JP4652327B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
101 処理容器
102 第1の空間
103,103A,103B 第2の空間
104,104A,104B シールド板
104a,104b ヒータ
105,106 第2の排気口
107,108 排気溝
109,112,142 排気ライン
110,111 バルブ
113 排気手段
114 処理ガス供給部
114A 処理ガス導入口
114B 処理ガス通路
114C ガス穴
115 プラズマガス供給リング
116 透過窓支持部
117 アンテナフランジ
118 マイクロ波透過窓
119 シールリング
120 保持台
120A ヒータ
121 保持台支持
122 密封手段
130 ラジアルラインスロットアンテナ
131 同軸導波管
131A 導波管
131B 中心導体
132 アンテナ本体
133 冷却水通路
134 遅相板
135 スロット板
135a,135b スロット
140 シャワーヘッド
141 排気口
143 ガス溝
144 ガス供給ライン
151 ガス溝
152 ガス穴
200 制御装置
Claims (12)
- 内部に被処理基板を保持する処理容器と、
前記処理容器内に処理のためのガスを供給するガス供給手段と、
前記処理容器内に設けられた、前記被処理基板を保持する保持台と、
前記処理容器内の空間を第1の空間と第2の空間に分離するシールド板と、
を有する基板処理装置であって、
前記第1の空間を排気する第1の排気経路と、
前記第2の空間を排気する第2の排気経路と、
前記処理容器内を排気する排気経路として、前記第1の排気経路および前記第2の排気経路のうち、いずれかが用いられるように切替えることを可能とする、排気経路切替手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1の空間は、前記保持台と前記シールド板の間に形成される空間であることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記第2の空間は、前記シールド板と前記処理容器の内壁面の間に形成される空間を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記第2の空間は、前記シールド板と前記保持台を支持する支持部との間に形成される空間を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記排気経路切替手段は、前記第1の排気経路に設けられた第1のバルブと、前記第2の排気経路に設けられた第2のバルブを含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記第1のバルブは、排気コンダクタンスが調整可能なコンダクタンス可変バルブであることを特徴とする請求項6記載の基板処理装置。
- 前記第1の排気経路は、前記処理容器に設けられた第1の排気口を含み、前記第2の排気経路は、前記処理容器に当該第1の排気口とは独立に設けられた第2の排気口を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 内部に被処理基板を保持する処理容器と、
前記処理容器内に処理のためのガスを供給するガス供給手段と、
前記処理容器内に設けられた、前記被処理基板を保持する保持台と、
前記処理容器内の空間を第1の空間と第2の空間に分離するシールド板と、を有する基板処理装置であって、
前記第1の空間を排気する第1の排気経路と、
前記第2の空間を排気する第2の排気経路と、を有し、
前記第2の排気経路は、前記処理容器内の空間を画成する、当該処理容器の壁部の内部に設けられた排気溝を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理容器内にプラズマを励起する、プラズマ励起手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記プラズマ励起手段は、前記処理容器上に設けられた、ラジアルラインスロットアンテナであることを特徴とする請求項10記載の基板処理装置。
- 前記ガス供給手段は、第1のガス供給手段と、当該第1のガス供給手段とは独立に前記処理容器内にガスを供給する第2のガス供給手段からなることを特徴とする、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記シールド板には、当該シールド板を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
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