JP4648051B2 - 可撓性カラーフィルター基板及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置等に使用されるカラーフィルター基板の製造方法に係り、特に、プラスチックフィルム基材を使用した薄型軽量のカラーフィルター基板の製造方法に関する。

近年、表示装置の薄型軽量化のために、基板として、従来のガラス基板に替わり、プラスチックフィルムが用いられつつある。プラスチックフィルムとしては、ポリカーボネートやポリエーテルスルホン等が用いられるが、これらのプラスチックは単独ではガス透過性を有する。そのため、空気や水蒸気の侵入による表示装置の表示不良発生を防止するために、プラスチックフィルムにガスバリア層を併用することが必要である。

ガスバリア層の種類としては、ポリビニルアルコールやポリ（エチレンビニルアルコール）などのポリマーの溶液を塗布して成膜したもの、酸化ケイ素やアルミナの無機薄膜を蒸着，スパッタリング，ＣＶＤ等により成膜したものが提案されている。更に、無機物質からなるバリア層上に樹脂でオーバーコートを行うことによりバリア性が向上することが知られている。

一方、カラーフィルターは、耐熱性等の向上のため、カラーフィルターに用いる樹脂として、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂を用いることが提案されている（例えば、特許文献１〜５参照）。

特許文献１〜５に示されたカラーフィルターのうち、受像層及び着色層が熱硬化型樹脂である場合には、受像層及び着色層は加熱により硬化されるが、この加熱処理により、基材の寸法変化が生じ、遮光層と着色層との位置ずれが生じるおそれがある。また、受像層及び着色層が光硬化型樹脂である場合には、残存する光重合開始剤の影響で、着色層の色が変化するおそれがある。
特開平８−２２０３３５号公報 特開２００１−６６４１３号公報 特開２００１−６６４１５号公報 特開２００２−１８２０２８号公報 特開２００２−２８６９２５号公報

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、表示装置の薄型軽量化が可能であり、着色層の密着性及びガスバリア性に優れているとともに、着色層の色変化が無く、寸法安定性に優れた可撓性カラーフィルター基板の製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明の第１の態様は、プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上にパターン状遮光層を形成する工程、前記パターン状遮光層が形成された前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、前記受像層上の少なくとも前記パターン状遮光層の開口部に対応する部分に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、及び前記受像層及び着色層に電子線を照射して一括して硬化させる工程を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法を提供する。

本発明の第２の態様は、プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、前記受像層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、前記受像層及び着色層に電子線を照射して一括して硬化させる工程、及び前記パターン状着色層の間隙にパターン状遮光層を形成する工程、を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法を提供する。

本発明の第３の態様は、プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、前記受像層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、前記パターン状着色層の間隙に電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含むパターン状遮光層を形成する工程、及び前記受像層、着色層、及びパターン状遮光層に電子線を照射して一括して硬化させる工程を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法を提供する。
以上のように構成される本発明の第１〜第３の態様に係る可撓性カラーフィルター基板の製造方法において、基材は、８０％以上の全光線透過率を有するものであることが望ましい。

プラスチックフィルムは、３０℃〜１５０℃において４０ｐｐｍ／℃以下の線膨張係数を有するものであることが望ましい。また、プラスチックフィルムとしては、架橋型樹脂を用いることが望ましい。この場合、架橋型樹脂としては、エポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂を挙げることが出来る。なお、プラスチックフィルムとして、樹脂と無機物からなるもの、例えば、樹脂と無機物との複合材料を用いることも出来る。

ガスバリア層は、無機物質、例えば、Ｓｉ、Ｔａ、及びＡｌからなる群から選ばれる１種以上を含む化合物を主成分とするものとすることが出来る。この場合、化合物としては、酸化物、窒化物、及び酸化窒化物を挙げることが出来る。

受像層及び着色層は、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含むことが望ましい。

パターン状遮光層は、電子線の照射により硬化するものであることが望ましい。

以上のような可撓性カラーフィルター基板において、プラスチックフィルム、ガスバリア層、パターン状遮光層、受像層、及び着色層のそれぞれ隣接する層間の密着性は、ＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験結果が分類０又は分類１であることが望ましい。

基材は、プラスチックフィルムとガスバリア層の間にアンダーコート層を有するものとすることが出来る。この場合、プラスチックフィルム、アンダーコート層、ガスバリア層、パターン状遮光層、受像層、及び着色層のそれぞれ隣接する層間の密着性は、ＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験結果が分類０又は分類１であることが望ましい。

以上説明した可撓性カラーフィルター基板は、０．２ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ以下の水蒸気透過率を有することが望ましい。

