備えた基板上に前記回路形成面が対向するように傾けて、前記複数の突起電極と前記複数の電極部を電気的に接続した半導体モジュールであって、前記半導体装置を複数個並設し、隣り合う前記半導体装置を、前記複数の突起電極の配設方向に前記複数の突起電極の間隔の4分の1から4分の3までの間でずらして配設したことを特徴とする半導体モジュールを用いる。
以上のように、本発明の半導体モジュールにおいて、半導体装置を実装基板に半導体チップの回路形成面上で接続部が存在する一辺に直交する方向と実装基板のなす角が傾きθを有するように、基板上の電極部と電気的に接続させている。これにより実装状態における半導体モジュールの低背化及び高密度化を実現することができる。
以下本発明を図示の実施の形態によって説明する。
(実施の形態1)
図1(a)、(b)は、本発明の実施の形態1における複数の半導体装置209が実装基板210に実装された半導体モジュールを示す断面図及び斜視図であり、図2(a)、(b)は、半導体装置209の断面図及び斜視図であり、図3(a)、(b)及び図4(a)、(b)は、図1における複数実装された半導体装置209のうち、一個の半導体装置209を実装基板210に実装した状態を示す断面図及び斜視図であり、図6は、本実施の形態1の他の実施例を示す斜視図である。
図2(a)に示す半導体装置209は、大略すると半導体チップ211、突起電極212、保護部材213により構成されている。半導体チップ211は高速メモリとして機能するものであり、かつそのメモリ容量は例えば1チップで128Mb以上を実現できる高容量のメモリチップである。この半導体チップ211の片側はメモリ回路が形成された回路形成面となっており、また回路形成面の一辺(同図における下辺)には、複数の接続部215が並設された構成とされている。この接続部215は電極パッドであり、その上部には各々突起電極212が形成されている。
突起電極212は、半導体チップ211の回路形成面上で半導体チップ211の接続部215が存在する一辺に直交する方向と実装基板210のなす角が傾きθを有するように、基板上の電極部214と電気的に接続されている。これにより実装状態における半導体モジュールの低背化及び高密度化を図ることができる。さらに外部接続端子を介さず、突起電極212と電極部214を電気的に接続しているので、電送系路による損失が少なくなる。また図11に示す積層型の半導体モジュールと比べて各電極部214の離間距離が短くなる。したがって処理速度の高速化も実現できる。なお、本発明は低背化、高密度化及び処理速度の高速化を実現するのに前記傾きθが鋭角において効果を有する。すなわち、傾きθが鋭角以外だと、突起電極212と電極部214を直接、電気的に接続が困難となるからである。さらに、半導体モジュールを包含する外部パッケージの制約と実装密度の関係から前記傾きθを2度〜10度に設定することが望ましい。なお突起電極212は、ワイヤーボンデイング、メッキ法などで作製できる。
保護部材213は、上記構成とされた半導体チップ211の回路形成面に配設されている。この保護部材213は、例えばポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等の絶縁性を有した液状コーティング材を、例えばスピンコート、ポッティング、スクリーン印刷、或いはトランスファーモールド等を用いて形成を適用することが可能である。なお、液状コーティング材でなく、絶縁性シート、テープを用いることもできる。液状コーティングまたは、シート、テープは、全面に必要ではなく、部分的にあってもよい。中央にのみ形成すると、材料費が安くできる。一方、半導体チップ211のコーナー部分に設けると、コーナーの欠けなども防ぐことができる。
本実施例における保護部材213は、前記した接続部215が形成されている部位には配設されてはおらず、よって接続部215の形成位置は半導体チップ211が露出した露出部216とされている。しかるに、保護部材213は、少なくとも回路形成面の回路が形成された部位は確実に被覆し保護する構成とされている。これにより、半導体チップ211において最もデリケートな部分である回路形成領域は保護部材213により保護されているため、半導体装置209の信頼性を向上させることができる。
続いて、上記構成とされた半導体装置209の実装形態について説明する。図3(a)は、半導体装置209を実装基板210の実装位置に、半導体チップ211の回路形成面上で半導体チップ211の接続部215が存在する一辺に直交する方向と、実装基板210のなす角が傾きθを有するように実装し、半導体チップ211の接続部215、突起電極212、実装基板210の接続部215を覆うように封止樹脂217によって封止した実装形態を示している。この接続方法としては、例えば、異方性導電性膜、導電性接着剤を用いた圧設工法や、熱圧着工法を適用することができる。
実装基板210は、半導体装置209に配設されている各々の突起電極212と電気的に接続する電極部214が配設されている。さらに各々の電極部214から配線が実装基板210になされている。本実装形態では、任意の基板を選択することが可能である。具体的には、実装基板210として、プリント配線基板、フレキシブル回路基板、セラミック回路基板、Tabテープ等の種々の基板を用いることが可能であり、また基板構造としては単層配線基板を用いることも、また多層配線基板を用いることも可能である。
