JP4624980B2 - ディスペンサ陰極 - Google Patents
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Description
電子を射出するための少なくとも1つの射出エリアと、射出を抑える材料でカバーされ、かつ前記射出エリアを囲んでいる少なくとも1つの非射出エリアとを有する射出面と、
加熱されたときに仕事関数の低い粒子を放出する材料のためのリザーバと、
このリザーバから前記射出面に仕事関数の低い粒子を拡散可能にするように、前記リザーバと前記射出面とを接続している少なくとも1つの通路とを具備し、前記少なくとも1つの通路は、前記リザーバから前記射出エリアに仕事関数の低い粒子を拡散可能にするように、前記射出エリアに、射出エリアから拡散長の距離だけ離れて延びているディスペンサ陰極を提供している。
仕事関数の低い粒子を阻止するたのブロック層を有する、電子を射出するための少なくとも1つの射出エリアと、射出を抑える材料でカバーされ、前記射出エリアを囲んでいる少なくとも1つの非射出エリアとを有する射出面と、
前記リザーバから前記射出面に仕事関数の低い粒子を拡散可能にするように、前記リザーバと前記射出面とを接続している少なくとも1つの通路とを具備するディスペンサ陰極に関する。
に、2つの形式のエリアに分けられている。
Claims (9)
- 電子を射出するための少なくとも1つの射出エリアと、射出を抑える材料でカバーされ、前記射出エリアを囲んでいる少なくとも1つの非射出エリアとを有する射出面と、
加熱されたときに仕事関数の低い粒子を放出する材料のためのリザーバと、
このリザーバから前記射出面への仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするように、前記リザーバと前記射出面とを接続している少なくとも1つの通路とを具備し、前記少なくとも1つの通路は、前記リザーバから前記射出エリアへの仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするように、前記非射出エリアに射出エリアから拡散長の距離だけ離れて延びているディスペンサ陰極。 - 前記射出エリアは、前記少なくとも1つの射出エリアの下に延びている、仕事関数の低い粒子を阻止するためのブロック層を有しており、また、前記リザーバの射出側をカバーしている膜を更に具備し、この膜は、仕事関数の低い粒子に対してほぼ不透過である請求項1のディスペンサ陰極。
- 前記膜は、射出側面と陰極側面とを有しており、この射出側面は、少なくとも1つの射出エリアと前記少なくとも1つの射出エリアを囲んでいる少なくとも1つの非射出エリアとを有しており、前記射出エリアは、仕事関数の低い材料でコーティングされ、前記非射出エリアは、射出を抑える材料でコーティングされており、前記膜は、前記リザーバの射出面側をカバーしている金属膜であり、仕事関数の低い粒子のための複数の通路を形成している前記非射出エリアに穿孔が設けられている請求項2のディスペンサ陰極。
- 前記通路は、前記射出エリア近くに延びている請求項1ないし3のいずれか1のディスペンサ陰極。
- 複数の通路を更に具備し、これら通路は、前記非射出エリアに延びており、前記射出面は、前記射出エリアの位置に少なくとも1つの凸面を有している請求項1ないし4のいずれか1のディスペンサ陰極。
- 前記射出エリアの位置で、前記リザーバまで延びている支柱を有している、前記射出エリアを支持するための支持構造部がさらに設けられており、前記支柱は、これの上部が射出エリアを形成している、前記射出面の上形成部を有しており、前記通路は、前記支柱の側面に沿って延び、前記支柱は、通路の壁面を形成している側壁を有している請求項1ないし5のいずれか1のディスペンサ陰極。
- 前記射出エリアの上方に設けられた抽出電極をさらに具備し、この抽出電極は、動作中に、射出された電子に対して負のレンズとして機能する静電場を与えるように設けられている請求項1ないし6のいずれか1のディスペンサ陰極。
- 前記射出エリアを実質的に囲んでいる壁面をさらに具備し、前記射出エリアは、前記壁面内にあり、この壁面は、前記射出面と、前記射出エリアから拡散長の距離内の1つの、若しくは複数の前記通路とを囲んでいる請求項1ないし7のいずれか1のディスペンサ陰極。
- 請求項1ないし8のいずれか1の少なくとも1つのディスペンサ陰極を具備するリソグラフィーシステムであって、ディスペンサ陰極によって発生される電子ビームを複数の小電子ビームに分割するためのビームスプリッター手段と、各小電子ビームをほぼ別々に変調するためのモジュレータ手段と、所定のパターンに従って小ビームを変調するための前記モジュレータ手段を制御するための制御手段とを具備するリソグラフィーシステム。
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