以上のように構成される本発明の第１〜第３の態様に係る可撓性カラーフィルター基板の製造方法は、ロール・ツー・ロールで行うことが出来る。

本発明によれば、表示装置の薄型軽量化が可能であり、着色層の密着性及びガスバリア性に優れているとともに、着色層の色変化が無く、寸法安定性に優れた可撓性カラーフィルター基板を低コストで容易に得ることが出来る。

以下、発明を実施するための最良の形態について説明する。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板は、プラスチックフィルム上に、ガスバリア層、パターン状遮光層、受像層、及び着色層を順次形成し、或いは、プラスチックフィルム上に、ガスバリア層、受像層、着色層及びパターン状遮光層を順次形成し、受像層及び着色層を、又は受像層、着色層及びパターン状遮光層を、電子線の照射により一括して硬化させたものである。

このような本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板では、プラスチックフィルム上に、ガスバリア層、パターン状遮光層、及び受像層が相互に直接接しているため、それらの間の密着性が良好である。

また、インク受像層上に着色層形成インクを適用してインクジェット印刷法により着色層を形成することにより、着色層形成インクの成分がインク受像層に吸収され、インク受像層と着色層との間に明確な界面を形成させないことから、インク受像層と着色層との密着性が向上する。

更に、受像層及び着色層として、又は受像層、着色層及びパターン状遮光層として、電子線で硬化する材料を用いており、それらを電子線の照射により一括して硬化させているため、熱硬化型や光硬化型の材料を用いた場合に生ずる寸法変化や色変化が生ずることがない、特性の安定性に優れたカラーフィルター基板を得ることができる。

以下、本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板について、詳細に説明する。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板に用いるプラスチックフィルムは、全光線透過率が８０％ないし１００％であることが好ましい。このようなプラスチックフィルムの材質の例として、ポリエチレンテレフタレート，ポリエチレンナフタレート，ポリメチルメタクリレート，ポリカーボネート，ポリスルホン，ポリエーテルスルホン，ポリシクロオレフィン，アクリル系架橋性樹脂，エポキシ系架橋性樹脂架橋性樹脂，不飽和ポリエステル系架橋性樹脂などの樹脂が挙げられる。また、樹脂と無機物を複合して用いると、線膨張係数を低減することができることから好ましい。好ましくは線膨張係数を４０ｐｐｍ／℃以下、より好ましくは０．１ないし３０ｐｐｍ／℃とした場合に、無機薄膜との線膨張率の差による加熱プロセス時の反りを小さく抑えることができることから好ましい。この場合の無機物の例を挙げると、シリカ，アルミナ，ガラスなどである。これらの無機物は、粒子状のものが好ましく用いられ、その平均粒径は０．０１μｍないし１０μｍであることが好ましい。

プラスチックフィルムの厚さは、例えば幅０．１ｍ、長さ１０ｍのロール基板の場合、１０μｍないし３００μｍにすることができる。厚さの範囲が上記範囲外であると、ロール・ツー・ロールプロセスによる加工が困難となる傾向がある。

また、本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板において、プラスチックフィルムとガスバリア層の間にアンダーコート層を設けることができる。プラスチックフィルムとガスバリア層の種類によっては、アンダーコートを用いることによりガスバリア層の密着性がより向上する場合がある。アンダーコート層として好ましいものの例を挙げると、アクリル系架橋性樹脂，エポキシ系架橋性樹脂などが挙げられる。

プラスチックフィルム、アンダーコート、及びガスバリア層の好ましい組み合わせとして、例えばポリエーテルスルホン／アクリル系架橋性樹脂／ケイ素酸化物、アクリル系架橋性樹脂／アクリル系架橋性樹脂／ケイ素酸化物、エポキシ系架橋性樹脂／エポキシ系架橋性樹脂／ケイ素アルミニウム酸化窒化物等が挙げられる。

アンダーコート層の厚さは、例えば０．１μｍないし１０μｍにすることができる。０．１μｍ未満では、ガスバリア層の密着性を向上させる効果が得られなくなる傾向があり、１０μｍを超えると、可撓性が低くなる傾向がある。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板におけるガスバリア層として用いることができる無機材料の例として、Ｓｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｃｕ，Ｃｅ，Ｍｇ，Ｌａ，Ｃｒ，Ｃａ，Ｚｒ，及びＴａから選ばれる１種以上を含む酸化物、窒化物、酸化窒化物またはハロゲン化物を主成分とするものなどが挙げられる。

ガスバリア層は１層または２層以上であってもよく、連続成膜されていても良い。

また、ガスバリア層の厚さは、例えば２０ｎｍないし２００ｎｍにすることができる。２０ｎｍ未満であると、ガスバリアの効果が得られなくなる傾向があり、２００ｎｍを超えると、可撓性が低くなる傾向がある。

ガスバリア層として用いることができる無機材料は、好ましくはＳｉ，Ｔａ，及びＡｌから選ばれる１種または２種以上を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物である。これらの無機材料を用いると、ガスバリア性と透明性を両立し易いという利点がある。

