JP4642684B2 - レーザ熱転写装置及びその装置を利用したレーザ熱転写法 - Google Patents
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Description
図1は、従来の技術によるレーザ熱転写装置の断面図である。
また、このような従来の技術は、有機発光素子を製作する他の工程が真空チャンバ内で進行されるのとは違って大気中で行われることにより、酸素及び水気などによって有機発光素子の信頼性、寿命及び素子特性の低下を惹起させる。
しかし、有機発光素子の転写工程を真空チャンバ内で遂行する場合、有機発光表示素子の信頼性、寿命及び素子特性が向上することはできるが、転写層と基板の間に微細な空隙(孔)または異物などが発生されても真空ポンプまたは真空を利用したラミネーティング法を利用する工程を遂行することができず、転写層と基板の間の密着特性はさらに低下されるという問題点を持つ。
図2を参照すれば、レーザ熱転写装置200はレーザオシレータ220を利用して電磁石が具備された基板ステージ260と、前記基板ステージ260上部に位置されるドナーフィルム241と前記ドナーフィルム241上部に位置される密着フレーム232とを含む。
前記レーザオシレータ220は、前記工程チャンバ210上部に位置される。前記レーザオシレータ220は、前記工程チャンバ210の外部または内部に設置することができ、前記レーザオシレータ220から発生するレーザが前記ドナーフィルム241上部から転写されうるように設置されるのが好ましい。
図3a及び図3bを参照すれば、前記基板ステージ260内部にホーム263を形成する。前記ホーム263内側面の所定領域にコイルが巻かれた棒状の電磁石264が形成される。前記電磁石264が複数の列に配置される場合、レーザが照射される電磁石のみに電力を印加し、磁性層が具備された密着フレームと磁気力を発生するようにして、レーザが照射される部分上に連続的に局所的なラミネーティングが行われるようにする。また、図示されなかったが各電磁石264には電力を印加する電気配線が形成される。
前記実施例では、電磁石を複数の列に配置したが、同心円状に配置されうることは勿論である。
図4を参照すれば、前記密着フレーム232は前記磁性体234及び少なくとも一つの開口ホーム233を具備する。
ここで、前記磁性体234は、図2に示された基板ステージ260内部に形成された電磁石264と磁気力を形成する。前記磁性層234は磁石にくっつく一般的な物質からなり、例えば鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)及びこれらの合金(Fe3O4、CoFeO4、MnFeO4)または磁石にくっつくすべての無機・有機物質の中で少なくとも一つの物質からなる。
前記レーザオシレータ220は、前記ドナーフィルム241上部に位置される。前記レーザオシレータ220は、チャンバの外部または内部に設置されうるし、前記レーザオシレータ220から発生するレーザがドナーフィルム上部から照らされうるように設置されるのが好ましい。
図6aを参照すれば、本レーザ熱転写法を説明するためには、まず、移送チャンバ400内にロボットアーム420とエンドエフェクタ410をローディングする。前記移送チャンバ400は、真空雰囲気を維持することが好ましい。前記移送チャンバ400内にローディングされた前記エンドエフェクタ410上に基板250を安着させる(S1参照)。
この時、磁性体は、鉄、ニッケル、クロムまたは磁性を持つ有機物、無機物及び磁性ナノ粒子の中の少なくとも一つの物質で形成されうるし、密着フレームの上下部または密着フレームの内部に含まれることが可能であり、密着フレーム自体が磁性体で形成されうる。
この時、電磁石は密着フレームの上下部または前記密着フレームの内部に形成されうるし、密着フレームはドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部が形成されることが好ましい。また、電磁石には電圧を印加するための電気配線が含まれなければならない。
この時、基板ステージは所定数の貫通ホールを通じて前記アクセプタ基板を上部または下部に移動させる基板支持台をさらに具備することができる。
この時、永久磁石は前記密着フレームの上下部または前記密着フレームの内部に形成されうるし、密着フレーム自体が永久磁石で構成されることも可能である。密着フレームはドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部が形成されることが好ましい。また、永久磁石は少なくとも一つの棒または円筒形状またはナノパーティクルで形成されうるが、ここに制限されるのではない。
ナノパーティクルはスピンコーティング、電子線蒸着(electron−beam deposition)またはインクジェット工程を利用して密着フレームに含まれることが可能である。
220 レーザオシレータ
230 密着フレームトレイ
240 ドナーフィルムトレイ
250 基板
260 基板ステージ
Claims (8)
- レーザオシレータを利用してドナーフィルムの転写層を転写し、有機電界発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
内部に複数の電磁石が配置された略平板状の基板ステージと、前記基板ステージ上部と所定間隔離隔されて磁性体を含む略平板状の密着フレームと、を前記レーザ熱転写装置内に具備しており、
レーザビームが照射される電磁石のみに電力を印加し、磁性層が具備された密着フレームとの間で磁気力を発生させ、これによりレーザビームが照射される部分上に連続的に局所的なラミネーティングが行われるようにした、
ことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記磁性体は、鉄、ニッケル、クロムまたは磁性を持つ有機物、無機物及び磁性ナノ粒子の中の少なくとも一つの物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記磁性体は、前記密着フレームの上下部または前記密着フレームの内部に形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記磁性体は、密着フレーム自体であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームは、前記ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部が形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記基板ステージは、所定数の貫通ホールを通じて前記基板を上部または下部に移動させる基板支持台をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- チャンバ内の複数の電磁石が配置された略平板状の基板ステージ上に基板を位置させる段階と、
前記基板の上部に少なくとも基材基板、光−熱変換層及び転写層が具備されたドナーフィルムを位置させる段階と、
前記ドナーフィルム上部に磁性体が具備された略平板状の密着フレームを位置させる段階と、
レーザビームが照射される電磁石のみに電力を印加し、磁性層が具備された密着フレームとの間で磁気力を発生させ、これによりレーザビームが照射される部分上で、前記ドナーフィルムを前記基板上に連続的かつ局所的にラミネーションする段階と、
前記ドナーフィルム上にレーザビームを照射して前記ドナーフィルムの転写層の一部を前記基板上に転写させる段階と、
を含むことを特徴とするレーザ熱転写装置を利用したレーザ熱転写法。 - 前記チャンバは、真空チャンバであることを特徴とするレーザ熱転写装置を利用した請求項7に記載のレーザ熱転写法。
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