JP4645991B2 - Quartz device, tuning fork type crystal vibrating piece, and method for manufacturing tuning fork type quartz vibrating piece - Google Patents

Quartz device, tuning fork type crystal vibrating piece, and method for manufacturing tuning fork type quartz vibrating piece Download PDF

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Description

本発明は、水晶デバイスと音叉型水晶振動片ならびに音叉型水晶振動片の製造方法に関する。 The present invention relates to a crystal device, a tuning fork type crystal vibrating piece, and a method for manufacturing a tuning fork type crystal vibrating piece .

HDD(ハード・ディスク・ドライブ)、モバイルコンピュータ、あるいはICカード等の小型の情報機器や、携帯電話、自動車電話、またはページングシステム等の移動体通信機器において、パッケージ内に水晶振動片を収容した水晶振動子や水晶発振器等の水晶デバイスが広く使用されている。
図19ないし図21は、このような水晶デバイスに利用される水晶振動片の形成工程を示す概略工程図である。
Quartz that contains a crystal resonator element in a small information device such as a hard disk drive (HDD), mobile computer, or IC card, or mobile communication device such as a mobile phone, a car phone, or a paging system Crystal devices such as vibrators and crystal oscillators are widely used.
FIG. 19 to FIG. 21 are schematic process diagrams showing a process of forming a quartz crystal vibrating piece used in such a quartz crystal device.

図19ないし図21の各図は、左側に、概略斜視図を、右側に左側の図のA−A線で切断した切断端面だけを示す切断端面図を配置して示している。
図19(a)において、水晶のウエハから、例えば、ひとつの振動片を形成するための水晶片1を形成する。この場合、水晶片1は、矩形状の水晶片を形成した場合を示している。
Each of FIGS. 19 to 21 shows a schematic perspective view on the left side and a cut end view showing only a cut end surface cut along the line AA in the left side diagram on the right side.
In FIG. 19A, a crystal piece 1 for forming, for example, one vibrating piece is formed from a crystal wafer. In this case, the crystal piece 1 shows a case where a rectangular crystal piece is formed.

図19(b)において、水晶片1の表面全体には、金属蒸着や、スパッタリングの手法により、例えば、下地層としてのニッケル膜の上に、金を被覆した電極膜2が形成される。
この電極膜2は、水晶振動片を適切に駆動するために、駆動電圧を印加した際、水晶振動片を適切に振動させるような電界を生じる形状に分離させる必要がある。
In FIG. 19B, the electrode film 2 covered with gold is formed on the entire surface of the crystal piece 1 by, for example, a metal vapor deposition or sputtering technique on a nickel film as an underlayer.
In order to appropriately drive the crystal vibrating piece, the electrode film 2 needs to be separated into a shape that generates an electric field that appropriately vibrates the crystal vibrating piece when a driving voltage is applied.

そこで、フォトエッチングにより、水晶振動片の駆動に適した電極形態を形成する。つまり、図19(c)に示すように、電極膜2を設けた水晶片1の表面全体にレジスト3を塗布する。
次に、図20(d)に示すように、形成すべき電極形態に対応して、部分4a,4b,4cのように区分されたマスク部材を配置し、矢印で示すように、上面及び下面から光を照射して、マスク部材から露出したレジスト3a,3aを感光させる。
次いで、図20(e)に示すように、感光したレジスト3a,3aを除去する。これにより、レジスト3a,3aを除去した部分には、電極膜2a,2aが露出する。
Therefore, an electrode configuration suitable for driving the quartz crystal resonator element is formed by photoetching. That is, as shown in FIG. 19C, the resist 3 is applied to the entire surface of the crystal piece 1 provided with the electrode film 2.
Next, as shown in FIG. 20 (d), mask members divided like portions 4a, 4b, and 4c are arranged corresponding to the electrode form to be formed, and the upper and lower surfaces are indicated by arrows. The resists 3a and 3a exposed from the mask member are exposed to light.
Next, as shown in FIG. 20E, the exposed resists 3a and 3a are removed. As a result, the electrode films 2a and 2a are exposed at the portions where the resists 3a and 3a are removed.

次に、図20(f)に示すように、露出した電極膜2a,2aの部分をエッチングして、水晶材料1a,1aを露出する。続いて、レジスト3,3,3を除去すると、図21(g)に示すように、水晶片1の上面と下面(図示せず)には、電極膜2が、部分2a,2b,2cに分離された状態で形成される。   Next, as shown in FIG. 20F, the exposed portions of the electrode films 2a and 2a are etched to expose the quartz materials 1a and 1a. Subsequently, when the resists 3, 3 and 3 are removed, as shown in FIG. 21G, the electrode film 2 is formed on the upper and lower surfaces (not shown) of the crystal piece 1 in the portions 2a, 2b and 2c. It is formed in a separated state.

ところで、このような構造の水晶振動片5では、電極膜2の区分された部分2a,2b,2cについて、正と負の異なる極に分けて利用しようとしても、水晶振動片5の電極膜2は、側面部では、部分2d及び部分2eによって、上記した部分2a,2b,2cが互いに接続されてしまう。   By the way, in the crystal vibrating piece 5 having such a structure, even if the divided portions 2a, 2b, and 2c of the electrode film 2 are divided into different positive and negative poles, the electrode film 2 of the crystal vibrating piece 5 is used. In the side surface portion, the above-described portions 2a, 2b, and 2c are connected to each other by the portion 2d and the portion 2e.

つまり、上述のようなフォトエッチング工程では、水晶片1の側面部を露光することができないので、水晶片1の側面部に形成された電極膜2は、分離できないことから、さらに、次のような工程の工夫を必要とする。   That is, in the photoetching process as described above, since the side surface portion of the crystal piece 1 cannot be exposed, the electrode film 2 formed on the side surface portion of the crystal piece 1 cannot be separated. It requires a special process.

例えば、図22の第1の工程例では、水晶片1に対して、電極膜を形成する前に、水晶片1の側面部の電極膜を分離したい箇所に、マスク部材6,6,6を配置し、この状態で電極膜を形成する。これにより、予め側面部において、電極膜が形成されない部分を設け、図21の水晶振動片5を形成した際に、電極膜2の部分2a,2b,2cを互いに分離した形態とすることができる。   For example, in the first process example of FIG. 22, before forming the electrode film on the crystal piece 1, the mask members 6, 6, and 6 are provided at locations where the electrode film on the side surface of the crystal piece 1 is to be separated. The electrode film is formed in this state. As a result, a portion where the electrode film is not formed in the side surface portion is provided in advance, and when the crystal vibrating piece 5 of FIG. 21 is formed, the portions 2a, 2b, 2c of the electrode film 2 can be separated from each other. .

また、図23の第2の工程例では、側面部に突起もしくは凸部8,8,8を形成した水晶片7を用意している。
このような水晶片7を用いて、図19ないし図21と同じフォトエッチング工程により、電極膜を形成する。そして、最後に、各突起もしくは凸部8,8,8の折り取り線8a,8b,8cに沿って、これらの突起もしくは凸部8,8,8を折り取ると、図21の水晶振動片5を形成した際に、電極膜2の部分2a,2b,2cを互いに分離した形態とすることができる。
In the second process example of FIG. 23, a crystal piece 7 having projections or projections 8, 8, 8 formed on the side surface is prepared.
Using such a crystal piece 7, an electrode film is formed by the same photoetching process as that shown in FIGS. Finally, when these protrusions or projections 8, 8, and 8 are broken along the folding lines 8a, 8b, and 8c of the protrusions or protrusions 8, 8, and 8, the crystal vibrating piece of FIG. When 5 is formed, the portions 2a, 2b, 2c of the electrode film 2 can be separated from each other.

ところが、図22の第1の工程例によると、電極膜2の形成前に、各マスク部材6,6,6を配置しなければならないため、工程が煩雑になると共に、電極の分離箇所毎に、個別のマスク部材を配置するために、微細な形態の電極膜を形成しようとする場合には、不向きできある。   However, according to the first process example of FIG. 22, the mask members 6, 6, and 6 have to be arranged before the electrode film 2 is formed. When an attempt is made to form a fine electrode film in order to arrange individual mask members, it is not suitable.

また、図23の第2の工程例によると、各突起もしくは凸部8,8,8の折り取り線8a,8b,8cに沿って、これらの突起もしくは凸部8,8,8を折り取る作業が増えて、煩雑であると共に、折り取り面が不揃いとなることから、水晶振動片の特性に悪影響を与えるおそれがある。   Further, according to the second process example of FIG. 23, along the folding lines 8a, 8b, and 8c of the projections or projections 8, 8, and 8, these projections or projections 8, 8, and 8 are folded. Since the work is increased and complicated, and the folding surfaces are not uniform, the characteristics of the quartz crystal vibrating piece may be adversely affected.

本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、製造工程を煩雑にすることなく、また、水晶振動片の特性に影響を与えずに、微細な形態の電極を形成することができる水晶デバイスと音叉型水晶振動片ならびに音叉型水晶振動片の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and can form a fine-shaped electrode without complicating the manufacturing process and without affecting the characteristics of the quartz crystal vibrating piece. It is an object of the present invention to provide a crystal device, a tuning fork type crystal vibrating piece, and a method for manufacturing a tuning fork type crystal vibrating piece .