封止樹脂217は、例えばエポキシ系樹脂等の絶縁性を有した液状封止材を適用することができる。また封止樹脂217を供給する方法としては、例えば注入を用いることが可能である。半導体チップ211の接続部215、突起電極212、実装基板210の露出部216を覆うように封止樹脂217によって封止することによって、半導体チップ211の回路形成面の全てが被覆された状態となり、半導体装置209の信頼性をさらに向上させることが可能となる。また、半導体チップ211と実装基板210の接続部215を機械的に接続することとなり、封止樹脂217がない場合と比べ、突起電極212にかかる応力が分散され、機械的強度を増すことができる。
続いて、半導体装置209の別の実施形態について説明する。図4(a)は、半導体装置209と実装基板210との間に、半導体装置209または実装基板210に加わる力によって、半導体装置209を支える半導体支持部材321を配設したことを特徴とする実装形態を示している。この半導体支持部材321は、例えば熱可塑性を有し接着剤として機能する樹脂を用いる構成としてもよく、また絶縁性材料により半導体支持部材321を形成し、これを接着剤で半導体装置209及び実装基板210に接着する構成としてよい。
かかる構成によれば、図3(a)に示す実施形態に比べ、半導体装置209の実装時や、半導体モジュールの実環境での使用時に突起電極212に加わる応力がさらに分散され、機械的強度を向上させることが可能となる。なお半導体支持部材321の形状は、応力の関係から図5のような形状にするとより一層機械的強度を高めることが可能となる。図5では、半導体支持部材321の形状が弓矢状、または、凹状の外形をもつ構造となっているので、応力の緩和に効果がある。図4(a)と図5とを比較すると、半導体装置209に圧力がかかると、図4(a)の場合、直接、バンプ212に力がかかり、接続安定性を損ねる。一方、図5の場合、力が緩和させ、接続安定性がよい。
図1(a)に示す実施形態は、図2(a)に示す半導体装置209を少なくとも2個、実装基板210に並設して上記に示した方法で実装し、構成したものである。まず、図4(a)に示す実装形態のように、半導体支持部材321を配設し、半導体装置209を実装する。続いて図3(a)に示す実装形態のように半導体装置209を実装する。この図3(a)に示す実装形態を所定の回数繰り返すことによって、本実装形態を実現する。このように、複数の半導体装置209を傾けて併設し実装する構成とすることにより、各々の基板上の各電極部214の離間距離が短くなるため処理速度が高速になり、かつ全体形状を小さく維持することが可能となる。したがって、高容量で高速の半導体モジュールを実現することができる。
また、各々の半導体装置209の実装前、既に実装基板210に実装されている半導体チップ211の非回路形成面、またはこれから実装する半導体装置209の保護部材表面に接着剤を塗布する、または、各々の半導体装置209が実装された後、接着剤を注入し、各々の半導体装置209を固定する構成とすることによって、機械的強度を増すことができる。さらに保護部材213の材料に接着性を有する材料を用いることによって、接着剤を用いて接着する構成に比べて、半導体装置209の実装密度を向上させるとともに、部品点数の削減及び組立作業の簡略化を図ることができる。さらに、封止樹脂217は、全ての半導体装置209を実装した後に、一括して注入することにより、組立作業の簡略化及び半導体モジュールを製造する時間を短縮することができる。
なお、本実施の形態において、半導体チップ211の接続部215に突起電極212を形成し、圧接工法や熱圧着工法によって実装基板210に実装する構成としたが、ハンダ材料を半導体チップ211の接続部215、または、実装基板210の電極部214に、例えば印刷、または塗布によってハンダを供給し、熱プロセスを加え、ハンダ付けを行うことによって実装することも可能である。
なお、本実施の形態において、半導体装置209の突起電極212の配設されている一辺に直交する一端面(半導体チップ端面208)が同一平面上になるように配設した構成としたが、図6に示す実施形態のように、半導体チップ端面208が同一平面上にない構成とすることも可能である。図6では、半導体装置209が、実装基板210の幅の約半分の大きさで、並列に配列されている。実装基板210に対して、小さい半導体装置209を配置するので、実装基板210上を空きスペースなく、半導体装置209を配置できる。なお、大きさは半分でなくとも小さくてもよい。実装基板210の幅の整数分の1であれば効率的に配置できる。
(実施の形態2)
図7は、本発明の実施の形態2における複数の半導体装置209が実装基板210に実装された半導体モジュールを示す断面図である。図7において、図1〜図4と同じ構成要素については同じ符号を使い、説明を省略する。
図7の実施形態は、実装基板210の各々の面に少なくとも2個の半導体装置209を実装基板210の両面に配設した構成を示している。まず、図1(a)に示す実装形態によって実装基板210の一方の面に、少なくとも2枚の半導体装置209を実装する。続いて、実装基板210の他方の面に、少なくとも2枚の半導体装置209を同様に実装することによって、本実装形態を実現する。
かかる構成によれば、図11の実装形態による半導体装置209を積層した構成よりも、実装基板1枚分の低背化が図れるとともに、積層した半導体装置間の実装回路を電気的に接続するための部品及び工程が不要となる。
