JP4638896B2 - 磁気記録媒体の欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
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- 特定の面積をもつ電子ビームを試料表面に照射する電子ビーム照射系と、
前記試料から反射する電子を結像させる結像光学系と、
前記試料を回転および移動させるためのステージ機構系と、
前記結像した電子を検出し、前記試料表面の画像データを取得する画像検出系と、
前記ステージ機構系と前記画像検出系とを同期させ制御する制御系とを有し、
前記画像検出系は、取得された前記画像データの一部の領域の情報を参照情報として、前記試料表面を検査し、
前記試料が、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体であり、
前記画像検出系は、前記参照情報として前記プリアンブル領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向に積分し平均化した値をもとに閾値を決め、該閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査装置。 - 特定の面積をもつ電子ビームを試料表面に照射する電子ビーム照射系と、
前記試料から反射する電子を結像させる結像光学系と、
前記試料を回転および移動させるためのステージ機構系と、
前記結像した電子を検出し、前記試料表面の画像データを取得する画像検出系と、
前記ステージ機構系と前記画像検出系とを同期させ制御する制御系とを有し、
前記画像検出系は、取得された前記画像データの一部の領域の情報を参照情報として、前記試料表面を検査し、
前記試料が、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体であり、
前記画像検出系は、前記参照情報として前記データ領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向もしくは円周方向に積分し平均化した値から閾値を決め、該閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査装置。 - 請求項1又は2に記載の検査装置において、
前記画像検出系が、前記閾値と設計パターンをもとに、取得された画像データを比較することにより、前記試料表面の欠陥を検出することを特徴とする検査装置。 - 請求項1又は2に記載の検査装置において、
前記画像検出系が、画像処理により前記プリアンブル領域、前記アドレス領域、前記バースト領域、前記データ領域を判断し、前記閾値および取得された画像データを比較することにより、前記試料表面の欠陥を検出することを特徴とする検査装置。 - 請求項1又は2に記載の検査装置において、
前記ステージ機構系と前記画像検出系とを同期させ制御する制御系を有し、
前記電子ビーム照射系は、前記電子ビームの照射位置を調整する偏向器を有し、
前記制御系が、画像処理により同一トラックが画像の中心にくるように前記偏向器もしくは前記ステージ機構系を制御することにより、前記トラックの偏心量を測定することを特徴とする検査装置。 - 電子源から発した電子線を面積ビームとして成形し、前記面積ビームを試料面に照射する電子ビーム照射光学系と、
前記面積ビームの照射により、負の電位を印加された前記試料面の所定領域から反射ないし生成される二次荷電粒子を結像させる結像光学系と、
前記試料を回転させ、移動させるためのステージ機構系と、
前記結像した像をTDIセンサもしくはCCDカメラで検出して前記所定領域における画素の分布データを取得し、画像処理を施して、前記試料面を検査する画像検出系と、
前記ステージ機構系と前記画像検出系を同期させ制御する制御系とを有し、
前記画像検出系は、取得された前記画素の分布データの一部の領域の情報を参照情報として、前記試料面の凹凸高さの欠陥を検出し、
前記試料が、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体であり、
前記画像検出系は、前記参照情報として前記プリアンブル領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向に積分し平均化した値をもとに閾値を決め、該閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査装置。 - 電子源から発した電子線を面積ビームとして成形し、前記面積ビームを試料面に照射する電子ビーム照射光学系と、
前記面積ビームの照射により、負の電位を印加された前記試料面の所定領域から反射ないし生成される二次荷電粒子を結像させる結像光学系と、
前記試料を回転させ、移動させるためのステージ機構系と、
前記結像した像をTDIセンサもしくはCCDカメラで検出して前記所定領域における画素の分布データを取得し、画像処理を施して、前記試料面を検査する画像検出系と、
前記ステージ機構系と前記画像検出系を同期させ制御する制御系とを有し、
前記画像検出系は、取得された前記画素の分布データの一部の領域の情報を参照情報として、前記試料面の凹凸高さの欠陥を検出し、
前記試料が、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体であり、
前記画像検出系は、前記参照情報として前記データ領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向もしくは円周方向に積分し平均化した値から閾値を決め、該閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査装置。 - 特定の面積をもつ電子ビームを試料表面に照射する工程と、
負の電位を印加された前記試料から反射するミラー電子を結像させる工程と、
前記結像したミラー電子をTDIセンサもしくはCCDカメラで検出して前記試料面の所定領域の画素の分布データを取得する工程と、
取得された前記画素の分布データの一部の領域の情報を参照情報として画像処理を施し、前記試料表面の欠陥を検出する工程とを含み、
前記試料として、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体を使用し、
前記参照情報として前記プリアンブル領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向に積分し平均化した値をもとに閾値を決め、前記閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査方法。 - 特定の面積をもつ電子ビームを試料表面に照射する工程と、
負の電位を印加された前記試料から反射するミラー電子を結像させる工程と、
前記結像したミラー電子をTDIセンサもしくはCCDカメラで検出して前記試料面の所定領域の画素の分布データを取得する工程と、
取得された前記画素の分布データの一部の領域の情報を参照情報として画像処理を施し、前記試料表面の欠陥を検出する工程とを含み、
前記試料として、その表面に、プリアンブル領域部、アドレス領域部、バースト領域部、およびデータ領域部を有する磁気記録媒体を使用し、
前記参照情報として前記データ領域部から取得された画像信号強度を用い、該画像信号強度のトラック幅方向もしくは円周方向に積分し平均化した値から閾値を決め、前記閾値をもとに前記試料表面の欠陥検出を行うことを特徴とする検査方法。 - 請求項8又は9に記載の検査方法において、
前記画像検出系に設計パターンを入力する工程と、前記設計パターンから得られた画像と前記閾値とを比較することにより、前記試料表面の欠陥を検出する工程とを有することを特徴とする検査方法。 - 請求項8又は9に記載の検査方法において、
前記画像処理により、前記プリアンブル領域部、前記アドレス領域部、前記バースト領域部、および前記データ領域部を判断し、前記閾値と得られた画像とを比較することにより、前記試料表面の欠陥を検出する工程を有することを特徴とする検査方法。
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---|---|---|---|---|
JPH11108864A (ja) * | 1997-10-02 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法および検査装置 |
JP2005083948A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法並びにプロセス管理方法 |
JP2005301156A (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Sony Corp | マスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、並びにマスク検査基準作成方法 |
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JP2005301156A (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Sony Corp | マスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、並びにマスク検査基準作成方法 |
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