JP4645271B2 - 投影光学系の製造方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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- 露光装置に備えられる投影光学系の製造方法であって、
前記投影光学系を構成する少なくとも1つの光学素子及び該光学素子と同一の形状であり光学面にマークを有する代替光学素子を準備する光学素子準備工程と、
前記代替光学素子の光学面、基準面及び前記マークの位置の計測を行なう第1計測工程と、
前記光学素子の光学面及び基準面の計測を行なう第2計測工程と、
前記代替光学素子を用いて前記投影光学系の組み立てを行なう仮組立工程と、
前記仮組立工程により組み立てられた前記投影光学系の波面収差及び前記代替光学素子の前記マークの位置の計測を行なう第3計測工程と、
前記代替光学素子に代えて前記光学素子を用いて前記投影光学系の組み立てを行なう組立工程を含み、
前記組立工程においては、前記第1計測工程、前記第2計測工程及び前記第3計測工程の計測値に基づいて前記光学素子の位置決めを行なうことを特徴とする投影光学系の製造方法。 - 前記第3計測工程は、該第3計測工程において用いられる干渉計の焦点位置の調整を行なう工程を含むことを特徴とする請求項1記載の投影光学系の製造方法。
- 前記組立工程は、前記投影光学系の波面収差を計測する波面収差計測工程と、
前記波面収差計測工程により計測された波面収差に基づいて前記光学素子の位置の調整を行なう調整工程と
を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の投影光学系の製造方法。 - 照明光によりマスクの照明を行なう照明光学系と、
請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の製造方法により製造された投影光学系と
を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項4記載の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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