本願発明は、パッケージ内に枠体付きの音叉型水晶振動片を収容した水晶デバイスであって、前記音叉型水晶振動片は、前記枠体と、該枠体の内側に形成されている基部と、該基部を介して互いに接続された第1、第2の振動腕と、前記第1の振動腕の側面および前記第2の振動腕の表面に形成された第1の励振電極と、前記第1の振動腕の表面および前記第2の振動腕の側面に形成された第2の励振電極と、前記枠体および前記基部の少なくとも一方の表面に形成された切欠き窓部と、前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって、厚さ方向に傾斜した傾斜面とを有し、前記第1、第2の振動腕と、前記基部と、前記枠体とは一体で形成されており、前記傾斜面に前記第1の励振電極と前記第2の励振電極とを分離する電極分離領域が形成され,前記第1の励振電極から引き出され、かつ、前記枠体の第1の辺に引き出された第1の引出し電極と、前記第2の励振電極から引き出され、かつ、前記枠体の第2の辺に引き出された第2の引出し電極とを有することを特徴とする。 The invention of the present application is a crystal device in which a tuning fork type crystal vibrating piece with a frame is accommodated in a package, the tuning fork type crystal vibrating piece including the frame and a base formed inside the frame. The first and second vibrating arms connected to each other via the base , the first excitation electrode formed on the side surface of the first vibrating arm and the surface of the second vibrating arm, and the first A second excitation electrode formed on a surface of the first vibrating arm and a side surface of the second vibrating arm; a notch window portion formed on at least one surface of the frame and the base; and the notch An inclined surface inclined in the thickness direction from the base end portion of the window portion toward the open end, and the first and second vibrating arms, the base portion, and the frame body are integrally formed. An electrode separation region for separating the first excitation electrode and the second excitation electrode is formed on the inclined surface. Is withdrawn from the first excitation electrode and a first lead electrode drawn to the first side of the frame, it is drawn from the second excitation electrode, and the second of said frame And a second extraction electrode drawn to the two sides .

好ましくは、前記音叉型水晶振動片の側面の延びる方向をTDRとし、このTDRが、前記音叉型水晶振動片の電気軸(+X軸)と一致する領域において、前記切欠き窓部が形成されていることを特徴とする。Preferably, a direction in which a side surface of the tuning fork type crystal vibrating piece extends is defined as TDR, and the notch window portion is formed in a region where the TDR coincides with an electric axis (+ X axis) of the tuning fork type crystal vibrating piece. It is characterized by being.

好ましくは、前記音叉型水晶振動片の側面の延びる方向をTDRとし、前記音叉型水晶振動片の前記切欠き窓部が形成される領域の厚みをtとし、前記TDRが前記音叉型水晶振動片の反時計回り方向最寄りの電気軸(+X軸)となす角度をθとし、前記傾斜面が設けられる領域の奥行きをD1とした場合、次の関係式Preferably, the direction in which the side surface of the tuning fork type quartz vibrating piece extends is TDR, the thickness of the region where the notch window portion of the tuning fork type quartz vibrating piece is formed is t, and the TDR is the tuning fork type quartz vibrating piece. When the angle formed with the nearest electric axis (+ X axis) in the counterclockwise direction is θ and the depth of the region where the inclined surface is provided is D1, the following relational expression
D1・cosθ>t/√3          D1 · cos θ> t / √3
を満たすことを特徴とする。  It is characterized by satisfying.

本願発明は、枠体と、該枠体の内側に形成されている基部と、該基部から延びる第1、第2の振動腕と、前記第1の振動腕の側面および前記第2の振動腕の表面に形成された第1の励振電極と、前記第1の振動腕の表面および前記第2の振動腕の側面に形成された第2の励振電極と、前記枠体および前記基部の少なくとも一方の表面に形成された切欠き窓部と、前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって、厚さ方向に傾斜した傾斜面と、を有する枠体付きの音叉型水晶振動片の製造方法であって、前記振動腕と、前記基部と、前記枠体とは一体でなるように、枠体付きの音叉型振動片の外形をエッチングにより得る外形形成工程と、次に、前記音叉型水晶振動片の表面および側面部に、前記第1および第2の励振電極を形成する電極形成工程と、を有し、前記外形形成工程は、前記枠体付きの音叉型水晶振動片の表面および裏面から、それぞれマスク部材を配置して、挟むようにしてエッチングする工程であって、前記各マスク部材のうち、一方のマスク部材の側縁には切欠き窓部が設けられ、前記枠体付きの音叉型水晶振動片は、前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって下降する、厚さ方向に傾斜した傾斜面が形成されることを特徴とする。The present invention includes a frame, a base formed inside the frame, first and second vibrating arms extending from the base, side surfaces of the first vibrating arm, and the second vibrating arm. At least one of the first excitation electrode formed on the surface, the second excitation electrode formed on the surface of the first vibrating arm and the side surface of the second vibrating arm, the frame and the base A tuning-fork type crystal vibrating piece with a frame having a notch window portion formed on the surface of the notch window and an inclined surface inclined in the thickness direction from the base end portion to the open end of the notch window portion. An outer shape forming step of obtaining an outer shape of a tuning fork type vibrating piece with a frame by etching so that the vibrating arm, the base, and the frame are integrated, and then the tuning fork. Formation of the first and second excitation electrodes on the surface and side surface of the quartz crystal resonator element And the outer shape forming step is a step of etching by arranging a mask member from the front surface and the back surface of the tuning-fork type crystal vibrating piece with a frame and sandwiching each mask member. Of these, a notch window portion is provided on the side edge of one of the mask members, and the tuning fork type crystal vibrating piece with the frame body descends from the base end portion of the notch window portion toward the open end, An inclined surface inclined in the thickness direction is formed.

好ましくは、前記マスク部材は、スパッタリングにより形成された膜をフォトエッチングすることにより形成されることを特徴とする。Preferably, the mask member is formed by photoetching a film formed by sputtering.

好ましくは、前記マスク部材の側面部が延びる方向をMDRとし、前記音叉型水晶振動片の電気軸(+X軸)に沿った領域に前記切欠き窓部が配置されることを特徴とする。Preferably, the direction in which the side surface portion of the mask member extends is MDR, and the notch window portion is arranged in a region along the electric axis (+ X axis) of the tuning fork type crystal vibrating piece.

好ましくは、前記マスク部材の側面部が延びる方向をMDRとし、前記水晶片の前記側面部における厚みをtとし、前記MDRが前記水晶片の反時計回り方向最寄りの電気軸(+X軸)となす角度をθとし、前記切欠き窓部の奥行きをD2とした場合、次の関係式Preferably, the direction in which the side surface portion of the mask member extends is MDR, the thickness of the side surface portion of the crystal piece is t, and the MDR is the closest electrical axis (+ X axis) in the counterclockwise direction of the crystal piece. When the angle is θ and the depth of the notch window is D2, the following relational expression
D2・cosθ>t/√3          D2 · cos θ> t / √3
を満たすことを特徴とする。  It is characterized by satisfying.

以上述べたように、本発明によれば、製造工程を煩雑にすることなく、また、水晶振動片の特性に影響を与えずに、微細な形態の電極を形成することができる水晶デバイスと、その製造方法、および水晶デバイスを利用した携帯電話装置ならびに電子機器を提供することができる。   As described above, according to the present invention, a quartz crystal device capable of forming a fine-shaped electrode without complicating the manufacturing process and without affecting the characteristics of the quartz crystal vibrating piece, A manufacturing method thereof, and a mobile phone device and an electronic apparatus using a crystal device can be provided.

図1ないし図3は、本発明の水晶デバイスの実施の形態を示しており、図1はその平面図であり、ケースの一部を透明にして、内部の様子を示した図、図2は図1のB−B線概略断面図、図3は、図1の水晶デバイスの概略斜視図である。
これらの図において、水晶デバイス30は、水晶振動子を構成した例を示している。この水晶デバイス30は、上ケース31と、下ケース35と、この上ケース31と下ケース35により挟まれた水晶振動片40を有している。
1 to 3 show an embodiment of a quartz crystal device according to the present invention. FIG. 1 is a plan view of the crystal device, a part of the case is made transparent to show the inside, and FIG. 1 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic perspective view of the crystal device of FIG.
In these drawings, the crystal device 30 shows an example in which a crystal resonator is configured. The crystal device 30 includes an upper case 31, a lower case 35, and a crystal vibrating piece 40 sandwiched between the upper case 31 and the lower case 35.

上ケース31と下ケース35は、水晶振動片40を収容するためのパッケージを構成する。上ケース31と下ケース35と水晶振動片40とは、それぞれ外形の大きさが同じ大きさである。また、上ケース31と下ケース35は、それぞれ板状体である。
これら上ケース31と下ケース35は、例えば、絶縁材料として、酸化アルミニウム質のセラミックグリーンシート等の圧電材料を焼結して形成した平板状の形態である。
そして、これら上ケース31と下ケース35は、図1ないし図3に示すように、これらの間に水晶振動片40を挟み、これらの間に後述する封止材を適用することでできる隙間を利用して、水晶振動片40を収容するための内部空間Sを形成するようになっている。
The upper case 31 and the lower case 35 constitute a package for housing the crystal vibrating piece 40. The upper case 31, the lower case 35, and the crystal vibrating piece 40 have the same outer dimensions. Each of the upper case 31 and the lower case 35 is a plate-like body.
The upper case 31 and the lower case 35 have, for example, a flat plate shape formed by sintering a piezoelectric material such as an aluminum oxide ceramic green sheet as an insulating material.
As shown in FIGS. 1 to 3, the upper case 31 and the lower case 35 sandwich a crystal vibrating piece 40 between them, and a gap that can be formed by applying a sealing material described later between them. Utilizing this, an internal space S for accommodating the crystal vibrating piece 40 is formed.

水晶振動片40は、後述する工程によって、形成されている。上ケース31及び下ケース35を形成するための材料としては、水晶と熱による線膨張係数が近いものが、好ましい。
本実施形態では、水晶振動片40は、例えば、一枚の個片(後述)の大きさにした水晶薄板をエッチングして、図3に示すような枠体45と、この枠体45に囲まれた水晶片本体48とを有している。
The quartz crystal vibrating piece 40 is formed by a process described later. As a material for forming the upper case 31 and the lower case 35, a material having a linear expansion coefficient close to that of quartz and heat is preferable.
In this embodiment, the crystal vibrating piece 40 is, for example, etched by a crystal thin plate having a size of one piece (described later), and surrounded by a frame body 45 as shown in FIG. A crystal piece main body 48.

この水晶片本体48は、矩形状の枠体45の内側で、この枠体45のひとつの短辺と、くびれ部42で一体に接続された基部41と、この基部41から、図1において右方に向けて、二股に別れて平行に延びる一対の振動腕43,44を備えており、全体が音叉のような形状とされている。すなわち、水晶振動片40は、枠付きの音叉型水晶振動片である。   The crystal piece main body 48 is formed on the inner side of a rectangular frame 45, one short side of the frame 45, a base 41 integrally connected by a constricted portion 42, and the base 41 from the right side in FIG. A pair of vibrating arms 43 and 44 extending in parallel to be divided into two forks are provided, and the whole is shaped like a tuning fork. That is, the crystal vibrating piece 40 is a tuning fork type crystal vibrating piece with a frame.

また、水晶片本体48には、後述する工程によって、駆動電圧を印加するための第1の励振電極46と第2の励振電極47が形成されている。この第1の励振電極46と第2の励振電極47は、電気的に分離できるように、互いに短絡することなく形成されている。そして、図3に示されているように、水晶振動片40の枠体45の一方の短辺の上面には、第1の励振電極46と接続された第1の引出し電極46aが、枠体45の他方の短辺の上面には、第2の励振電極47と接続された第2の引出し電極47aが設けられている。これらの電極は、後述する工程において、例えば、クロムスパッタ膜上に金スパッタ膜等を施した金属膜で形成される。
そして、第1の励振電極46と第2の励振電極47との電気的分離を確実にするために、水晶振動片40の側面部には、傾斜面61や62が形成されている。この傾斜面については、後で詳しく説明する。
Further, the crystal piece main body 48 is formed with a first excitation electrode 46 and a second excitation electrode 47 for applying a drive voltage by a process described later. The first excitation electrode 46 and the second excitation electrode 47 are formed without being short-circuited so as to be electrically separated. As shown in FIG. 3, a first extraction electrode 46 a connected to the first excitation electrode 46 is provided on the upper surface of one short side of the frame body 45 of the crystal vibrating piece 40. A second lead electrode 47 a connected to the second excitation electrode 47 is provided on the upper surface of the other short side of 45. These electrodes are formed of, for example, a metal film in which a gold sputtered film or the like is applied on a chromium sputtered film in a process described later.
In order to ensure electrical separation between the first excitation electrode 46 and the second excitation electrode 47, inclined surfaces 61 and 62 are formed on the side surface portion of the crystal vibrating piece 40. This inclined surface will be described in detail later.

このような構成において、図3に示されているように、下ケース35には、水晶振動片40が重ねられ、水晶振動片40の上には、上ケース31が重ねられて、これらが真空中で固定されることにより封止される。
この場合、図2に示されているように、下ケース35と水晶振動片40との間には、封止材51が適用される。
また、水晶振動片40の上面の第1の引出し電極46aと、第2の引出し電極47aの上には、それぞれ封止材52が適用される。水晶振動片40の上に、電極端子53,53を形成した上ケース31が重ねられ、真空中で固定される。 さらに、上ケース31の長手方向の両端部には、導電性の金属材料、例えば、ニッケルとクロム及び金等をスパッタリング等により成膜して、電極端子53,53をそれぞれ形成し、電極端子53,53は、それぞれ、水晶振動片40の上記した第1の引出し電極46aと、第2の引出し電極47aの各外側端面と電気的に接続されている。
In such a configuration, as shown in FIG. 3, the crystal vibrating piece 40 is overlaid on the lower case 35, and the upper case 31 is overlaid on the crystal vibrating piece 40. It is sealed by being fixed inside.
In this case, as shown in FIG. 2, a sealing material 51 is applied between the lower case 35 and the crystal vibrating piece 40.
Further, the sealing material 52 is applied to the first extraction electrode 46a and the second extraction electrode 47a on the upper surface of the quartz crystal vibrating piece 40, respectively. An upper case 31 on which electrode terminals 53 and 53 are formed is overlaid on the crystal vibrating piece 40 and fixed in a vacuum. Further, on both ends in the longitudinal direction of the upper case 31, a conductive metal material, for example, nickel, chromium, gold, and the like are formed by sputtering or the like to form electrode terminals 53 and 53, respectively. , 53 are electrically connected to the respective outer end faces of the first extraction electrode 46a and the second extraction electrode 47a of the quartz crystal vibrating piece 40, respectively.

なお、図3には、この電極端子53,53と封止材51,52は、図示を省略している。
この封止材51,52としては、低融点ガラス等の絶縁性の封止材を使用することができる。
また、図4は、理解の便宜のため、水晶振動片40を図3とは異なる向きにして示す概略斜視図である。
In FIG. 3, the electrode terminals 53 and 53 and the sealing materials 51 and 52 are not shown.
As these sealing materials 51 and 52, insulating sealing materials, such as low melting glass, can be used.
FIG. 4 is a schematic perspective view showing the quartz crystal vibrating piece 40 in a direction different from that in FIG. 3 for convenience of understanding.

本実施形態の水晶デバイス30は、以上のように構成されており、次に、水晶デバイス30に利用される水晶振動片40の形成方法の特徴を説明する。
図5(a)と図5(b)は、水晶振動片40を形成するのに利用される水晶材料をそれぞれ異なる角度から見た概略斜視図であり、水晶材料を個々の水晶振動片40と同じ大きさと形状にしたもので、水晶振動片40の個片71と呼ぶ。個片71は、水晶振動片40の電極膜を形成する前のものである。
The crystal device 30 of the present embodiment is configured as described above. Next, the characteristics of the method for forming the crystal vibrating piece 40 used for the crystal device 30 will be described.
FIG. 5A and FIG. 5B are schematic perspective views of the quartz crystal material used to form the quartz crystal vibrating piece 40 as seen from different angles. They are of the same size and shape and are called individual pieces 71 of the crystal vibrating piece 40. The pieces 71 are those before the electrode film of the crystal vibrating piece 40 is formed.

図5において、個片71は、図1ないし図3で説明した形状に加工されており、既に説明した箇所には、図1ないし図3と同一の符号を付して重複する説明は省略する。また、図示のX方向は水晶の電気軸、Y方向は水晶の機械軸、Z方向は水晶の光軸(成長軸)を示している。
個片71の厚みが露出した箇所である側面部には傾斜面が設けられている。このような傾斜面を設けるべき個片71の側面部としては、枠体45の外周を除く全ての側面部が対象となり、上述した第1の励振電極46と第2の励振電極47とを分離することが必要とされる領域が選定される。図5の場合には、例えば、枠体45の内側で、水晶片本体と対向する面である側面部73に傾斜面61が形成されており、また、振動腕43と振動腕44の間の側面部72に、傾斜面62が設けられている。
In FIG. 5, the individual piece 71 is processed into the shape described in FIGS. 1 to 3, and parts already described are denoted by the same reference numerals as in FIGS. 1 to 3, and redundant description is omitted. . In the figure, the X direction indicates the electrical axis of the crystal, the Y direction indicates the mechanical axis of the crystal, and the Z direction indicates the optical axis (growth axis) of the crystal.
An inclined surface is provided on the side surface where the thickness of the piece 71 is exposed. As the side surface portion of the piece 71 to be provided with such an inclined surface, all the side surface portions except for the outer periphery of the frame body 45 are targeted, and the first excitation electrode 46 and the second excitation electrode 47 described above are separated. The area that needs to be selected is selected. In the case of FIG. 5, for example, an inclined surface 61 is formed on the side surface 73 that is a surface facing the crystal piece main body inside the frame body 45, and between the vibrating arm 43 and the vibrating arm 44. An inclined surface 62 is provided on the side surface portion 72.

次に、図6を参照して、個片の一部である枠体45の内側で、水晶片本体と対向する枠体の一面である側面部73に傾斜面61を形成する場合を例にして、個片71の側面部に傾斜面を形成する方法を説明する。
例えば、水晶の薄板をエッチング加工して、個片71の形状を形成する場合、個片71の外形に対応した形状のマスク部材を用意する。このマスク部材は、加工対象である水晶材料の薄板(図6で符号77にて示す)の厚み方向両側からそれぞれ図6(a)に示すように配置される第1のマスク部材81と第2のマスク部材82とを備えている。
Next, referring to FIG. 6, an example in which the inclined surface 61 is formed on the side surface portion 73 which is one surface of the frame body facing the crystal piece main body inside the frame body 45 which is a part of the piece. A method of forming an inclined surface on the side surface of the piece 71 will be described.
For example, when the shape of the piece 71 is formed by etching a thin crystal plate, a mask member having a shape corresponding to the outer shape of the piece 71 is prepared. The mask members are a first mask member 81 and a second mask member arranged as shown in FIG. 6 (a) from both sides in the thickness direction of a thin plate (indicated by reference numeral 77 in FIG. 6) of a quartz material to be processed. The mask member 82 is provided.

そして、図6(a)の第1のマスク部材81と第2のマスク部材82のうち、第1のマスク部材81の側縁には、傾斜面を設けるべき個片71の側面部73に対応する位置に、切欠き窓部83が設けられている。この切欠き窓部83は、好ましくは、切欠きの開口端面84から垂直に切りかかれた、矩形状の形態でなっている。   And among the 1st mask member 81 and the 2nd mask member 82 of Fig.6 (a), it corresponds to the side part 73 of the piece 71 which should provide an inclined surface in the side edge of the 1st mask member 81. FIG. A cutout window 83 is provided at a position where the cutout is performed. The notch window 83 is preferably in the form of a rectangle cut vertically from the opening end face 84 of the notch.

次いで、第1のマスク部材81と第2のマスク部材82を、図6(b)に示すように、加工対象である水晶の薄板である水晶材料77に密着させて配置し、水晶をエッチングするためのエッチング液、例えば、フッ酸溶液に浸漬する。また、ここで使用する第1のマスク部材81と第2のマスク部材82は、水晶材料77上に形成した金(Au)スパッタ膜をフォトエッチングすることにより形成してもよい。
このエッチングの過程では、結晶の異方性により、傾斜面61が現れる。したがって、図5のような個片71の外形がエッチングにより形成されると、図6(c)に示すように、側面部73には図示するような傾斜面61が形成される。
Next, as shown in FIG. 6B, the first mask member 81 and the second mask member 82 are arranged in close contact with a crystal material 77, which is a thin crystal plate to be processed, and the crystal is etched. Soaking in an etching solution for the purpose, for example, hydrofluoric acid solution. Further, the first mask member 81 and the second mask member 82 used here may be formed by photoetching a gold (Au) sputtered film formed on the quartz material 77.
In this etching process, the inclined surface 61 appears due to crystal anisotropy. Therefore, when the outer shape of the individual piece 71 as shown in FIG. 5 is formed by etching, an inclined surface 61 as shown is formed on the side surface portion 73 as shown in FIG. 6C.

続いて、図7ないし図9の工程により、個片71に電極が形成されて、水晶振動片40が形成されるが、その工程を個片71の側面部73の領域を参照しながら説明する。なお、図7ないし図9の各図は、左側に、概略斜視図を、右側に左側の図のC−C線で切断した切断端面だけを示す切断端面図を配置して示している。
図7(a)に示すように、個片71の表面の全体に、金属蒸着や、スパッタリングの手法により、例えば、下地層としてのニッケル膜の上に、金を被覆した電極膜21を形成する。次に、図7(b)に示すように、電極膜21を全面に被覆した個片71の表面の全体に、さらに、フォトレジスト22を塗布する。
Subsequently, an electrode is formed on the piece 71 and the crystal vibrating piece 40 is formed by the steps of FIGS. 7 to 9. The step will be described with reference to the region of the side surface portion 73 of the piece 71. . Each of FIGS. 7 to 9 shows a schematic perspective view on the left side and a cut end view showing only a cut end surface cut along line CC in the left side on the right side.
As shown in FIG. 7A, the electrode film 21 covered with gold is formed on the entire surface of the individual piece 71 by, for example, a metal vapor deposition or sputtering technique on a nickel film as an underlayer. . Next, as shown in FIG. 7B, a photoresist 22 is further applied to the entire surface of the piece 71 covering the entire surface of the electrode film 21.

次いで、図8(c)に示すように、フォトレジスト22を塗布した個片71の上面に、マスク部材23を配置する。マスク部材23は、水晶振動片40の電極形状に対応した形態であり、その形態の一部として切欠き窓部23aを備えている。この切欠き窓部23aは、傾斜面61について、電極が形成されないように、マスク部材がこの部分を遮蔽しないように設けられている。このため、マスク部材23の切欠き窓部23aは、図6で説明した第1のマスク部材81の切欠き窓部83と、少なくとも一致するか、切欠き窓部83よりも大きく形成されている。
ここで、傾斜面61が形成される箇所の電極は、図3で示した第2の引出し電極47aは、側面部の端面から離れた位置に形成されているので、本来、電極パターンどおりのマスク形態でよいが、電極が、側面部の端面にまで達している領域では、電極パターンとは別に、切欠き窓部を形成しなければならない。
また、図示を省略しているが、個片71の下面には、切欠き窓部を備えないマスク部材が配置される。
この状態で図8(c)の右側に矢印で示すように、光が照射されて露光がされることで、マスク部材23から露出したフォトレジスト22が感光される。特に、この場合、個片71の傾斜面61は、上方を向いた傾斜面であり、従来のように個片71の側面部のこの領域は、垂直ではない。このため、傾斜面61上のフォトレジスト22も感光される。
Next, as shown in FIG. 8C, the mask member 23 is disposed on the upper surface of the piece 71 coated with the photoresist 22. The mask member 23 has a form corresponding to the electrode shape of the crystal vibrating piece 40, and includes a notch window portion 23a as a part of the form. The cutout window portion 23a is provided on the inclined surface 61 so that the mask member does not shield this portion so that an electrode is not formed. For this reason, the notch window portion 23a of the mask member 23 is at least coincident with the notch window portion 83 of the first mask member 81 described in FIG. 6 or is formed larger than the notch window portion 83. .
Here, in the electrode where the inclined surface 61 is formed, the second extraction electrode 47a shown in FIG. 3 is formed at a position away from the end surface of the side surface portion, so that the mask is originally formed according to the electrode pattern. However, in the region where the electrode reaches the end surface of the side surface portion, a notch window portion must be formed separately from the electrode pattern.
Although not shown, a mask member not provided with a notch window portion is disposed on the lower surface of the piece 71.
In this state, as shown by an arrow on the right side of FIG. 8C, the photoresist 22 exposed from the mask member 23 is exposed by being irradiated with light and exposed. In particular, in this case, the inclined surface 61 of the individual piece 71 is an upwardly inclined surface, and this region of the side surface portion of the individual piece 71 is not vertical as in the prior art. For this reason, the photoresist 22 on the inclined surface 61 is also exposed.

続いて、図8(d)に示すように、マスク部材を取り去り、感光したレジストを除去する。この際、上述したように、個片71の傾斜面61上のフォトレジストも感光されていたので、除去されている。この状態で、電極膜21のエッチングを行う。
これにより、図9(e)に示すように、少なくとも個片71の傾斜面61上で露出していた電極膜21はエッチングにより除去される。
次いで、図9(f)に示すように、フォトレジストを全て除去することにより、個片71に電極形状を形成して、図1ないし図3で説明した水晶振動片40が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 8D, the mask member is removed, and the exposed resist is removed. At this time, as described above, the photoresist on the inclined surface 61 of the individual piece 71 was also exposed and thus removed. In this state, the electrode film 21 is etched.
Thereby, as shown in FIG. 9E, at least the electrode film 21 exposed on the inclined surface 61 of the piece 71 is removed by etching.
Next, as shown in FIG. 9F, by removing all the photoresist, an electrode shape is formed on the piece 71, and the crystal vibrating piece 40 described with reference to FIGS. 1 to 3 is formed.

本実施形態は以上のように構成されており、水晶振動片40の側面部には、この水晶振動片40に形成される電極としての第1の励振電極46と第2の励振電極47に対応して、電気的に分離されるべき領域に、傾斜面61等が形成されている。このため、水晶材料を個片71の形態に加工して、図1ないし図3のような電極形状を形成するに際して、個片71の表面の全面に電極膜21を形成し、フォトリソグラフィを利用して、エッチングにより電極形状を形成する場合において、水晶振動片40の側面部となる部分の傾斜面61等とした箇所にも、露光の際の光を当てることができる。   The present embodiment is configured as described above, and the side surface portion of the crystal vibrating piece 40 corresponds to the first excitation electrode 46 and the second excitation electrode 47 as electrodes formed on the crystal vibrating piece 40. And the inclined surface 61 grade | etc., Is formed in the area | region which should be electrically isolate | separated. For this reason, when the crystal material is processed into the shape of the individual piece 71 to form the electrode shape as shown in FIGS. 1 to 3, the electrode film 21 is formed on the entire surface of the individual piece 71, and photolithography is used. When the electrode shape is formed by etching, light at the time of exposure can also be applied to a portion such as the inclined surface 61 of the portion that becomes the side surface portion of the crystal vibrating piece 40.

このため、例えば、傾斜面61の表面のフォトレジストを、上述のように感光させて除去できることから、傾斜面61の電極膜21をエッチングで取り去ることが可能となる。これにより、電極の形成工程におけるエッチング作業において、電気的に分離されるべき領域に電極膜21を残してしまうことがなく、電極の形状の形成と同時に、電気的に分離されるべき領域の電極膜21を同時に除去できる。このため特別な工程を必要としないので、工程が煩雑になることがなく、また、当該領域に部分的なマスク部材等を配置する必要もないので、電極の形状を形成するのと同じ精度で、必要に応じて、微細な分離領域を形成することができる。   For this reason, for example, since the photoresist on the surface of the inclined surface 61 can be exposed and removed as described above, the electrode film 21 on the inclined surface 61 can be removed by etching. Thereby, the electrode film 21 is not left in the region to be electrically separated in the etching operation in the electrode forming step, and the electrode in the region to be electrically separated simultaneously with the formation of the electrode shape. The film 21 can be removed simultaneously. For this reason, since a special process is not required, the process does not become complicated, and it is not necessary to arrange a partial mask member or the like in the region, so that it has the same accuracy as the electrode shape is formed. If necessary, a fine separation region can be formed.

図10は、個片71の平面図であり、この個片71とその側面部73、74、75、76に、それぞれ、傾斜面61、63、64、65、66、67を形成する場合を示している。つまり、このような傾斜面を設けるべき個片71の側面部は、上述した第1の励振電極46と第2の励振電極47とを分離することが必要とされる領域であるから、枠体45の外周を除く全ての側面部が対象となる。したがって、図10に示した箇所に限られるわけではない。
しかしながら、図10の各側面部は、図示されている結晶軸方位に対する傾斜角度が相違することから、エッチング工程によって形成される傾斜面の形態が相違する。次に、この点について説明する。
FIG. 10 is a plan view of the piece 71, and the case where the inclined surfaces 61, 63, 64, 65, 66 and 67 are formed on the piece 71 and the side surfaces 73, 74, 75 and 76, respectively. Show. That is, the side surface portion of the piece 71 to be provided with such an inclined surface is an area where it is necessary to separate the first excitation electrode 46 and the second excitation electrode 47 described above. All side surfaces except for the outer periphery of 45 are targeted. Therefore, the present invention is not limited to the location shown in FIG.
However, since each side surface portion of FIG. 10 has a different inclination angle with respect to the crystal axis orientation shown in the drawing, the shape of the inclined surface formed by the etching process is different. Next, this point will be described.

図11は、図6で説明した個片71の側面部73の周辺形状をエッチングする工程の説明図である。
第1のマスク部材81の切欠き窓部83の奥部から開口部を見た場合に端面84の左側方向をMDRとし、個片71を作るための水晶材料77の水晶片側(内側)から水晶片端面を見た場合に、側面部73の左側方向をTDRとする。この場合、第1のマスク部材81はその開口端面84を水晶材料77の側面部73に沿わせるので、MDRとTDRは平行である。
そして、TDRが反時計回りの方向で最寄りとなる水晶振動片の電気軸(+X軸)とのなす角度をθとした場合に、このθは、MDRが反時計回りの方向で最寄りとなる水晶振動片の電気軸(+X軸)とのなす角度と一致している。
FIG. 11 is an explanatory diagram of a process of etching the peripheral shape of the side surface portion 73 of the individual piece 71 described in FIG.
When the opening is viewed from the back of the notch window portion 83 of the first mask member 81, the left side direction of the end face 84 is MDR, and the crystal material from the crystal material side (inside) of the crystal material 77 for making the piece 71 is crystal. When one end surface is viewed, the left side direction of the side surface portion 73 is defined as TDR. In this case, since the first mask member 81 has the opening end surface 84 along the side surface portion 73 of the crystal material 77, MDR and TDR are parallel to each other.
When θ is the angle between the TDR and the electrical axis (+ X axis) of the crystal resonator piece that is closest in the counterclockwise direction, θ is the crystal that is closest to the MDR in the counterclockwise direction. This coincides with the angle formed by the electric axis (+ X axis) of the resonator element.

ここで、図10で説明したように、傾斜面を形成するべき個片71の側面部が、側面部73、74、75、76のいずれかにより、上記θの値が変化する。
次に、この角度θを変化させて、傾斜面を形成する実験に基づいて、形成された傾斜面の形態の変化を説明する。
Here, as described with reference to FIG. 10, the value of θ changes depending on which of the side surface portions 73, 74, 75, and 76 of the individual piece 71 to form the inclined surface.
Next, a change in the form of the formed inclined surface will be described based on an experiment in which the inclined surface is formed by changing the angle θ.

図12は、図10で説明した傾斜面61を拡大して示した部分拡大斜視図である。図において、傾斜面を形成するべき側面部73の方向TDRと、水晶振動片の電気軸(+X軸)とが一致しており、角度θはゼロである。この場合には、図示されているように、傾斜面が形成される領域61aの幅全体に、均一な傾斜となった傾斜面61が形成される。
尚、図10に示されているように、水晶は、Z軸回りに、120度回転させた結晶構造が互いに同一で、Z軸回りに、120度ずつの対称性をもつ。このため、図10で説明した傾斜面64と傾斜面65も、傾斜面を形成するべき各側面部75,75の方向TDRが反時計回り方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)との角度が0度である。そしてこの場合に、傾斜面64と傾斜面65も、図12に示す傾斜面61と同じ形態で形成されることが確認された。
12 is a partially enlarged perspective view showing the inclined surface 61 described with reference to FIG. 10 in an enlarged manner. In the figure, the direction TDR of the side surface portion 73 to form the inclined surface coincides with the electric axis (+ X axis) of the quartz crystal vibrating piece, and the angle θ is zero. In this case, as shown, the inclined surface 61 having a uniform inclination is formed over the entire width of the region 61a where the inclined surface is formed.
As shown in FIG. 10, the crystal has the same crystal structure rotated 120 degrees around the Z axis, and has symmetry of 120 degrees around the Z axis. For this reason, the inclined surface 64 and the inclined surface 65 described with reference to FIG. 10 also have an angle with the nearest electric axis (+ X axis) in the counterclockwise direction of the direction TDR of each side surface portion 75, 75 that should form the inclined surface. 0 degrees. In this case, it is confirmed that the inclined surface 64 and the inclined surface 65 are also formed in the same form as the inclined surface 61 shown in FIG.

図13は、図10で説明した傾斜面63を拡大して示した部分拡大斜視図である。図において、傾斜面を形成するべき側面部74の方向TDRと反時計回りの方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)とがなす角度θは、30度である。この場合には、図示されているように、傾斜面が形成される領域63aの幅方向に対してやや斜めとなった角度を有する傾斜面63が形成される。   FIG. 13 is a partially enlarged perspective view showing the inclined surface 63 described in FIG. 10 in an enlarged manner. In the figure, the angle θ formed by the nearest electric axis (+ X axis) with respect to the direction TDR of the side surface portion 74 to form the inclined surface and the counterclockwise direction is 30 degrees. In this case, as illustrated, an inclined surface 63 having an angle slightly inclined with respect to the width direction of the region 63a where the inclined surface is formed is formed.

図14は、図10で説明した傾斜面66または67を拡大して示した部分拡大斜視図である。図において、傾斜面を形成するべき側面部76の方向TDRと反時計回りの方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)とがなす角度θは、60度である。この場合には、図示されているように、傾斜面が形成される領域66a内で、複数の角度の傾斜面が結合した形態の傾斜面66または67が形成される。この場合にも、領域66a内においては、全体として、図において、上から下へかけて、外側に向かう傾斜面となっている。   FIG. 14 is a partially enlarged perspective view showing the inclined surface 66 or 67 described in FIG. 10 in an enlarged manner. In the drawing, the angle θ formed by the direction TDR of the side surface portion 76 to form the inclined surface and the nearest electric axis (+ X axis) with respect to the counterclockwise direction is 60 degrees. In this case, as shown in the drawing, an inclined surface 66 or 67 having a shape in which inclined surfaces having a plurality of angles are combined is formed in a region 66a where the inclined surface is formed. Also in this case, the region 66a as a whole has an inclined surface that extends outward from the top to the bottom in the drawing.

図15は、図10で示していない傾斜面の拡大図である。この場合、個片71の傾斜面を形成すべき側面部を85で示しており、側面部85の方向TDRと反時計回りの方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)とがなす角度θは、15度である。この例では、図示されているように、傾斜面が形成される領域86aの幅方向に対してやや斜めとなった角度を有する傾斜面86が形成されている。   FIG. 15 is an enlarged view of an inclined surface not shown in FIG. In this case, the side surface portion on which the inclined surface of the piece 71 is to be formed is indicated by 85, and the angle θ formed by the nearest electric axis (+ X axis) with respect to the direction TDR of the side surface portion 85 and the counterclockwise direction is It is 15 degrees. In this example, as shown in the figure, an inclined surface 86 having an angle slightly inclined with respect to the width direction of the region 86a where the inclined surface is formed is formed.

図16も、図10で示していない傾斜面の拡大図である。この場合、個片の傾斜面を形成すべき側面部を88で示しており、側面部88の方向TDRと反時計回りの方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)とがなす角度θは、45度である。この例では、図示されているように、傾斜面が形成される領域87a内で、複数の角度の傾斜面が結合した形態の傾斜面87が形成される。この場合にも、領域87a内においては、全体として、図において、上から下へかけて、外側に向かう傾斜面となっている。
このように、個片71の傾斜面を形成すべき側面部の方向TDRと、水晶振動片の電気軸(+X軸)とがなす角度θが、いずれの角度においても、その表面をエッチングできる傾斜面が形成されることが上記の結果から容易に考察できる。
FIG. 16 is also an enlarged view of an inclined surface not shown in FIG. In this case, the side surface portion on which the inclined surface of the piece is to be formed is indicated by 88, and the angle θ formed by the nearest electric axis (+ X axis) with respect to the direction TDR of the side surface portion 88 and the counterclockwise direction is 45. Degree. In this example, as shown in the drawing, an inclined surface 87 having a form in which inclined surfaces having a plurality of angles are combined is formed in a region 87a where the inclined surface is formed. Also in this case, in the region 87a as a whole, an inclined surface is directed outward from the top to the bottom in the drawing.
Thus, the angle θ formed by the direction TDR of the side surface where the inclined surface of the piece 71 should be formed and the electric axis (+ X axis) of the quartz crystal vibrating piece can be etched at any angle. It can be easily considered from the above results that a surface is formed.

図17は、第1のマスク部材81の切欠き窓部83の奥行きD2により、エッチング加工で形成される傾斜面Tの形態が変化する様子を示しており、切欠き窓部83の奥行きD2は、傾斜面Tが形成される領域の奥行きD1と一致する。   FIG. 17 shows how the shape of the inclined surface T formed by the etching process changes depending on the depth D2 of the cutout window portion 83 of the first mask member 81. The depth D2 of the cutout window portion 83 is as follows. , Which coincides with the depth D1 of the region where the inclined surface T is formed.

図17(a)では、切欠き窓部83の奥行きD2が十分大きく、このため傾斜面Tが形成される領域の奥行きD1も大きい。この場合には、傾斜面Tは適切に形成される。
これに対して、図17(b)では、切欠き窓部83の奥行きD2が小さく、このため傾斜面Tが形成される領域の奥行きD1は浅い。この場合には、傾斜面Tは適切に形成されないで、側面部に垂直な部分Taを形成してしまう。この部分は、電極膜がエッチングされないことから、水晶振動片40の電極を適切に分離できないおそれがある。
以上のことから、個片71に形成される傾斜面Tの形態と性能は、TDR及びMDRと反時計回りの方向に関して最寄りの電気軸(+X軸)との角度θと、側面部の厚みt、D1,D2の値により変化することがわかる。
In FIG. 17A, the depth D2 of the cutout window 83 is sufficiently large, and therefore the depth D1 of the region where the inclined surface T is formed is also large. In this case, the inclined surface T is appropriately formed.
On the other hand, in FIG. 17B, the depth D2 of the cutout window 83 is small, and therefore the depth D1 of the region where the inclined surface T is formed is shallow. In this case, the inclined surface T is not properly formed, and a portion Ta perpendicular to the side surface portion is formed. In this portion, since the electrode film is not etched, there is a possibility that the electrodes of the crystal vibrating piece 40 cannot be separated properly.
From the above, the form and performance of the inclined surface T formed on the individual piece 71 are the angle θ between the TDR and MDR and the nearest electric axis (+ X axis) with respect to the counterclockwise direction, and the thickness t of the side surface portion. , D1 and D2 change.

そして、本発明者等の実験によれば、上述の各値が、
D2・cosθ>t/√3・・・・・・(1)式
及び
D1・cosθ>t/√3・・・・・・(2)式
の関係式を満たす場合に、水晶振動片40の電極を、電気的に分離することができることが判明した。
なお、上述の実施形態では、水晶振動片40が、水晶片本体48と枠体45で構成されている場合について説明しているが、これに限らず、水晶振動片が、この場合の水晶片本体に電極を形成してできていて、枠体を備えない構成とし、このような水晶振動片を、ケースもしくはパッケージに収容する構成としてもよい。
And according to the experiments by the present inventors, each of the above values is
D2 · cos θ> t / √3 (1) and
D1 · cos θ> t / √3 ················································ (2)
In the above-described embodiment, the case where the crystal vibrating piece 40 includes the crystal piece main body 48 and the frame body 45 is described. However, the present invention is not limited thereto, and the crystal vibrating piece is the crystal piece in this case. An electrode may be formed on the main body, the frame body may not be provided, and such a crystal vibrating piece may be accommodated in a case or a package.

図18は、本発明の上述した実施形態に係る水晶デバイスを利用した電子機器の一例としてのデジタル式携帯電話装置の概略構成を示す図である。
図において、送信者の音声を受信するマイクロフォン308及び受信内容を音声出力とするためのスピーカ309を備えており、さらに、送受信信号の変調及び復調部に接続された制御部としての集積回路等でなるコントローラ301を備えている。
コントローラ301は、送受信信号の変調及び復調の他に画像表示部としてのLCDや情報入力のための操作キー等でなる情報の入出力部302や、RAM,ROM等でなる情報記憶手段303の制御を行うようになっている。このため、コントローラ301には、水晶デバイス30が取り付けられて、その出力周波数をコントローラ301に内蔵された所定の分周回路(図示せず)等により、制御内容に適合したクロック信号として利用するようにされている。このコントローラ301に取付けられる水晶デバイス30は、水晶デバイス30等単体でなくても、水晶デバイス30等と、所定の分周回路等とを組み合わせた発振器であってもよい。
FIG. 18 is a diagram showing a schematic configuration of a digital mobile phone device as an example of an electronic apparatus using the crystal device according to the above-described embodiment of the present invention.
In the figure, a microphone 308 for receiving the voice of the sender and a speaker 309 for outputting the received content as a voice output are provided, and further, an integrated circuit or the like as a control unit connected to the modulation and demodulation unit of the transmission / reception signal. A controller 301 is provided.
In addition to modulation and demodulation of transmission / reception signals, the controller 301 controls an information input / output unit 302 including an LCD as an image display unit, an operation key for inputting information, an information storage unit 303 including a RAM, a ROM, and the like. Is supposed to do. Therefore, the crystal device 30 is attached to the controller 301, and the output frequency is used as a clock signal suitable for the control content by a predetermined frequency dividing circuit (not shown) built in the controller 301. Has been. The crystal device 30 attached to the controller 301 may not be a single crystal device 30 or the like, but may be an oscillator that combines the crystal device 30 and the like with a predetermined frequency dividing circuit or the like.

コントローラ301は、さらに、温度補償水晶発振器(TCXO)305と接続され、温度補償水晶発振器305は、送信部307と受信部306に接続されている。これにより、コントローラ301からの基本クロックの周波数が、環境温度により変化し変動しても、温度補償水晶発振器305により修正されて、送信部307及び受信部306に与えられるようになっている。   The controller 301 is further connected to a temperature compensated crystal oscillator (TCXO) 305, and the temperature compensated crystal oscillator 305 is connected to the transmission unit 307 and the reception unit 306. As a result, even if the frequency of the basic clock from the controller 301 changes and fluctuates depending on the environmental temperature, it is corrected by the temperature compensated crystal oscillator 305 and supplied to the transmission unit 307 and the reception unit 306.

このように、制御部を備えた携帯電話装置300のような電子機器に、上述した実施形態に係る水晶デバイス30を利用することにより、比較的簡単な製造工程を用いて、水晶振動片の特性に影響を与えずに、微細な形態の電極を形成した水晶振動片を用いた性能のよい水晶デバイスが使用でき、正確なクロック信号を生成することができる。   Thus, by using the crystal device 30 according to the above-described embodiment for an electronic apparatus such as the mobile phone device 300 including the control unit, the characteristics of the crystal resonator element can be obtained using a relatively simple manufacturing process. Without affecting the above, it is possible to use a crystal device with good performance using a crystal resonator element in which a fine-shaped electrode is formed, and an accurate clock signal can be generated.

本発明は上述の実施形態に限定されない。各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略し、図示しない他の構成と組み合わせることができる。
また、この発明が適用される水晶振動片は、上述した枠体を備えた音叉型の振動片に限らず、パッケージ内にマウントされる音叉型の振動片、あるいは、矩形や音叉型以外の異形の振動片等、表面に駆動用もしくは検出用の電極が形成される全ての水晶振動片に適用することができる。
さらに、また、この発明は、水晶振動片をケースまたはパッケージに収容するものであれば、ケースもしくはパッケージ内に、実施形態では説明しなかった集積回路その他の構成を含むものでも適用でき、水晶振動子、水晶発振器、水晶(圧電)ジャイロ等の名称にかかわらず、全ての水晶デバイスに適用することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment. Each configuration of each embodiment can be appropriately combined or omitted, and can be combined with other configurations not shown.
Further, the crystal vibrating piece to which the present invention is applied is not limited to the tuning fork type vibrating piece having the above-described frame body, but a tuning fork type vibrating piece mounted in a package, or an irregular shape other than a rectangular or tuning fork type. The present invention can be applied to all quartz crystal vibrating pieces having driving or detecting electrodes formed on the surface thereof.
Furthermore, the present invention can also be applied to a case in which the quartz crystal resonator element is accommodated in a case or a package, and the case or package including an integrated circuit or other configuration not described in the embodiment. It can be applied to all crystal devices regardless of names such as a child, a crystal oscillator, and a crystal (piezoelectric) gyro.

本発明の水晶デバイスの実施形態のケースの一部を透明にして、内部の様子を示した概略平面図。The schematic plan view which made some cases of the crystal device embodiment of the present invention transparent, and showed the inside. 図1のB−B線概略断面図。BB schematic sectional drawing of FIG. 図1の水晶デバイスの概略分解斜視図。FIG. 2 is a schematic exploded perspective view of the crystal device of FIG. 1. 図1の水晶デバイスの水晶振動片の図3とは異なる向きに示した概略斜視図。The schematic perspective view shown in the direction different from FIG. 3 of the crystal vibrating piece of the crystal device of FIG. 図1の水晶デバイスの水晶振動片を形成する振動片の個片を示す図であり、(a)はその概略斜視図、(b)は(a)とは異なる向きに示した個片の概略斜視図。It is a figure which shows the piece of the vibration piece which forms the crystal | crystallization vibration piece of the crystal device of FIG. 1, (a) is the schematic perspective view, (b) is the outline of the piece shown in the direction different from (a). Perspective view. 図1の水晶デバイスの水晶振動片を形成するための個片の側面部に傾斜面を形成する構成を示す部分拡大斜視図であり、(a)はそのためのマスク部材の構成を示す図、(b)は、個片にマスク部材を配置する様子を示す図(c)は、エッチングにより傾斜面を形成した様子を示す図。It is the elements on larger scale which show the structure which forms an inclined surface in the side part of the piece for forming the crystal vibrating piece of the crystal device of FIG. 1, (a) is a figure which shows the structure of the mask member for that, (b) is a figure which shows a mode that a mask member is arrange | positioned to an individual piece, (c) is a figure which shows a mode that the inclined surface was formed by the etching. 個片に電極膜を形成する工程の一部を示す図であり、(a)は、電極膜を形成した図、(b)は、レジストを塗布した状態を示す図。It is a figure which shows a part of process of forming an electrode film in a piece, (a) is a figure which formed the electrode film, (b) is a figure which shows the state which apply | coated the resist. 個片に電極膜を形成する工程の一部を示す図であり、(c)は、マスク部材を配置した状態を示す図、(d)は、感光したレジストを除去した状態を示す図。It is a figure which shows a part of process of forming an electrode film in a piece, (c) is a figure which shows the state which has arrange | positioned the mask member, (d) is a figure which shows the state which removed the resist which exposed. 個片に電極膜を形成する工程の一部を示す図であり、(e)は、不要な電極膜をエッチングで除去した状態の図、(f)は、レジストを除去した状態を示す図。It is a figure which shows a part of process of forming an electrode film in a piece, (e) is a figure of the state which removed the unnecessary electrode film by etching, (f) is a figure which shows the state which removed the resist. 図1の水晶デバイスの水晶振動片を形成するための個片について、傾斜面を形成することができる側面部の例として、複数の位置を示した概略平面図。The schematic plan view which showed the several position as an example of the side part which can form an inclined surface about the piece for forming the crystal vibrating piece of the crystal device of FIG. 図1の水晶デバイスの水晶振動片を形成するための個片の側面部の方向TDR及びマスク部材の開口端面の方向MDRと、水晶振動片の電気軸(+X軸)との角度θ等の関係を示す説明図。Relationship between the direction TDR of the side surface portion of the individual piece and the direction MDR of the opening end face of the mask member for forming the crystal vibrating piece of the crystal device of FIG. 1 and the angle θ etc. between the electric axis (+ X axis) of the crystal vibrating piece FIG. 図10の傾斜面61の具体的形態を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the specific form of the inclined surface 61 of FIG. 図10の傾斜面63の具体的形態を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the specific form of the inclined surface 63 of FIG. 図10の傾斜面66もしくは傾斜面67の具体的形態を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the specific form of the inclined surface 66 or the inclined surface 67 of FIG. 図10に示した傾斜面以外の形成例に関して、傾斜面86の具体的形態を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the specific form of the inclined surface 86 regarding the formation examples other than the inclined surface shown in FIG. 図10に示した傾斜面以外の形成例に関して、傾斜面87の具体的形態を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the specific form of the inclined surface 87 regarding the formation examples other than the inclined surface shown in FIG. 個片に傾斜面を形成するためのマスク部材の切欠き窓部の深さに対応して傾斜面の形態が異なることを説明するための図であり、(a)は切欠き窓部が十分深い場合を示す説明図、(b)は切欠き窓部が浅く形成されている場合を示す説明図。It is a figure for demonstrating that the form of an inclined surface changes according to the depth of the notch window part of the mask member for forming an inclined surface in a piece, (a) is a notch window part enough Explanatory drawing which shows the case where it is deep, (b) Explanatory drawing which shows the case where the notch window part is formed shallowly. 本発明の各実施形態に係る水晶デバイスを利用した電子機器の一例としてのデジタル式携帯電話装置の概略構成を示す図。1 is a diagram showing a schematic configuration of a digital mobile phone device as an example of an electronic apparatus using a crystal device according to each embodiment of the present invention. 従来の水晶デバイスの水晶振動片の形成工程を示す概略工程図であり、(a)は、ひとつの振動片を形成するための水晶片を形成する図、(b)は、水晶片の全面に電極膜を形成する図、(c)は、水晶片の電極膜の表面全体にレジストを塗布する図。It is a general | schematic process figure which shows the formation process of the quartz crystal vibrating piece of the conventional quartz device, (a) is a figure which forms the quartz piece for forming one vibrating piece, (b) is the whole surface of a quartz piece. The figure which forms an electrode film, (c) is a figure which apply | coats a resist to the whole surface of the electrode film of a crystal piece. 従来の水晶デバイスの水晶振動片の形成工程を示す概略工程図であり、(d)は、レジストの表面にマスク部材を配置した図、(e)は、感光したレジストを除去した図、(f)は、エッチングにより不要な電極膜をエッチングで除去した図。It is a schematic process drawing which shows the formation process of the quartz crystal resonator element of the conventional quartz device, (d) is the figure which has arrange | positioned the mask member on the surface of a resist, (e) is the figure which removed the resist resist, (f) ) Is a diagram in which unnecessary electrode films are removed by etching. 従来の水晶デバイスの水晶振動片の形成工程を示す概略工程図であり、(g)は、レジストを除去した図。It is a schematic process figure which shows the formation process of the quartz crystal vibrating piece of the conventional quartz device, (g) is the figure which removed the resist. 従来の水晶デバイスの水晶振動片の形成において、電極の形成に先立って水晶片に複数のマスク部材を配置する様子を示し、(a)はその概略斜視図、(b)は、(a)のA−A線概略断面図。In the formation of the quartz crystal resonator element of the conventional quartz device, a state in which a plurality of mask members are arranged on the quartz piece prior to the formation of the electrodes is shown, (a) is a schematic perspective view thereof, and (b) is a schematic perspective view of (a). AA line schematic sectional drawing. 従来の水晶デバイスの水晶振動片の形成において、電極の形成に先立って側面部に突起もしくは凸部を形成した様子を示す図。The figure which shows a mode that the processus | protrusion or the convex part was formed in the side part prior to formation of an electrode in formation of the crystal vibrating piece of the conventional crystal device.

符号の説明Explanation of symbols

30・・・水晶デバイス、31・・・上ケース、35・・・下ケース、40・・・水晶振動片、41・・・基部、43,44・・・振動腕、46・・・第1の励振電極、47・・・第2の励振電極、48・・・水晶片本体、61,62,63,64,65,66,67,86,87・・・傾斜面、71・・・個片、72,73,74,75,76,85,88・・・側面部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Quartz device, 31 ... Upper case, 35 ... Lower case, 40 ... Crystal vibrating piece, 41 ... Base part, 43, 44 ... Vibrating arm, 46 ... 1st Excitation electrode, 47... Second excitation electrode, 48... Crystal piece main body, 61, 62, 63, 64, 65, 66, 67, 86, 87. Piece, 72, 73, 74, 75, 76, 85, 88 ... side surface

Claims (7)

パッケージ内に枠体付きの音叉型水晶振動片を収容した水晶デバイスであって、
前記音叉型水晶振動片は、
前記枠体と、
該枠体の内側に形成されている基部と、
該基部を介して互いに接続された第1、第2の振動腕と、
前記第1の振動腕の側面および前記第2の振動腕の表面に形成された第1の励振電極と、
前記第1の振動腕の表面および前記第2の振動腕の側面に形成された第2の励振電極と、
前記枠体および前記基部の少なくとも一方の表面に形成された切欠き窓部と、
前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって、厚さ方向に傾斜した傾斜面と
を有し、
前記第1、第2の振動腕と、前記基部と、前記枠体とは一体で形成されており、
前記傾斜面に前記第1の励振電極と前記第2の励振電極とを分離する電極分離領域が形成され,
前記第1の励振電極から引き出され、かつ、前記枠体の第1の辺に引き出された第1の引出し電極と、前記第2の励振電極から引き出され、かつ、前記枠体の第2の辺に引き出された第2の引出し電極とを有することを特徴とする水晶デバイス。
A crystal device that accommodates a tuning fork type crystal resonator element with a frame in a package,
The tuning fork type crystal vibrating piece is:
The frame;
A base formed inside the frame;
First and second vibrating arms connected to each other via the base ;
A first excitation electrode formed on a side surface of the first vibrating arm and a surface of the second vibrating arm;
A second excitation electrode formed on a surface of the first vibrating arm and a side surface of the second vibrating arm;
A notch window formed on at least one surface of the frame and the base;
An inclined surface inclined in the thickness direction from the base end portion of the cutout window portion toward the open end,
The first and second vibrating arms, the base, and the frame are integrally formed,
An electrode separation region for separating the first excitation electrode and the second excitation electrode is formed on the inclined surface ,
A first extraction electrode drawn from the first excitation electrode and drawn to a first side of the frame; a second extraction electrode drawn from the second excitation electrode; and a second of the frame A crystal device comprising: a second extraction electrode drawn out to the side .
前記音叉型水晶振動片の側面の延びる方向をTDRとし、このTDRが、前記音叉型水晶振動片の電気軸(+X軸)と一致する領域において、前記切欠き窓部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の水晶デバイス。 The direction in which the side surface of the tuning-fork type quartz vibrating piece extends is TDR, and the notch window portion is formed in a region where this TDR coincides with the electric axis (+ X axis) of the tuning-fork type quartz vibrating piece. The crystal device according to claim 1, wherein 前記音叉型水晶振動片の側面の延びる方向をTDRとし、前記音叉型水晶振動片の前記切欠き窓部が形成される領域の厚みをtとし、前記TDRが前記音叉型水晶振動片の反時計回り方向最寄りの電気軸(+X軸)となす角度をθとし、前記傾斜面が設けられる領域の奥行きをD1とした場合、次の関係式
D1・cosθ>t/√3
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の水晶デバイス。
The direction in which the side surface of the tuning-fork type quartz vibrating piece extends is TDR, the thickness of the region where the notch window portion of the tuning-fork type quartz vibrating piece is formed is t, and the TDR is the counterclockwise of the tuning-fork type quartz vibrating piece. When the angle formed with the electric axis (+ X axis) nearest to the rotation direction is θ and the depth of the region where the inclined surface is provided is D1, the following relational expression
D1 · cos θ> t / √3
The crystal device according to claim 1, wherein:
枠体と、
該枠体の内側に形成されている基部と、該基部から延びる第1、第2の振動腕と、前記第1の振動腕の側面および前記第2の振動腕の表面に形成された第1の励振電極と、前記第1の振動腕の表面および前記第2の振動腕の側面に形成された第2の励振電極と、前記枠体および前記基部の少なくとも一方の表面に形成された切欠き窓部と、前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって、厚さ方向に傾斜した傾斜面と、を有する枠体付きの音叉型水晶振動片の製造方法であって、
前記振動腕と、前記基部と、前記枠体とは一体でなるように、枠体付きの音叉型振動片の外形をエッチングにより得る外形形成工程と、
次に、前記音叉型水晶振動片の表面および側面部に、前記第1および第2の励振電極を形成する電極形成工程と、
を有し、
前記外形形成工程は、
前記枠体付きの音叉型水晶振動片の表面および裏面から、それぞれマスク部材を配置して、挟むようにしてエッチングする工程であって、前記各マスク部材のうち、一方のマスク部材の側縁には切欠き窓部が設けられ、前記枠体付きの音叉型水晶振動片は、前記切欠き窓部の基端部から開放端に向かって下降する、厚さ方向に傾斜した傾斜面が形成される
ことを特徴とする音叉型水晶振動片の製造方法。
A frame,
A base formed inside the frame, first and second vibrating arms extending from the base, and a first formed on a side surface of the first vibrating arm and a surface of the second vibrating arm. An excitation electrode, a second excitation electrode formed on the surface of the first vibrating arm and a side surface of the second vibrating arm, and a notch formed on at least one surface of the frame and the base A method for producing a tuning fork type crystal vibrating piece with a frame having a window part and an inclined surface inclined in the thickness direction from a base end part of the cutout window part toward an open end,
An outer shape forming step for obtaining an outer shape of a tuning-fork type vibrating piece with a frame by etching so that the vibrating arm, the base, and the frame are integrated,
Next, an electrode forming step of forming the first and second excitation electrodes on the surface and side surfaces of the tuning fork type quartz vibrating piece,
Have
The outer shape forming step includes
A mask member is disposed from each of the front and back surfaces of the tuning-fork type crystal vibrating piece with a frame and etched so as to be sandwiched between the mask members, and one of the mask members is cut at a side edge of one mask member. A notched window portion is provided, and the tuning fork type crystal vibrating piece with the frame body is formed with an inclined surface inclined in the thickness direction that descends from the base end portion of the notched window portion toward the open end. A method for producing a tuning-fork type crystal vibrating piece characterized by the above.
前記マスク部材は、スパッタリングにより形成された膜をフォトエッチングすることにより形成されることを特徴とする請求項4に記載の音叉型水晶振動片の製造方法。   5. The method of manufacturing a tuning-fork type crystal vibrating piece according to claim 4, wherein the mask member is formed by photoetching a film formed by sputtering. 前記マスク部材の側面部が延びる方向をMDRとし、前記音叉型水晶振動片の電気軸(+X軸)に沿った領域に前記切欠き窓部が配置されることを特徴とする、請求項4または5のいずれかに記載の音叉型水晶振動片の製造方法。   The direction in which the side surface portion of the mask member extends is MDR, and the cutout window portion is disposed in a region along the electric axis (+ X axis) of the tuning fork type crystal vibrating piece. 6. A method for producing a tuning-fork type crystal vibrating piece according to any one of 5 above. 前記マスク部材の側面部が延びる方向をMDRとし、前記水晶片の前記側面部における厚みをtとし、前記MDRが前記水晶片の反時計回り方向最寄りの電気軸(+X軸)となす角度をθとし、前記切欠き窓部の奥行きをD2とした場合、次の関係式
D2・cosθ>t/√3
を満たすことを特徴とする、請求項4または5のいずれかに記載の音叉型水晶振動片の製造方法。
The direction in which the side surface portion of the mask member extends is MDR, the thickness at the side surface portion of the crystal piece is t, and the angle between the MDR and the nearest electric axis (+ X axis) in the counterclockwise direction of the crystal piece is θ. When the depth of the notch window portion is D2, the following relational expression
D2 · cos θ> t / √3
The method for manufacturing a tuning-fork type crystal vibrating piece according to claim 4, wherein:
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4934125B2 (en) * 2008-12-02 2012-05-16 日本電波工業株式会社 Piezoelectric frame and piezoelectric device
JP4864152B2 (en) * 2009-07-23 2012-02-01 日本電波工業株式会社 Surface mount crystal unit
US8283988B2 (en) 2010-02-25 2012-10-09 Seiko Epson Corporation Resonator element, resonator, oscillator, and electronic device
JP5732728B2 (en) * 2010-02-25 2015-06-10 セイコーエプソン株式会社 Vibrating piece, vibrator and oscillator
JP6182998B2 (en) 2013-06-24 2017-08-23 セイコーエプソン株式会社 Quartz crystal resonator element, vibrator, electronic device, electronic equipment, and moving object

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413286A (en) * 1977-07-01 1979-01-31 Citizen Watch Co Ltd Manufacture for subminiature crystal oscillator
JPS5753125A (en) * 1980-09-17 1982-03-30 Seiko Instr & Electronics Ltd Quartz resonator unit
JPH01179513A (en) * 1988-01-09 1989-07-17 Kinseki Ltd Etching processing method for crystal resonator
JPH09238041A (en) * 1996-02-28 1997-09-09 Kinseki Ltd Connection terminal structure for piezoelectric element board and its manufacture
JP2002076806A (en) * 2000-09-01 2002-03-15 Seiko Epson Corp Method for manufacturing vibration reed, the vibration reed, vibrator having the vibration reed, oscillator and mobile phone
JP4106540B2 (en) * 2002-08-08 2008-06-25 セイコーエプソン株式会社 Quartz Device, Quartz Vibrating Piece, Quartz Vibrating Piece Manufacturing Method, Cell Phone Device Using Quartz Device, and Electronic Equipment Using Quartz Device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6424367A (en) * 1987-07-20 1989-01-26 Fuji Electric Co Ltd Electrolyte level lowering detector of free electrolyte type fuel cell

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413286A (en) * 1977-07-01 1979-01-31 Citizen Watch Co Ltd Manufacture for subminiature crystal oscillator
JPS5753125A (en) * 1980-09-17 1982-03-30 Seiko Instr & Electronics Ltd Quartz resonator unit
JPH01179513A (en) * 1988-01-09 1989-07-17 Kinseki Ltd Etching processing method for crystal resonator
JPH09238041A (en) * 1996-02-28 1997-09-09 Kinseki Ltd Connection terminal structure for piezoelectric element board and its manufacture
JP2002076806A (en) * 2000-09-01 2002-03-15 Seiko Epson Corp Method for manufacturing vibration reed, the vibration reed, vibrator having the vibration reed, oscillator and mobile phone
JP4106540B2 (en) * 2002-08-08 2008-06-25 セイコーエプソン株式会社 Quartz Device, Quartz Vibrating Piece, Quartz Vibrating Piece Manufacturing Method, Cell Phone Device Using Quartz Device, and Electronic Equipment Using Quartz Device

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