かかるガスバリア層は、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどのＰＶＤ法、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着法またはゾルゲル法などで作製することができるが、中でもスパッタリングで作製することが好ましい。

ガスバリア層の成膜工程は、枚葉あるいはロール・ツー・ロールいずれにも適用可能である。プラスチックフィルム上で成膜を行うため、ロール・ツー・ロールで行うことが、生産性が向上するために好ましい。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板は、ガスバリア特性として、０ないし０．２ｇ/ｍ^２・２４時間の水蒸気透過率を有することが好ましい。水蒸気透過率が０．２ｇ/ｍ^２・２４時間より大きいと、湿熱条件下で表示セル中に気泡が混入しやすくなり、不良の原因となる。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板において、パターン状遮光層は、ガスバリア層と受像層との間に、或いは着色層上に設けられる。そのパターン形状は、格子状あるいはストライプ状等である。パターン状遮光層は、着色層の各パターンの間隙に、着色層の各パターンの周囲を囲うように形成され、これにより、表示装置における着色層の表示色の混色を防ぎ、画像のコントラストを上げることができる。また、パターン状遮光層は、全面ではなく部分的に形成されるので、パターン状遮光層を設けても、ガスバリア層とインク受像層は、その少なくとも一部が直接接している。

ガスバリア層とインク受像層間にパターン状遮光層を設けると良好な密着性が得られ、特に、パターン状遮光層が金属膜のようにガスバリア層と連続成膜できる材質の場合、製造コストの削減が可能となる。

パターン状遮光層の形成材料としては、黒色遮光材、樹脂、及び溶媒を主成分とし、任意に分散剤等を配合した黒色樹脂組成物等を使用することができる。さらに、光重合性モノマー、光重合開始剤などを混合し、感光性をもたせた黒色樹脂組成物を好適に使用することができる。

黒色遮光材としては、黒色顔料、黒色染料、及び無機材料などがあげられ、例えば黒色有機顔料、カーボンブラック、アニリンブラック、黒鉛、酸化チタン、及び鉄黒からなる群から選択される１種または２種以上を混合して用いることができる。

また、分散剤の例としては、非イオン性界面活性剤例えばポリオキシエチレンアルキルエーテルなど、また、イオン性界面活性剤例えばアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、及びテトラアルキルアンモニウム塩など、その他、有機顔料誘導体、及びポリエステルなどが挙げられる。分散剤は一種類を単独で使用してもよく、また、二種類以上を混合して使用してもよい。

溶媒は、黒色樹脂組成物の塗布性、分散安定性などの点から、適宜選択して使用され、例えばトルエン、キシレン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジクライム、シクロヘキサノンなどが挙げられる。

以上説明した感光性黒色樹脂組成物を塗布し、フォトリゾグラフィによりパターニングすることにより、パターン状遮光層を形成することが出来る。

他の遮光層材料としては、金属ＣｒまたはＣｒ基合金の蒸着膜またはスパッタリング膜を使用することができる。金属ＣｒまたはＣｒ基合金からなる遮光層は、優れた耐食性および遮光性を有している。

また、パターン状遮光層の形成方法としては、蒸着またはスパッタリングにより形成された遮光層上に、フォトリゾグラフィによりレジストパターンを形成し、これをマスクとしてエッチングすることにより微小開口部分を有する格子状パターン膜を成形する方法が挙げられる。

更に、遮光層の反射率が高いと外部からの反射光が表示画像のコントラストを低下させるので、画像を一層見やすくするために、基材と遮光層の間にＣｒＯ，ＣｒＮなどの化合物薄膜からなる低反射膜を形成することも可能である。

或いはまた、パターン状遮光層の形成材料として、電子線硬化性化合物を含む、電子線硬化性を有するものを用いることが出来る。

電子線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等を用いることが出来る。電子線硬化性化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることが出来る。これらの化合物は、単独で、叉は２種以上を混合して用いることが出来る。

パターン状遮光層の厚さは、例えば、黒色樹脂組成物からなる場合、好ましくは０．５μｍないし３．０μｍである。０．５μｍ未満では、十分な遮光性を得にくく、３．０μｍを超えると、カラーフィルタ形成時の表面平滑性が低下する傾向となる。

あるいは、パターン状遮光層が、例えばクロム金属またはクロム系合金からなる場合、その厚さは、好ましくは０．０５μｍないし０．５μｍである。０．０５μｍ未満では、十分な遮光性を得にくく、０．５μｍを超えると、可撓性が低下する傾向となる。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板では、着色層の下地としてインク受像層が設けられている。そのため、着色層を形成するための材料をインクジェット用インクとして調製し、インクジェット印刷機に適用して、このインク受像層上に、着色層を容易に形成することができる。インクジェット印刷技術では、少なくともインクジェット印刷機を用いてインク受像層上にインクを塗布する工程のみで着色層を形成することが出来るが、フォトリソ法では、着色層の塗布工程の他、露光工程、及び現像工程等が必要となり、３色の着色層を得るためには、これらの工程をさらに３回繰り返すことから、フォトリソ法に比べて、インクジェット印刷法を用いると、着色層の形成に必要な工程数を大幅に簡略化することができる。