なお、図7に示す実装形態において、実装基盤210の上の半導体装置209と実装基板210の下の半導体装置209が平行となるように示しているが、半導体装置209と実装基板210の傾きθが、上下で異なる構成を選択してもよい。これにより基板の両面の実装密度を調整することが可能となり、外部パッケージ411の制約が基板の両面で異なる場合にも対応することができる。
また図8(a)(b)に示す外部端子410がついた実施形態の場合、図8(b)のように半導体装置209を外部端子410と反対方向に傾けるとさらによい。すなわち外部パッケージ411の制約から外部端子410と同じ方向に傾けるよりも、電極部214と外部端子410との離間距離a−a´が短くなるため、より一層の処理速度の高速化が望まれる。
(実施の形態3)
図9は、本発明の実施の形態3における複数の半導体装置209が実装基盤210に実装された半導体モジュールを示す斜視図である。図9において、図1〜図4と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
図9の実施形態は、隣り合う半導体装置209の実装位置を突起電極212の配設方向に、突起電極212の間隔の4分の1から4分の3までの間で、ずらして配設した構成を示している。
かかる構成によれば、半導体チップ211に配設されている突起電極212の半導体チップ平面に水平な断面形状は円状の形状であるため、隣り合う半導体装置209の実装位置を突起電極212の配設方向に、突起電極212の間隔の4分の1から4分の3までの間で、ずらして配設することにより、図1(a)に示す実装形態に比べ各電極部214の離間距離が縮まる。したがって、突起電極212の大きさに制約されずに、より一層の高密度化及び処理速度の高速化を実現することができる。突起電極212の大きさを小さくすると、接続の安定性に欠ける。また、突起電極212を小さく形成する困難差もある。
なお、規格化されたメモリモジュール、メモリカードにおいては、その大きさが規格化されており、上記記載の構造は、特に有効である。メモリカードでは、メモリIC以外に、コンデンサー、抵抗、制御IC、外部接続電極が必要であり、これらの部材を上記の構造の空き空間に設置すればよい。たとえば、図10に示す構造にすれば、高密度に実装できる。実装基板210の面に対して、斜めに実装された半導体装置209とその半導体装置209と実装基板210の間に、制御IC603、または、コンデンサー601や抵抗602を設置し、外部端子410を実装基板210の裏面に設けるととてもコンパクトな構造になる。外部パッケージ411に、半導体装置209を斜めに実装する場合、その間をなす角度θは、約2度以上10度以下になる。好ましくは、3度以上7度以下がよい。コンパクトに半導体装置209が、外部パッケージ411内に設置できる。
メモリカードはこのタイプ限定されるわけでなく、外部パッケージ411が樹脂で完全にモールドされているものなどいろいろなタイプのものに適用できる。また、半導体チップ211の上面で、外部パッケージ411との間の空間を利用して、制御IC603、コンデンサー601、抵抗602などを設置してもよい。また、この空間をデザインのため、カット、削除してもよい。または、逆に、この部分の厚みを厚くして、外部端子410と、対応すべき他の機器の端子との接触が安定するようにしてもよい。
本発明にかかる半導体モジュールにおいて、半導体装置を実装基板に半導体チップの回路形成面上で接続部が存在する一辺に直交する方向と実装基板のなす角が傾きθを有するように、基板上の電極部と電気的に接続させている。これにより実装状態における半導体モジュールの低背化及び高密度化を実現することができ、半導体装置を実装する空間が限られたメモリーカード等の高容量化の用途にも適用できる。
本発明の実施の形態1における複数の半導体装置209が実装された構成を示す(a)断面図(b)斜視図 半導体装置209を示す(a)断面図(b)斜視図 図1における複数実装された半導体装置209のうち、一個の半導体装置209を実装基板210に実装した状態を示す(a)断面図(b)斜視図 図1における複数実装された半導体装置209のうち、一個の半導体装置209を実装基板210に実装した状態を示す(a)断面図(b)斜視図 図4における別の実施の形態の半導体モジュールの断面図 本発明の実施の形態1の他の実施例を示す斜視図 本発明の実施の形態2における複数の半導体装置209を実装基板210の両面に実装した構成を示す断面図 本発明の実施の形態2の他の実施例で、半導体装置209が外部端子410と(a)対向しないように傾いた断面図(b)対向するように傾いた断面図 本発明の実施の形態3における複数の半導体装置209が実装基盤210に実装された半導体モジュールを示す斜視図 本願発明のメモリモジュールの断面図 従来の半導体モジュールの縦断面図 従来の他の半導体モジュールの縦断面図
符号の説明
209 半導体装置
210 実装基板
211 半導体チップ
212 突起電極
213 保護部材
214 電極部
215 半導体チップ211の接続部
216 実装基板210の露出部
217 封止樹脂
321 半導体支持部材
410 外部端子
411 外部パッケージ
510 インタポーザ基板
512 スペーサ基板
513 ベース基板