本発明の一実施形態に係る可撓性カラーフィルター基板に使用されるインク受像層とは、電子線の照射により硬化可能であるとともに、インクジェット印刷装置に適用されるカラーフィルター形成インクに対し、インク中の溶剤を吸収し、良好な印刷性を付与する特性を有するものをいう。このため、カラーフィルター基板のインク受像層は、カラーフィルター形成インクを適用することにより、その少なくとも一部が着色層となる。

インク受像層は、例えば電子線硬化性化合物、溶媒、必要に応じて有機および無機微粒子などで構成された塗布液を使用して形成することができる。

インク受像層を構成する材料としては、電子線の照射により硬化するものであること、透明であること、受像したインク中の色材の定着性に優れること、また変色や褪色がないこと、諸耐性があることなどの性能が要求される。

インク受像層に含まれる電子線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等を用いることが出来る。電子線硬化性化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることが出来る。これらの化合物は、単独で、叉は２種以上を混合して用いることが出来る。

また、インクの吸収性を高めるために、透明性を損なわない範囲内で、インク受像層に微粒子（フィラー）を含有させることも有効である。フィラーとしては、無機微粒子では微粉末珪酸、有機微粒子ではアクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、及びフッソ樹脂などが挙げられる。透明性の点からは、アクリル樹脂が好ましい。また、フィラーの添加量は、インク受像層１００重量％に対し１〜１０重量％が好ましい。

インク受像層の塗布液に使用される溶媒としては、受像層組成物の塗布性、分散安定性などの点から、適宜選択して使用されるものであり、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジクライム、シクロヘキサノンなどが挙げられる。

インク受像層の厚さは、例えば０．３μｍないし１０μｍにすることができる。０．３μｍ未満では、溶剤の吸収性の低下に伴う印刷性の低下が生ずる傾向があり、１０μｍを超えると、溶剤の吸収性の増加に伴う印刷性の低下が生ずる傾向がある。

本発明の一実施形態に使用される着色層は、電子線で硬化可能な着色層形成インクを塗布し、電子線を照射することにより形成される。電子線で硬化可能な着色層形成インクには、例えば着色顔料、電子線硬化性化合物、溶媒、及び任意に分散剤等を配合することができる。

着色顔料の具体例としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ９、１９、３８、４３、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９２、２１５、２１６、２０８、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５、１５：６、１６、２２、２９、６０、６４、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ７、３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２０、２４、８６、８１、８３、９３、１０８、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６６、１６８、１８５、 Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ２３などを挙げることができる。 さらに、これらの顔料は要望の色相を得るために１種または２種以上を混合して用いることができる。

電子線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー等を用いることが出来る。電子線硬化性化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることが出来る。これらの化合物は、単独で、叉は２種以上を混合して用いることが出来る。

電子線硬化性着色層形成インクに使用される溶媒は、溶解性の他に経時安定性、乾燥性などが要求され、色素、電子線硬化性化合物との関係にて適宜選択される。このような溶媒として、例えば２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エトキシエチルアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、２−エトキシエチルエーテル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセテート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−フェノキシエタノール、及びジエチレングリコールジメチルエーテルなどを、必要に応じて１種または２種類混合して用いることができる。

また、色素の分散性を向上させるために、分散剤を用いることができる。分散剤としては、非イオン性界面活性剤例えばポリオキシエチレンアルキルエーテルなど、また、イオン性界面活性剤例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、及び脂肪酸塩アルキルリン酸塩、テトラアルキルアンモニウム塩など、その他に有機顔料誘導体、及びポリエステルなどが挙げられる。分散剤は単独で、あるいは二種類以上を混合して使用することができる。

本発明の一実施形態に係るカラーフィルター基板の製造に際しては、受像層及び着色層、或いは受像層、着色層及びパターン状遮光層は、電子線を照射することにより、一括して硬化される。電子線の照射装置としては、カーテンビーム型、エリアビーム型、ブロードビーム型、スキャニングビーム型、真空管型等の装置が挙げられる。電子線の加速電圧としては、好ましくは１５０ｋＶ以下、より好ましくは３０〜１００ｋＶであり、電子線の照射量は、好ましくは１０Ｍｒａｄ以下、より好ましくは１〜５Ｍｒａｄである。

また、本発明の一実施形態に係るカラーフィルター基板は、画素形成後、その耐性向上を目的として、着色層上に、さらにオーバーコート層を設けることも可能である。

また、本発明の一実施形態に係るカラーフィルター基板において、プラスチックフィルム−バリア層間、バリア層−インク受像層間の密着性はＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験の試験結果が分類０もしくは１であることが好ましい。

以下、本発明の実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。

実施例１
本発明の第１の実施例に係るカラーフィルター基板の製造工程について、図１を参照して説明する。

まず、厚さ１００μｍのポリエーテルスルホンからなるプラスチックフィルム１の両面に、コーターヘッド、乾燥炉、及び紫外線照射装置を備える塗工機を用いて、多官能アクリレート樹脂、光開始剤、及び溶剤からなる液を塗布し、溶剤を乾燥させた後、紫外線を照射して硬化させ、図１（ａ）に示すように、厚さ５μｍのアンダーコート層２ａ，２ｂを成膜した。このようにアンダーコート層２ａ，２ｂが成膜されたプラスチックフィルム１の全光線透過率は９０％であり、３０℃から１５０℃における線膨張係数は５５ｐｐｍであった。また、アンダーコート層２ａ，２ｂの密着性をＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験により評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、図１（ｂ）に示すように、ＤＣスパッタ成膜を行うスパッタロールコート装置により、酸素を反応ガスに用いたリアクティブスパッタ法で、Ｓｉをターゲットとして用いて、一方のアンダーコート層２ａ上に、膜厚５０ｎｍのＳｉＯ_x （ｘ＝１．８）を成膜し、ガスバリア層３とした。ガスバリア層３の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次いで、ガスバリア層３上に、コーターヘッドおよび乾燥炉を備える連続塗工機を用いて、光硬化型アクリル樹脂にカーボンブラックを分散させた感光性遮光層材料を、乾燥後の膜厚が１〜２μｍとなるように、ロール・ツー・ロールで連続塗布した。引き続き、露光装置および現像装置を備える連続パターニング装置を用いて、フォトマスクを介してパターニング露光し、現像を行った後、乾燥炉にて１５０℃で３０分間の加熱硬化を行い、図１（ｃ）に示すように、パターン状遮光層４を形成した。その密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、図１（ｄ）に示すように、このようにしてパターン状遮光層４が形成されたガスバリア層３上に、前記の塗工機を用い、電子線硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、インク受像層５を形成した。インク受像層５の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、パターン状遮光層４の開口部に対応するインク受像層５の部分上に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の電子線硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法によりＲ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層を形成した後、１００℃で５分間乾燥して、図１（ｅ）に示すように、カラーフィルター層６を形成した。

その後、電子線により受像層５およびカラーフィルター層６を一括硬化して、可撓性カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター層６の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

このようにして作成した可撓性カラーフィルター基板の上面図を図２に示す。この可撓性カラーフィルター基板の３０℃から１５０℃における線膨張係数は５５ｐｐｍであった。また、ＪＩＳＫ７１２９Ｂ法に基づき、４０℃９０％ＲＨ時の水蒸気透過率を測定したところ、０．０７ｇ／ｍ^２ ・２４ｈｒであった。また、１５０℃、１０時間の耐熱試験を行った結果、カラーフィルター層６の試験前後の濃度変化もなく、カラーフィルター層６は良好な耐性を有することを確認した。

実施例２
本発明の第２の実施例に係るカラーフィルター基板の製造工程について、図１を参照して説明する。

まず、多官能アクリレート樹脂３０重量％、無定形ガラスフィラー２０重量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル５０重量％を均一に分散した溶液を、ダイコーター、ステンレス製エンドレスベルト、及び乾燥炉を備えるフィルム成膜装置のステンレス製エンドレスベルト上にキャスティングし、乾燥炉中で１５０℃まで加熱して乾燥及び硬化させた後、エンドレスベルトから連続的に剥離し、更に連続乾燥炉で１７０℃まで加熱硬化して巻き取り、幅３０ｃｍ、長さ１００ｍ、厚さ１００μｍのプラスチックフィルムを得た。このプラスチックフィルムの全光線透過率は９０％であった。

このフィルム１の両面に、コーターヘッド、乾燥炉、紫外線照射装置を有する塗工機を用いて、多官能アクリレート樹脂、光開始剤、溶剤からなる液を塗布し、溶剤を乾燥した後、紫外線を照射して硬化し、図１（ａ）に示すように、アンダーコート層２ａ，２ｂを成膜した。アンダーコート層２ａ，２ｂの密着性を前記と同様にクロスカット試験により評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、図１（ｂ）に示すように、ＤＣスパッタ成膜を行うスパッタロールコート装置により、酸素を反応ガスに用いたリアクティブスパッタ法で、Ｓｉをターゲットとして用いて、アンダーコート２ａ上に、膜厚５０ｎｍのＳｉＯ_x （ｘ＝１．８）を成膜し、ガスバリア層３とした。ガスバリア層３の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次いで、ガスバリア層３上に、コーターヘッドおよび乾燥炉を備える連続塗工機を用いて、光硬化型アクリル樹脂にカーボンブラックを分散させた感光性遮光層材料を、乾燥後の膜厚が１〜２μｍとなるように、ロール・ツー・ロールで連続塗布した。引き続き、露光装置および現像装置を備える連続パターニング装置を用いて、フォトマスクを介してパターニング露光し、現像を行った後、乾燥炉にて１５０℃で３０分間の加熱硬化を行い、図１（ｃ）に示すように、パターン状遮光層を形成した。その密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、図１（ｄ）に示すように、このようにしてパターン状遮光層４が形成されたガスバリア層３上に、前記の塗工機を用い、電子線硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、インク受像層５を形成した。インク受像層５の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、パターン状遮光層４の開口部に対応するインク受像層５の部分上に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の電子線硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法により、Ｒ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層を形成した後、１００℃で５分間乾燥して、図１（ｅ）に示すように、カラーフィルター層６を形成した。

その後、電子線により受像層およびカラーフィルター層６を一括硬化して、可撓性カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター層６の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

このようにして作成した可撓性カラーフィルター基板の３０℃から１５０℃における線膨張係数は２７ｐｐｍであった。また、ＪＩＳＫ７１２９Ｂ法に基づき、４０℃９０％ＲＨ時の水蒸気透過率を測定したところ、０．０６ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであった。また、１５０℃、１０時間の耐熱試験を行った結果、カラーフィルター層６の試験前後の濃度変化もなく、カラーフィルター層６の良好な耐性を確認した。

実施例３
本発明の第３の実施例に係るカラーフィルター基板の製造工程について、図３を参照して説明する。

まず、脂環式エポキシ樹脂３２重量％、粒径５０ｎｍ以下の微小シリカフィラー１８重量％、及び溶剤５０重量％を均一に分散した溶液をダイコーター、ステンレス製エンドレスベルト、及び乾燥炉を備えるフィルム成膜装置のステンレス製エンドレスベルト上にキャスティングし、乾燥炉中で１５０℃まで加熱して乾燥及び硬化させた後、エンドレスベルトから連続的に剥離した後、更に連続乾燥炉で１７０℃まで加熱硬化して巻き取り、幅３０ｃｍ、長さ１００ｍ、厚さ１００μｍのプラスチックフィルムを得た。このプラスチックフィルムの全光線透過率は８８％であった。

次に、図３（ａ）に示すように、ＲＦスパッタ室とＤＣスパッタ室の２つの成膜室を備えるスパッタロールコート装置により、最初にＲＦスパッタ法によりＴａ_２ Ｏ_５をターゲットとして用いて、プラスチックフィルム１１上に、膜厚５０ｎｍのＴａＯ_ｘ （ｘ＝２．２）膜を成膜し、ガスバリア層１２とし、続いてＤＣスパッタ室において膜厚１５０ｎｍのクロム膜を成膜し、遮光層１３を形成した。ガスバリア層１２および遮光層１３の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

このフィルムを長さ４０ｃｍに切断し、フォトリソプロセスによりパターニングして遮光が必要な部分以外のクロム膜を除去し、図３（ｂ）に示すように、パターン状遮光層１４を形成した。

次いで、パターン状遮光層１４上に前記の塗工機を用い、電子線硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、図３（ｃ）に示すように、インク受像層１５を形成した。インク受像層１５の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、パターン状遮光層１４の開口部に対応するインク受像層１５上に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の電子線硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法によりＲ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層を形成した後、１００℃で５分間乾燥して、図３（ｄ）に示すように、カラーフィルター層１６を形成した。

最後に、電子線により受像層及び着色層を一括硬化して、可撓性カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター層１６の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

このようにして作成した可撓性カラーフィルター基板の３０℃から１５０℃における線膨張係数は３０ｐｐｍであった。また、ＪＩＳＫ７１２９Ｂ法に基づき４０℃９０％ＲＨ時の水蒸気透過率を測定したところ、０．０２ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであった。また、１５０℃、１０時間の耐熱試験の結果、カラーフィルター層１６は、試験前後の濃度変化もなく、良好な耐性を有することを確認した。

実施例４
本発明の第４の実施例に係るカラーフィルター基板の製造工程について、図４を参照して説明する。

まず、多官能アクリレート樹脂をガラス繊維に合浸した後に、紫外線硬化装置により連続的に硬化し、樹脂６０重量％、ガラス繊維４０重量％、幅３０ｃｍ、長さ１００ｍ、厚さ１００μｍのプラスチックフィルムを得た。このプラスチックフィルムの全光線透過率は９０％であった。

次に、図４（ａ）に示すように、ＲＦスパッタ成膜室を有するスパッタロールコート装置により、ＲＦスパッタ法によりＳｉＡｌＯＮをターゲットとして用いてプラスチックフィルム２１上に、膜厚５０ｎｍのＳｉＡｌＯＮ膜を成膜し、ガスバリア層２２とした。

次いで、ガスバリア層２２上に、コーターヘッドおよび乾燥炉を有する連続塗工機を用いて、電子線硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、図４（ｂ）に示すように、インク受像層２３を形成した。インク受像層２３の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、受像層上２３に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の電子線硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法によりＲ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層を形成した後、１００℃で５分間乾燥して、図４（ｃ）に示すように、カラーフィルター層２４を形成した。

次いで、電子線により受像層２３及びカラーフィルター層２４を一括硬化した。

次に、光硬化型アクリル樹脂にカーボンブラックを分散させた感光性遮光層材料を、乾燥後の膜厚が１〜２μｍとなるように連続塗布し、露光装置および現像装置を有する連続パターニング装置を用いて、マスクを介してパターニング露光し、現像をした後、乾燥炉にて１５０℃で３０分間の加熱硬化を行い、図４（ｄ）に示すように、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各画素間にパターン状遮光層２５を形成し、可撓性カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター層２４の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

このようにして作成した可撓性カラーフィルター基板の３０℃から１５０℃における線膨張係数は１８ｐｐｍであった。また、ＪＩＳＫ７１２９Ｂ法に基づき、４０℃９０％ＲＨ時の水蒸気透過率を測定したところ、０．０５ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであった。更に、１５０℃、１０時間の耐熱試験を行った結果、カラーフィルター層２４の試験前後の濃度変化もなく、良好な耐性を有することを確認した。

比較例１
実施例１と同様に、厚さ１００μｍのポリエーテルスルホンからなるプラスチックフィルムの両面にアンダーコート層を成膜し、その上に膜厚５０ｎｍのＳｉＯ_x （ｘ＝１．８）を成膜し、ガスバリア層とした。

次いで、ガスバリア層上に、コーターヘッドおよび乾燥炉を有する連続塗工機を用いて光硬化型アクリル樹脂にカーボンブラックを分散させた感光性遮光層材料を、乾燥後の膜厚が１〜２μｍとなるように、ロール・ツー・ロールで連続塗布し、露光装置および現像装置を有する連続パターニング装置を用いて、マスクを介してパターニング露光し、現像を行った後、乾燥炉にて１５０℃で３０分間の加熱硬化を行い、パターン状遮光層を形成した。このパターン状遮光層の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、ガスバリア層上に、前記の塗工機を用い、熱硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、インク受像層を形成した。インク受像層の密着性を前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、パターン状遮光層の開口部に対応するインク受像層の部分上に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の熱硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法によりＲ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層を形成した後、２２０℃で３０分間乾燥、熱硬化してカラーフィルター層を形成し、可撓性カラーフィルター基板を作成した。

カラーフィルター層の密着性を、前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。しかし、インク受像層及びカラーフィルター層の硬化のために熱を加えたことにより、基板の熱膨張が生じ、カラーフィルターの位置ズレが生じた。

比較例２
実施例２と同様に、エポキシ樹脂およびシリカフィラーからなるプラスチックフィルムの両面にアンダーコート層を成膜し、その上に膜厚５０ｎｍのＳｉＯ_Ｘ （ｘ＝１．８）を成膜し、ガスバリア層を形成した。

次いで、ガスバリア層上にコーターヘッドおよび乾燥炉を有する連続塗工機を用いて、光硬化型アクリル樹脂にカーボンブラックを分散させた感光性遮光層材料を、乾燥後の膜厚が１〜２μｍとなるように、ロール・ツー・ロールで連続塗布し、露光装置および現像装置を有する連続パターニング装置を用いて、マスクを介してパターニング露光し、現像を行った後、乾燥炉にて１５０℃で３０分間の加熱硬化を行い、パターン状遮光層を形成した。パターン状遮光層の密着性を、前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

次に、ガスバリア層上に、前記の塗工機を用い、光重合開始剤を含む光硬化型アクリル共重合ポリマーを、乾燥後の膜厚が２〜３μｍとなるように塗布し、インク受像層を形成した。インク受像層の密着性を、前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であった。

その後、パターン状遮光層の開口部に対応するインク受像層の部分上に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各色の光硬化型着色インクを使用し、３０ｐｌ、ノズルピッチ１００ｄｐｉ、２５６ノズル配列したインクジェットヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、インクジェット法によりＲ，Ｇ，Ｂ各々のパターン状着色層からなるカラーフィルター層を形成した。

次に、１００℃で５分間乾燥した後、ＵＶ照射を行い、受像層及び着色層を一括硬化して、可撓性カラーフィルター基板を作成した。カラーフィルター層の密着性を、前記と同様に評価したところ、分類０であり、良好であったが、１５０℃で１０時間の耐熱試験を行った結果、試験前後の着色部の濃度に著しい変化が生じた。

以上のように、実施例１〜４では、良好な可撓性カラーフィルター基板を得ることができた。これに対し、比較例１では、電子線硬化ではなく熱硬化により、カラーフィルター層の硬化を行ったため、プラスチックフィルムの熱膨張により、位置ずれの不良が発生した。また、比較例２では、熱膨張係数が小さいプラスチックフィルムを用いたため、位置ずれを防止することが出来たが、ＵＶ硬化を行ったため、残存する光開始剤により、後の加熱工程で色の変化が発生した。

本発明に係る可撓性カラーフィルター基板は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ用に好適に利用可能であり、特に、フレキシブルな超薄型のディスプレイの作製に有用である。

本発明の第１の実施例に係る可撓性カラーフィルター基板の製造工程を示す断面図である。 本発明の第１の実施例により製造された可撓性カラーフィルター基板の上面図である。 本発明の第３の実施例に係る可撓性カラーフィルター基板の製造工程を示す断面図である。 本発明の第４の実施例に係る可撓性カラーフィルター基板の製造工程を示す断面図である。

符号の説明

１，１１，２１・・・プラスチックフィルム、２ａ，２ｂ・・・アンダーコート層、３，１２，２２・・・ガスバリア層、４，１４，２５・・・パターン状遮光層、１３・・・遮光層、５，１５，２３・・・インク受像層、６，１６，２４・・・カラーフィルター層。

Claims (18)

1. プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上にパターン状遮光層を形成する工程、
   前記パターン状遮光層が形成された前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、
   前記受像層上の少なくとも前記パターン状遮光層の開口部に対応する部分に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、及び
   前記受像層及び着色層に電子線を照射して一括して硬化させる工程
   を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
2. プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、
   前記受像層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、
   前記受像層及び着色層に電子線を照射して一括して硬化させる工程、及び
   前記パターン状着色層の間隙にパターン状遮光層を形成する工程、
   を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
3. プラスチックフィルムの少なくとも片面にガスバリア層を有する基材の前記ガスバリア層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む受像層を形成する工程、
   前記受像層上に、電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含む着色層をパターン状に形成する工程、
   前記パターン状着色層の間隙に電子線の照射により硬化する２官能基以上の（メタ）アクリル酸エステル誘導体を含むパターン状遮光層を形成する工程、及び
   前記受像層、着色層、及びパターン状遮光層に電子線を照射して一括して硬化させる工程
   を具備することを特徴とする可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
4. ロール・ツー・ロールで行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
5. 前記基材は、８０％以上の全光線透過率を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
6. 前記プラスチックフィルムは、３０℃〜１５０℃において４０ｐｐｍ／℃以下の線膨張係数を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
7. 前記プラスチックフィルムは、架橋型樹脂からなることを特徴とする請求項６に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
8. 前記架橋型樹脂は、エポキシ系樹脂又はアクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項７に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
9. 前記プラスチックフィルムは、樹脂と無機物からなることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
10. 前記ガスバリア層が、無機物質からなることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
11. 前記ガスバリア層は、Ｓｉ、Ｔａ、及びＡｌからなる群から選ばれる１種以上を含む化合物を主成分とすることを特徴とする請求項１０に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
12. 前記化合物が、酸化物、窒化物、及び酸化窒化物からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１１に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
13. 前記プラスチックフィルム、ガスバリア層、パターン状遮光層、受像層、及び着色層のそれぞれ隣接する層間の密着性は、ＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験結果が分類０又は分類１であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
14. 前記基材が、プラスチックフィルムとガスバリア層の間にアンダーコート層を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
15. 前記プラスチックフィルム、アンダーコート層、ガスバリア層、パターン状遮光層、受像層、及び着色層のそれぞれ隣接する層間の密着性は、ＪＩＳ５６００−５−６に基づいたクロスカット試験結果が分類０又は分類１であることを特徴とする請求項１４に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
16. ０．２ｇ／ｍ ^２ ・２４ｈｒ以下の水蒸気透過率を有することを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
17. 前記プラスチックフィルムとガスバリア層の間にアンダーコート層を設けたことを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。
18. 前記プラスチックフィルム、アンダーコート層、及びガスバリア層の組み合わせは、ポリエーテルスルホン／アクリル系架橋性樹脂／ケイ素酸化物、アクリル系架橋性樹脂／アクリル系架橋性樹脂／ケイ素酸化物、又はエポキシ系架橋性樹脂／エポキシ系架橋性樹脂／ケイ素アルミニウム酸化窒化物であることを特徴とする請求項１７に記載の可撓性カラーフィルター基板の製造方法。

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