Claims (1)

  1. 回路形成面を有する半導体チップと前記半導体チップ上に設けられた複数の突起電極とからなる半導体装置を、複数の電極部を備えた基板上に前記回路形成面が対向するように傾けて、前記複数の突起電極と前記複数の電極部を電気的に接続した半導体モジュールであって、
    前記半導体装置を複数個並設し、隣り合う前記半導体装置を、前記複数の突起電極の配設方向に前記複数の突起電極の間隔の4分の1から4分の3までの間でずらして配設したことを特徴とする半導体モジュール。
JP2005058776A 2005-03-03 2005-03-03 半導体モジュール Expired - Fee Related JP4674477B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005058776A JP4674477B2 (ja) 2005-03-03 2005-03-03 半導体モジュール

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005058776A JP4674477B2 (ja) 2005-03-03 2005-03-03 半導体モジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006245278A JP2006245278A (ja) 2006-09-14
JP4674477B2 true JP4674477B2 (ja) 2011-04-20

Family

ID=37051376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005058776A Expired - Fee Related JP4674477B2 (ja) 2005-03-03 2005-03-03 半導体モジュール

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4674477B2 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217996A (ja) * 1988-02-26 1989-08-31 Hitachi Ltd 電子装置
JPH06291248A (ja) * 1993-04-05 1994-10-18 Toshiba Corp 半導体装置
JPH09326543A (ja) * 1996-06-04 1997-12-16 Hitachi Ltd 電子部品
JPH11186489A (ja) * 1997-12-17 1999-07-09 Hitachi Ltd 半導体装置およびそれを用いた電子装置
JP2001035992A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法および半導体装置、ならびに半導体基板、電子機器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01217996A (ja) * 1988-02-26 1989-08-31 Hitachi Ltd 電子装置
JPH06291248A (ja) * 1993-04-05 1994-10-18 Toshiba Corp 半導体装置
JPH09326543A (ja) * 1996-06-04 1997-12-16 Hitachi Ltd 電子部品
JPH11186489A (ja) * 1997-12-17 1999-07-09 Hitachi Ltd 半導体装置およびそれを用いた電子装置
JP2001035992A (ja) * 1999-07-22 2001-02-09 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法および半導体装置、ならびに半導体基板、電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006245278A (ja) 2006-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100390966B1 (ko) 반도체 장치
TW515078B (en) Semiconductor device and method of manufacture thereof, circuit board, and electronic machine
US8294283B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2003133518A (ja) 半導体モジュール
US20100187690A1 (en) Semiconductor device
KR20080073739A (ko) 적층형 마이크로전자 패키지
US20060138630A1 (en) Stacked ball grid array packages
JPH01217996A (ja) 電子装置
KR20100112446A (ko) 적층형 반도체 패키지 및 그 제조 방법
KR20190017096A (ko) 반도체 패키지
KR102160786B1 (ko) 반도체 패키지
US7902664B2 (en) Semiconductor package having passive component and semiconductor memory module including the same
JP2002033442A (ja) 半導体装置、回路基板及び電子機器
JPH07115151A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US11239145B2 (en) Electronic component module
WO2000019515A1 (fr) Dispositif semi-conducteur et procede de fabrication de celui-ci, carte de circuit imprime et equipement electronique
JP2008113894A (ja) 半導体装置及び、電子装置
JP4674477B2 (ja) 半導体モジュール
KR100546359B1 (ko) 동일 평면상에 횡 배치된 기능부 및 실장부를 구비하는 반도체 칩 패키지 및 그 적층 모듈
KR101489678B1 (ko) 전자부품 실장구조 중간체, 전자부품 실장구조체 및 전자부품 실장구조체의 제조방법
KR20080020137A (ko) 역피라미드 형상의 적층 반도체 패키지
KR20110091186A (ko) 반도체 칩 및 이를 갖는 적층 반도체 패키지
KR100592784B1 (ko) 멀티 칩 패키지
JP4716836B2 (ja) 半導体装置
KR20080074654A (ko) 적층 반도체 패키지

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070907

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20071012

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080331

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20091120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100727

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101228

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110110

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140204

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140204

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees