JP4624923B2 - 水酸基保護試薬およびそれを用いた水酸基の保護方法 - Google Patents
水酸基保護試薬およびそれを用いた水酸基の保護方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4624923B2 JP4624923B2 JP2005512906A JP2005512906A JP4624923B2 JP 4624923 B2 JP4624923 B2 JP 4624923B2 JP 2005512906 A JP2005512906 A JP 2005512906A JP 2005512906 A JP2005512906 A JP 2005512906A JP 4624923 B2 JP4624923 B2 JP 4624923B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- hydroxyl
- protecting
- hydroxyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B41/00—Formation or introduction of functional groups containing oxygen
- C07B41/04—Formation or introduction of functional groups containing oxygen of ether, acetal or ketal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D307/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D307/32—Oxygen atoms
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は、メトキシメチル基等のアセタール型保護基による水酸基の保護に有用な保護試薬および当該保護試薬を用いた水酸基の保護方法に関する。
水酸基、アミノ基等の官能基を有する化合物の有機合成において、これら官能基を適切に保護することが、合成戦略上重要である。
一般式（ＩＩ）：−ＣＨ２ＯＲ（ＩＩ）（式中、Ｒは置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示す。）で表されるアセタール型保護基（例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基等、以下、保護基（ＩＩ）ともいう。）は水酸基の保護基として利用されており、種々の反応条件に安定であり、弱酸性条件で容易に脱保護できることから、水酸基の保護基としての利用価値が高い。
水酸基を保護基（ＩＩ）で保護する方法としては、１）少過剰のジイソプロピルエチルアミン存在下でアルコキシメチルクロリドを滴下し反応させる方法、２）強酸触媒存在下で大過剰のジアルコキシメタンを加熱反応させる方法が知られている（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第３版，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，１９９９年，ｐ．２７−４９．）。
しかしながら、１）の反応系は塩基性条件であり、塩基に不安定なアルコールの保護には適用できない他、毒性の強いアルコキシメチルクロリドを使用するという問題点があった。また、２）の反応系は強酸性であり、酸に不安定なアルコールには適用できない他、大過剰のジアルコキシメタンを使用するため経済的ではなく、さらには平衡反応であるため反応が複雑になりやすいなどの問題があった。
このため、酸や塩基に不安定なアルコールを含む一般性のあるアルコールに対して、温和な条件で保護基（ＩＩ）を導入できる方法が望まれる。
一般式（ＩＩ）：−ＣＨ２ＯＲ（ＩＩ）（式中、Ｒは置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示す。）で表されるアセタール型保護基（例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基等、以下、保護基（ＩＩ）ともいう。）は水酸基の保護基として利用されており、種々の反応条件に安定であり、弱酸性条件で容易に脱保護できることから、水酸基の保護基としての利用価値が高い。
水酸基を保護基（ＩＩ）で保護する方法としては、１）少過剰のジイソプロピルエチルアミン存在下でアルコキシメチルクロリドを滴下し反応させる方法、２）強酸触媒存在下で大過剰のジアルコキシメタンを加熱反応させる方法が知られている（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第３版，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，１９９９年，ｐ．２７−４９．）。
しかしながら、１）の反応系は塩基性条件であり、塩基に不安定なアルコールの保護には適用できない他、毒性の強いアルコキシメチルクロリドを使用するという問題点があった。また、２）の反応系は強酸性であり、酸に不安定なアルコールには適用できない他、大過剰のジアルコキシメタンを使用するため経済的ではなく、さらには平衡反応であるため反応が複雑になりやすいなどの問題があった。
このため、酸や塩基に不安定なアルコールを含む一般性のあるアルコールに対して、温和な条件で保護基（ＩＩ）を導入できる方法が望まれる。
本発明の目的は、温和な条件で水酸基にアセタール型保護基を導入し得る方法およびそのための保護試薬を提供し、さらに当該保護試薬を安全かつ簡便に製造できる方法を提供することである。
本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、弱酸性のような緩和な反応条件下で水酸基に保護基（ＩＩ）を収率よく導入し得る試薬を見出した。さらには当該保護試薬を従来より安全かつ簡便に製造できる方法を見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
（１）一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）ともいう。）と水酸基含有化合物とを、酸触媒存在下反応させて、該水酸基含有化合物の水酸基の水素原子を、保護基（ＩＩ）に置換することを特徴とする、水酸基の保護方法。
（２）Ｒが置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、上記（１）記載の水酸基の保護方法。
（３）Ｒがアルキル基である上記（２）記載の水酸基の保護方法。
（４）酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまたはｐ−トルエンスルホン酸である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の水酸基の保護方法。
（５）酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートである上記（４）記載の水酸基の保護方法。
（６）化合物（Ｉ）を含有する水酸基保護試薬。
（７）Ｒが、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、上記（６）記載の水酸基保護試薬。
（８）Ｒがアルキル基である上記（７）記載の水酸基保護試薬。
（９）Ｒがメチル基である上記（８）記載の水酸基保護試薬。
（１０）以下の第１工程および第２工程を含むことを特徴とする、化合物（Ｉ）の製造方法；
第１工程：一般式（ＩＩＩ）：
（式中、Ｘは前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（ＩＩＩ）ともいう。）と一般式（ＩＶ）：
（式中、Ｒは前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶ）ともいう。）を反応させて、一般式（Ｖ）：
（式中、各記号は前記と同義を示す。）で表される化合物（以下、化合物（Ｖ）ともいう。）を得て；
第２工程：得られる化合物（Ｖ）を、塩基存在下反応させて、化合物（Ｉ）を得る。
（１１）Ｒがメチル基である、上記（１０）記載の製造方法。
（１２）化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させることを特徴とする、化合物（Ｖ）の製造方法。
（１３）Ｒがメチル基である、上記（１２）記載の製造方法。
本発明の水酸基保護試薬および水酸基の保護方法は、弱酸性などの緩和な反応条件で、水酸基を保護基（ＩＩ）で保護することができる。したがって、強塩基性条件や強酸性条件で不安定な水酸基含有化合物の水酸基を、保護基（ＩＩ）により保護することができるので、合成戦略上の有用性が高い。さらに、毒性が高く、取扱いに注意を要するアルコキシメチルクロリドを使用する必要がないため、安全に行なうこともできるという利点も有する。
また、上記（１０）〜（１３）によれば、本発明の水酸基保護試薬のほか、アセトニル化試薬としても有用な化合物（Ｉ）を、毒性が高いアルコキシメチルクロリドを使用することなく、安全かつ簡便に製造することができる方法が提供される。
発明の詳細な説明
以下、本発明について詳細に説明する。
１．記号の定義
Ｘで示される「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子、臭素原子が好ましい。より好ましくは塩素原子である。
Ｒで示される「置換基を有していてもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、炭素数１〜１２、好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられ、好ましくはメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルであり、より好ましくはメチルまたはエチルである。
当該アルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子（上記と同じものが例示される。）、アルコキシ基（炭素数１〜１２、好ましくは１〜４、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等）等が挙げられ、好ましくはメトキシまたはエトキシである。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
Ｒで示される「置換基を有していてもよいフェニル基」または「置換基を有していてもよいベンジル基」の置換基としては、上記アルキル基の置換基として例示されたものに加えて、アルキル基（上記で定義されたアルキル基と同様である。）が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
Ｒとしては、「置換基を有していてもよいアルキル基」または「置換基を有していてもよいフェニル基」が好ましく、「置換基を有していてもよいアルキル基」がより好ましく、「アルキル基」がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
２．水酸基含有化合物
水酸基含有化合物とは、およそ分子内に水酸基を有する有機化合物であれば特に限定されることはなく、フェノール性水酸基であっても、脂肪族アルコールであってもよく、また第１級アルコール、第２級アルコール、第３級アルコールを問わず、本発明に適用可能であり、例えば、下記一般式（Ａ）：
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は同一または異なって、それぞれ独立して、水素原子、アルコキシカルボニル基、アシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基等を示すか、または、Ｒ１およびＲ２が結合する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい同素環または複素環を形成してもよい。）で表されるアルコール化合物（以下、アルコール（Ａ）ともいう。）を好適に使用することができるが、これに限定されるものではない。
アルコール（Ａ）において「アルコキシカルボニル基」としては、そのアルキル部分がＲにおいて例示されたアルキル基であるアルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「アシル基」としては、炭素数２〜５のアシル基、例えば、アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、Ｒで定義されたアルキル基と同じものが挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数３〜８個のシクロアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルケニル基」の「アルケニル基」としては、炭素数２〜１２の直鎖または分枝のアルケニル基、例えばエテニル、１−プロペニル、アリル、１−メチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニル、２−オクテニル、１−ノネニル、２−ノネニル、１−デセニル、２−デセニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルキニル基」の「アルキニル基」としては、炭素数２〜１２の直鎖または分枝のアルキニル基、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、１−ヘプチニル、２−ヘプチニル、１−オクチニル、２−オクチニル、１−ノニニル、２−ノニニル、１−デシニル、２−デシニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアリール基」の「アリール基」としては、炭素数６〜２０のアリール基、例えばフェニル、１−または２−ナフチル、ビフェニル、ビナフチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、例えば上記で定義された「アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「アリール基」が置換して形成されるアラルキル基、例えばベンジル、１−または２−フェネチル、１−、２−または３−フェニルプロピル、１−または２−ナフチルメチル、ベンゾヒドリル、トリチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、例えば炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜４個含む５〜７員の芳香性を有する複素環基、及びその縮合ヘテロ環基等が挙げられる。例えば２−又は３−チエニル、２−又は３−フリル、１−、２−又は３−ピロリル、１−、２−、４−又は５−イミダゾリル、２−、４−又は５−オキサゾリル、２−、４−又は５−チアゾリル、１−、３−、４−又は５−ピラゾリル、３−、４−又は５−イソオキサゾリル、３−、４−又は５−イソチアゾリル、１，２，４−トリアゾール−１、３、４又は５−イル、１，２，３−トリアゾール−１、２又は４−イル、１Ｈ−テトラゾール−１又は５−イル、２Ｈ−テトラゾール−２又は５−イル、２−、３−又は４−ピリジル、２−、４−又は５−ピリミジニル、１−、２−、３−、４−、５−、６−又は７−インドリル、２−、３−、４−、５−、６―又は７−ベンゾフリル、２−、３−、４−、５−、６−又は７−ベンゾチエニル、１−、２−、４−、５−、６−又は７−ベンズイミダゾリル、２−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−キノリル、１−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−イソキノリル等が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２が結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい、置換基を有していてもよい同素環としては、炭素数３〜８の脂肪族同素環、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２が結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい、置換基を有していてもよい複素環としては、炭素数３〜７の脂肪族複素環、例えば、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン等が挙げられる。
上記「アルキル基」、「シクロアルキル基」、「アルケニル基」、「アルキニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」、「同素環」または「複素環」は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、置換基としては、例えばアルキル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。但し、アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基の置換基とはならない。）、ハロゲン原子（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、アルコキシカルボニル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、アシル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、オキソ、ニトロ基、シアノ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜４個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
アルコール（Ａ）としては、Ｒ１、Ｒ２又はＲ３のうち、いずれか一つが水素原子のもの、すなわち第２級アルコールまたは第３級アルコールが、収率が良好であることから好ましく、第２級アルコールがより好ましい。
アルコール（Ａ）のうちでも、特に、医薬品の合成中間体（例えば、Ｄ又はＬ−乳酸エステル、（Ｓ）又は（Ｒ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン、（Ｓ）又は（Ｒ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エステル、（Ｓ）又は（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エステル等）のような光学活性アルコールまたはβ−ヒドロキシエステル等は、強塩基性条件または強酸性条件で、ラセミ化、脱離反応等を起こしやすく不安定であるため、弱酸性などの緩和な反応条件で行い得る本発明の保護方法に好適に使用できる。
さらに水酸基含有化合物として、糖類、水酸基含有アミノ酸（セリン、チロシン等）または当該アミノ酸を含むペプチド類、核酸類等の天然物またはその合成中間体にも本発明の保護方法を好適に適用できる。
３．水酸基の保護方法
本発明の水酸基の保護方法は、例えば溶媒中において、水酸基保護試薬としての化合物（Ｉ）と水酸基含有化合物とを、酸触媒存在下反応させて、該水酸基含有化合物の水酸基の水素原子を、保護基（ＩＩ）に置換することで達成される。試薬の添加順序は特に限定はなく、各試薬を順次または同時に添加すればよい。
化合物（Ｉ）は、上記Ｒ及びＸで定義されるものであれば特に制限されないが、入手容易であることから、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エンが好ましい。
水酸基含有化合物も上記のとおり特に制限されないが、収率が良好であることから、脂肪族第２級アルコール類および第３級アルコール類が好ましく、第２級アルコール類がより好ましい。
使用される酸触媒としては、例えばピリジニウムｐ−トルエンスルホネート、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまたはｐ−トルエンスルホン酸が好ましい。弱酸性の緩和な反応条件で行なえるという観点からはピリジニウムｐ−トルエンスルホネートが好ましく、反応時間を短くすることができるという観点からはｐ−トルエンスルホン酸が好ましいため、水酸基含有化合物の安定性と生産性を考慮して、適当な酸触媒を適宜選択すればよい。
化合物（Ｉ）の使用量は、水酸基含有化合物１モルに対して、０．９モル〜１．５モルが好ましく、１．０モル〜１．３モルがより好ましい。
酸触媒の使用量は、使用する酸触媒の酸性度にも依存するが、水酸基含有化合物１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モルが好ましく、０．００１モル〜０．１モルがより好ましい。酸触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなる傾向があり、この範囲より多いと副反応が進行するおそれがある。
使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えばアセトニトリル、ベンゾトリフルオリド、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジクロロメタン、トルエン、クロロベンゼン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル等を単独または混合して用いることができ、アセトニトリルまたはベンゾトリフルオリドが好ましい。混合溶媒とする場合は、任意の割合で混合すればよい。
溶媒の使用量としては、水酸基含有化合物１ｋｇに対して、１Ｌ〜５０Ｌの範囲が好ましい。
反応温度は、通常は−２０℃〜１００℃であるが、０℃〜５０℃が好ましい。
反応時間は、通常１０分間〜１４日間であり、好ましくは１０分間〜２４０時間であり、より好ましくは１０分〜６０時間である。
水酸基が保護された水酸基含有化合物は、反応終了後、定法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物に水または炭酸水素ナトリウム水溶液等を加え、有機溶媒にて抽出後、有機層を濃縮することにより、水酸基が保護された水酸基含有化合物を単離することができる。さらには、通常の精製法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは減圧蒸留等によって精製することができる。
このようにして得られた水酸基が保護された水酸基含有化合物の保護基（ＩＩ）は、公知の方法、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第３版，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，１９９９年，ｐ．２７−４９．に記載の方法によって、脱保護することができる。
４．化合物（Ｉ）の製造方法
本発明において、水酸基保護試薬として使用される化合物（Ｉ）は、医薬、農薬などを製造する際の有用なアセトニル化試薬であることが知られており（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８７年，第５２巻，ｐ．３１９２−３１９６およびＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）、特にＲがメチルであり、Ｘが塩素原子である化合物は岡原試薬として知られている。
化合物（Ｉ）は、入手可能なものは市販品を用いてもよいが、以下のスキームで表される製法１により合成することができる（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）。
製法１
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
しかし製法１では、化合物（Ｖ）を製造するためには、毒性が強い一般式（ＩＶ’）で表されるアルコキシメチルクロリドを使用するため（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，１９８７年，第６０巻，ｐ．３９７−３９８参照）、化合物（Ｉ）を工業的に製造するにあたっては、除害設備が整った製造所で注意深く製造する必要があり、また、アルコキシメチルクロリドを使用する必要がないという上記水酸基の保護方法のメリットを減殺するものである。
したがって、本発明者らが提案する下記のスキームで表される製法２により化合物（Ｉ）を製造する方法が、化合物（Ｉ）を安全かつ簡便に製造することができるため好ましい。
製法２
（式中、各記号は前記と同義を示す。）
すなわち製法２では、毒性が高く、取扱いに注意を要するアルコキシメチルハライドの代わりに毒性が低い化合物（ＩＶ）を用い、化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより、化合物（Ｖ）を製造することができ、さらに化合物（Ｖ）を塩基で処理して脱ハロゲン化水素化することにより、化合物（Ｉ）を製造することができる。このように、製法２は毒性が強いアルコキシメチルハライドを使用する必要がないので、製法１より安全かつ簡便に化合物（Ｉ）を製造することができる。
以下、製法１および製法２を説明する。
４−１．製法１
製法１では、化合物（ＩＩＩ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、一般式（ＩＶ’）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶ’）ともいう。）と反応させて、化合物（Ｖ）を得る第１工程、次いで硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウムのような相間移動触媒存在下、水酸化ナトリウムと反応させる第２工程により、化合物（Ｉ）を合成することができる。
化合物（ＩＶ’）は、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、０．８モル〜１．５モルの範囲で用いられる。
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンは、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、１モル〜２モルの範囲で用いられる。
ＴＨＦは、化合物（ＩＩＩ）１ｇに対して、１ｍＬ〜５０ｍＬの範囲で用いられる。
第１工程の反応温度は、通常−２０℃〜８０℃であり、反応時間は０．５時間〜１５時間程度である。
第１工程の反応終了後、化合物（Ｖ）は、抽出、水洗、濃縮により反応混合物より単離することができる。
第２工程は、無溶媒で行うことができる。
水酸化ナトリウムは、微粒状のものが好ましく、化合物（Ｖ）１モルに対して、１モル〜５モルの範囲で用いられる。
相間移動触媒は、硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウムが好ましく、化合物（Ｖ）１モルに対して、０．０１モル〜１モルの範囲で用いられる。
第２工程の反応温度は、通常２０℃〜１５０℃であり、反応時間は０．５〜２４時間程度である。
第２工程の反応終了後、化合物（Ｉ）は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや減圧蒸留等により精製することができる。
４−２．製法２
製法２は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させる第１工程および化合物（Ｖ）を塩基存在下反応させる第２工程を含む化合物（Ｉ）の製造方法である。
４−２−１．第１工程
第１工程は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させて化合物（Ｖ）を製造し得る条件であれば、如何なる反応条件であってもよいが、好ましくは、溶媒中または無溶媒で、化合物（ＩＩＩ）および化合物（ＩＶ）を、酸触媒の存在下反応させることにより行うことができる。
第１工程で用いられる化合物（ＩＩＩ）は、公知化合物であり、自体公知の方法で調製することができる。例えば、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，１９８７年，第６０巻，ｐ．３９７−３９８に記載されているようにエピハロヒドリンを対応するハロゲン化水素で開環することにより製造することができ、また市販品を用いることもできる。
第１工程で用いられる化合物（ＩＶ）は、公知化合物であり、自体公知の方法（例えば、実験化学講座（丸善）第４版、第２０巻、ｐ．２４５−２４８に記載の方法）で調製することができ、また市販品を用いることもできる。
化合物（ＩＶ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは２当量〜５０当量、より好ましくは５当量〜３０当量である。化合物（ＩＶ）の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（ＩＩＩ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第１工程で使用される酸触媒としては特に限定はないが、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、塩酸、リン酸、過塩素酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸または硫酸が好ましい。
当該酸触媒の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは０．００１当量〜１当量、より好ましくは０．０１当量〜０．３当量である。酸触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応速度が遅くなる傾向があり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第１工程においては、反応速度を促進させるために、さらに金属のハロゲン化物を添加してもよく、該金属のハロゲン化物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛等が挙げられ、臭化リチウムが好ましい。金属のハロゲン化物の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは０．０５当量〜１０当量、より好ましくは０．５当量〜５当量である。
第１工程は、当該反応を阻害しない溶媒（例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、クロロベンゼン、ヘキサン等の単独または混合溶媒）中で行ってもよいが、無溶媒で行うことが好ましい。溶媒を使用する場合、その使用量は化合物（ＩＩＩ）１ｋｇに対し、好ましくは１Ｌ〜３０Ｌである。
第１工程の反応温度は、通常は−２０℃〜１２０℃であるが、１０℃〜７０℃が好ましい。反応時間は、通常１〜９６時間である。
第１工程で得られる化合物（Ｖ）は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を必要により炭酸水素ナトリウム水溶液等で中和した後、分液、乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができ、さらに、減圧蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、第２工程に供することもできる。
第１工程で得られる化合物（Ｖ）は化合物（Ｉ）の中間体として有用であり、また、それ自身アセトニル化試薬として用いることも出来る（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）。
４−２−２．第２工程
第２工程は、例えば、溶媒中または無溶媒で、化合物（Ｖ）を、塩基存在下反応させて、脱ハロゲン化水素化することにより行うことができる。
第２工程で用いる塩基としては特に限定はなく、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の無機塩基、あるいはトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基が挙げられ、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化セシウムが好ましい。該塩基の使用量は、化合物（Ｖ）に対し、好ましくは０．９当量〜５当量、より好ましくは１当量〜２当量である。塩基の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（Ｖ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用した場合、副反応が進行する虞がある。
第２工程において無機塩基を使用する場合は、無機塩基を可溶化して反応を円滑に進行させるために、相間移動触媒を添加するのが好ましい。該相間移動触媒としては、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド等が挙げられ、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムが好ましい。該相間移動触媒の使用量は、化合物（Ｖ）に対し、好ましくは０．０１当量〜０．５当量、より好ましくは０．０５当量〜０．３当量である。相間移動触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（Ｖ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第２工程は、当該反応を阻害しない溶媒（例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、クロロベンゼン、ヘキサン等の単独または混合溶媒）中で行ってもよいが、無溶媒で行うことが好ましい。溶媒を使用する場合、その使用量は化合物（Ｖ）１ｋｇに対し、好ましくは１Ｌ〜３０Ｌである。
第２工程の反応温度は、通常は０℃〜１５０℃であるが、２０℃〜１００℃が好ましい。反応時間は、通常０．１〜１２時間である。
第２工程で得られる化合物（Ｉ）は、常法（例えば、第１工程と同様の方法）により単離、精製することができるが、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８７年，第５２巻，ｐ．３１９２−３１９６に記載の方法により単離精製するのが好ましい。すなわち、反応混合物を減圧蒸留することにより化合物（Ｉ）を含有する留分を得て、これを必要により、溶媒（ジエチルエーテル等）に希釈、無水硫酸マグネシウム等で乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｉ）を単離精製することができる。
本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、弱酸性のような緩和な反応条件下で水酸基に保護基（ＩＩ）を収率よく導入し得る試薬を見出した。さらには当該保護試薬を従来より安全かつ簡便に製造できる方法を見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
（１）一般式（Ｉ）：
（２）Ｒが置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、上記（１）記載の水酸基の保護方法。
（３）Ｒがアルキル基である上記（２）記載の水酸基の保護方法。
（４）酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまたはｐ−トルエンスルホン酸である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の水酸基の保護方法。
（５）酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートである上記（４）記載の水酸基の保護方法。
（６）化合物（Ｉ）を含有する水酸基保護試薬。
（７）Ｒが、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、上記（６）記載の水酸基保護試薬。
（８）Ｒがアルキル基である上記（７）記載の水酸基保護試薬。
（９）Ｒがメチル基である上記（８）記載の水酸基保護試薬。
（１０）以下の第１工程および第２工程を含むことを特徴とする、化合物（Ｉ）の製造方法；
第１工程：一般式（ＩＩＩ）：
第２工程：得られる化合物（Ｖ）を、塩基存在下反応させて、化合物（Ｉ）を得る。
（１１）Ｒがメチル基である、上記（１０）記載の製造方法。
（１２）化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させることを特徴とする、化合物（Ｖ）の製造方法。
（１３）Ｒがメチル基である、上記（１２）記載の製造方法。
本発明の水酸基保護試薬および水酸基の保護方法は、弱酸性などの緩和な反応条件で、水酸基を保護基（ＩＩ）で保護することができる。したがって、強塩基性条件や強酸性条件で不安定な水酸基含有化合物の水酸基を、保護基（ＩＩ）により保護することができるので、合成戦略上の有用性が高い。さらに、毒性が高く、取扱いに注意を要するアルコキシメチルクロリドを使用する必要がないため、安全に行なうこともできるという利点も有する。
また、上記（１０）〜（１３）によれば、本発明の水酸基保護試薬のほか、アセトニル化試薬としても有用な化合物（Ｉ）を、毒性が高いアルコキシメチルクロリドを使用することなく、安全かつ簡便に製造することができる方法が提供される。
発明の詳細な説明
以下、本発明について詳細に説明する。
１．記号の定義
Ｘで示される「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子、臭素原子が好ましい。より好ましくは塩素原子である。
Ｒで示される「置換基を有していてもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、炭素数１〜１２、好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられ、好ましくはメチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルであり、より好ましくはメチルまたはエチルである。
当該アルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原子（上記と同じものが例示される。）、アルコキシ基（炭素数１〜１２、好ましくは１〜４、より好ましくは炭素数１〜３の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等）等が挙げられ、好ましくはメトキシまたはエトキシである。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
Ｒで示される「置換基を有していてもよいフェニル基」または「置換基を有していてもよいベンジル基」の置換基としては、上記アルキル基の置換基として例示されたものに加えて、アルキル基（上記で定義されたアルキル基と同様である。）が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
Ｒとしては、「置換基を有していてもよいアルキル基」または「置換基を有していてもよいフェニル基」が好ましく、「置換基を有していてもよいアルキル基」がより好ましく、「アルキル基」がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
２．水酸基含有化合物
水酸基含有化合物とは、およそ分子内に水酸基を有する有機化合物であれば特に限定されることはなく、フェノール性水酸基であっても、脂肪族アルコールであってもよく、また第１級アルコール、第２級アルコール、第３級アルコールを問わず、本発明に適用可能であり、例えば、下記一般式（Ａ）：
アルコール（Ａ）において「アルコキシカルボニル基」としては、そのアルキル部分がＲにおいて例示されたアルキル基であるアルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「アシル基」としては、炭素数２〜５のアシル基、例えば、アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、Ｒで定義されたアルキル基と同じものが挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数３〜８個のシクロアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルケニル基」の「アルケニル基」としては、炭素数２〜１２の直鎖または分枝のアルケニル基、例えばエテニル、１−プロペニル、アリル、１−メチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニル、２−オクテニル、１−ノネニル、２−ノネニル、１−デセニル、２−デセニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアルキニル基」の「アルキニル基」としては、炭素数２〜１２の直鎖または分枝のアルキニル基、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、１−ヘプチニル、２−ヘプチニル、１−オクチニル、２−オクチニル、１−ノニニル、２−ノニニル、１−デシニル、２−デシニル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアリール基」の「アリール基」としては、炭素数６〜２０のアリール基、例えばフェニル、１−または２−ナフチル、ビフェニル、ビナフチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、例えば上記で定義された「アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「アリール基」が置換して形成されるアラルキル基、例えばベンジル、１−または２−フェネチル、１−、２−または３−フェニルプロピル、１−または２−ナフチルメチル、ベンゾヒドリル、トリチル等が挙げられる。
アルコール（Ａ）における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、例えば炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜４個含む５〜７員の芳香性を有する複素環基、及びその縮合ヘテロ環基等が挙げられる。例えば２−又は３−チエニル、２−又は３−フリル、１−、２−又は３−ピロリル、１−、２−、４−又は５−イミダゾリル、２−、４−又は５−オキサゾリル、２−、４−又は５−チアゾリル、１−、３−、４−又は５−ピラゾリル、３−、４−又は５−イソオキサゾリル、３−、４−又は５−イソチアゾリル、１，２，４−トリアゾール−１、３、４又は５−イル、１，２，３−トリアゾール−１、２又は４−イル、１Ｈ−テトラゾール−１又は５−イル、２Ｈ−テトラゾール−２又は５−イル、２−、３−又は４−ピリジル、２−、４−又は５−ピリミジニル、１−、２−、３−、４−、５−、６−又は７−インドリル、２−、３−、４−、５−、６―又は７−ベンゾフリル、２−、３−、４−、５−、６−又は７−ベンゾチエニル、１−、２−、４−、５−、６−又は７−ベンズイミダゾリル、２−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−キノリル、１−、３−、４−、５−、６−、７−又は８−イソキノリル等が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２が結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい、置換基を有していてもよい同素環としては、炭素数３〜８の脂肪族同素環、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
Ｒ１およびＲ２が結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい、置換基を有していてもよい複素環としては、炭素数３〜７の脂肪族複素環、例えば、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン等が挙げられる。
上記「アルキル基」、「シクロアルキル基」、「アルケニル基」、「アルキニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」、「同素環」または「複素環」は、置換可能な位置に置換基を有していてもよく、置換基としては、例えばアルキル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。但し、アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基の置換基とはならない。）、ハロゲン原子（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、アルコキシカルボニル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、アシル基（上記で定義されたものと同じものが例示される。）、オキソ、ニトロ基、シアノ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。当該置換基の数は特に限定はなく、１〜４個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
アルコール（Ａ）としては、Ｒ１、Ｒ２又はＲ３のうち、いずれか一つが水素原子のもの、すなわち第２級アルコールまたは第３級アルコールが、収率が良好であることから好ましく、第２級アルコールがより好ましい。
アルコール（Ａ）のうちでも、特に、医薬品の合成中間体（例えば、Ｄ又はＬ−乳酸エステル、（Ｓ）又は（Ｒ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン、（Ｓ）又は（Ｒ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エステル、（Ｓ）又は（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エステル等）のような光学活性アルコールまたはβ−ヒドロキシエステル等は、強塩基性条件または強酸性条件で、ラセミ化、脱離反応等を起こしやすく不安定であるため、弱酸性などの緩和な反応条件で行い得る本発明の保護方法に好適に使用できる。
さらに水酸基含有化合物として、糖類、水酸基含有アミノ酸（セリン、チロシン等）または当該アミノ酸を含むペプチド類、核酸類等の天然物またはその合成中間体にも本発明の保護方法を好適に適用できる。
３．水酸基の保護方法
本発明の水酸基の保護方法は、例えば溶媒中において、水酸基保護試薬としての化合物（Ｉ）と水酸基含有化合物とを、酸触媒存在下反応させて、該水酸基含有化合物の水酸基の水素原子を、保護基（ＩＩ）に置換することで達成される。試薬の添加順序は特に限定はなく、各試薬を順次または同時に添加すればよい。
化合物（Ｉ）は、上記Ｒ及びＸで定義されるものであれば特に制限されないが、入手容易であることから、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エンが好ましい。
水酸基含有化合物も上記のとおり特に制限されないが、収率が良好であることから、脂肪族第２級アルコール類および第３級アルコール類が好ましく、第２級アルコール類がより好ましい。
使用される酸触媒としては、例えばピリジニウムｐ−トルエンスルホネート、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまたはｐ−トルエンスルホン酸が好ましい。弱酸性の緩和な反応条件で行なえるという観点からはピリジニウムｐ−トルエンスルホネートが好ましく、反応時間を短くすることができるという観点からはｐ−トルエンスルホン酸が好ましいため、水酸基含有化合物の安定性と生産性を考慮して、適当な酸触媒を適宜選択すればよい。
化合物（Ｉ）の使用量は、水酸基含有化合物１モルに対して、０．９モル〜１．５モルが好ましく、１．０モル〜１．３モルがより好ましい。
酸触媒の使用量は、使用する酸触媒の酸性度にも依存するが、水酸基含有化合物１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モルが好ましく、０．００１モル〜０．１モルがより好ましい。酸触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなる傾向があり、この範囲より多いと副反応が進行するおそれがある。
使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えばアセトニトリル、ベンゾトリフルオリド、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジクロロメタン、トルエン、クロロベンゼン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル等を単独または混合して用いることができ、アセトニトリルまたはベンゾトリフルオリドが好ましい。混合溶媒とする場合は、任意の割合で混合すればよい。
溶媒の使用量としては、水酸基含有化合物１ｋｇに対して、１Ｌ〜５０Ｌの範囲が好ましい。
反応温度は、通常は−２０℃〜１００℃であるが、０℃〜５０℃が好ましい。
反応時間は、通常１０分間〜１４日間であり、好ましくは１０分間〜２４０時間であり、より好ましくは１０分〜６０時間である。
水酸基が保護された水酸基含有化合物は、反応終了後、定法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物に水または炭酸水素ナトリウム水溶液等を加え、有機溶媒にて抽出後、有機層を濃縮することにより、水酸基が保護された水酸基含有化合物を単離することができる。さらには、通常の精製法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは減圧蒸留等によって精製することができる。
このようにして得られた水酸基が保護された水酸基含有化合物の保護基（ＩＩ）は、公知の方法、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第３版，Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，１９９９年，ｐ．２７−４９．に記載の方法によって、脱保護することができる。
４．化合物（Ｉ）の製造方法
本発明において、水酸基保護試薬として使用される化合物（Ｉ）は、医薬、農薬などを製造する際の有用なアセトニル化試薬であることが知られており（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８７年，第５２巻，ｐ．３１９２−３１９６およびＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）、特にＲがメチルであり、Ｘが塩素原子である化合物は岡原試薬として知られている。
化合物（Ｉ）は、入手可能なものは市販品を用いてもよいが、以下のスキームで表される製法１により合成することができる（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）。
製法１
しかし製法１では、化合物（Ｖ）を製造するためには、毒性が強い一般式（ＩＶ’）で表されるアルコキシメチルクロリドを使用するため（Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，１９８７年，第６０巻，ｐ．３９７−３９８参照）、化合物（Ｉ）を工業的に製造するにあたっては、除害設備が整った製造所で注意深く製造する必要があり、また、アルコキシメチルクロリドを使用する必要がないという上記水酸基の保護方法のメリットを減殺するものである。
したがって、本発明者らが提案する下記のスキームで表される製法２により化合物（Ｉ）を製造する方法が、化合物（Ｉ）を安全かつ簡便に製造することができるため好ましい。
製法２
すなわち製法２では、毒性が高く、取扱いに注意を要するアルコキシメチルハライドの代わりに毒性が低い化合物（ＩＶ）を用い、化合物（ＩＩＩ）と反応させることにより、化合物（Ｖ）を製造することができ、さらに化合物（Ｖ）を塩基で処理して脱ハロゲン化水素化することにより、化合物（Ｉ）を製造することができる。このように、製法２は毒性が強いアルコキシメチルハライドを使用する必要がないので、製法１より安全かつ簡便に化合物（Ｉ）を製造することができる。
以下、製法１および製法２を説明する。
４−１．製法１
製法１では、化合物（ＩＩＩ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの存在下、一般式（ＩＶ’）で表される化合物（以下、化合物（ＩＶ’）ともいう。）と反応させて、化合物（Ｖ）を得る第１工程、次いで硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウムのような相間移動触媒存在下、水酸化ナトリウムと反応させる第２工程により、化合物（Ｉ）を合成することができる。
化合物（ＩＶ’）は、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、０．８モル〜１．５モルの範囲で用いられる。
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンは、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、１モル〜２モルの範囲で用いられる。
ＴＨＦは、化合物（ＩＩＩ）１ｇに対して、１ｍＬ〜５０ｍＬの範囲で用いられる。
第１工程の反応温度は、通常−２０℃〜８０℃であり、反応時間は０．５時間〜１５時間程度である。
第１工程の反応終了後、化合物（Ｖ）は、抽出、水洗、濃縮により反応混合物より単離することができる。
第２工程は、無溶媒で行うことができる。
水酸化ナトリウムは、微粒状のものが好ましく、化合物（Ｖ）１モルに対して、１モル〜５モルの範囲で用いられる。
相間移動触媒は、硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウムが好ましく、化合物（Ｖ）１モルに対して、０．０１モル〜１モルの範囲で用いられる。
第２工程の反応温度は、通常２０℃〜１５０℃であり、反応時間は０．５〜２４時間程度である。
第２工程の反応終了後、化合物（Ｉ）は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや減圧蒸留等により精製することができる。
４−２．製法２
製法２は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させる第１工程および化合物（Ｖ）を塩基存在下反応させる第２工程を含む化合物（Ｉ）の製造方法である。
４−２−１．第１工程
第１工程は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）を反応させて化合物（Ｖ）を製造し得る条件であれば、如何なる反応条件であってもよいが、好ましくは、溶媒中または無溶媒で、化合物（ＩＩＩ）および化合物（ＩＶ）を、酸触媒の存在下反応させることにより行うことができる。
第１工程で用いられる化合物（ＩＩＩ）は、公知化合物であり、自体公知の方法で調製することができる。例えば、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ，１９８７年，第６０巻，ｐ．３９７−３９８に記載されているようにエピハロヒドリンを対応するハロゲン化水素で開環することにより製造することができ、また市販品を用いることもできる。
第１工程で用いられる化合物（ＩＶ）は、公知化合物であり、自体公知の方法（例えば、実験化学講座（丸善）第４版、第２０巻、ｐ．２４５−２４８に記載の方法）で調製することができ、また市販品を用いることもできる。
化合物（ＩＶ）の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは２当量〜５０当量、より好ましくは５当量〜３０当量である。化合物（ＩＶ）の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（ＩＩＩ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第１工程で使用される酸触媒としては特に限定はないが、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、硫酸、塩酸、リン酸、過塩素酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸または硫酸が好ましい。
当該酸触媒の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは０．００１当量〜１当量、より好ましくは０．０１当量〜０．３当量である。酸触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応速度が遅くなる傾向があり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第１工程においては、反応速度を促進させるために、さらに金属のハロゲン化物を添加してもよく、該金属のハロゲン化物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛等が挙げられ、臭化リチウムが好ましい。金属のハロゲン化物の使用量は、化合物（ＩＩＩ）に対し、好ましくは０．０５当量〜１０当量、より好ましくは０．５当量〜５当量である。
第１工程は、当該反応を阻害しない溶媒（例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、クロロベンゼン、ヘキサン等の単独または混合溶媒）中で行ってもよいが、無溶媒で行うことが好ましい。溶媒を使用する場合、その使用量は化合物（ＩＩＩ）１ｋｇに対し、好ましくは１Ｌ〜３０Ｌである。
第１工程の反応温度は、通常は−２０℃〜１２０℃であるが、１０℃〜７０℃が好ましい。反応時間は、通常１〜９６時間である。
第１工程で得られる化合物（Ｖ）は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を必要により炭酸水素ナトリウム水溶液等で中和した後、分液、乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｖ）を単離することができ、さらに、減圧蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、第２工程に供することもできる。
第１工程で得られる化合物（Ｖ）は化合物（Ｉ）の中間体として有用であり、また、それ自身アセトニル化試薬として用いることも出来る（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８６年，第５１巻，ｐ．５４２５−５４２７参照）。
４−２−２．第２工程
第２工程は、例えば、溶媒中または無溶媒で、化合物（Ｖ）を、塩基存在下反応させて、脱ハロゲン化水素化することにより行うことができる。
第２工程で用いる塩基としては特に限定はなく、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等の無機塩基、あるいはトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基が挙げられ、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化セシウムが好ましい。該塩基の使用量は、化合物（Ｖ）に対し、好ましくは０．９当量〜５当量、より好ましくは１当量〜２当量である。塩基の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（Ｖ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用した場合、副反応が進行する虞がある。
第２工程において無機塩基を使用する場合は、無機塩基を可溶化して反応を円滑に進行させるために、相間移動触媒を添加するのが好ましい。該相間移動触媒としては、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド等が挙げられ、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムが好ましい。該相間移動触媒の使用量は、化合物（Ｖ）に対し、好ましくは０．０１当量〜０．５当量、より好ましくは０．０５当量〜０．３当量である。相間移動触媒の使用量は、この範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が十分進行せず、化合物（Ｖ）が残存しやすくなり、この範囲より多く使用しても使用量に見合う効果が少なくなり、工業的に不利になりやすい。
第２工程は、当該反応を阻害しない溶媒（例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、クロロベンゼン、ヘキサン等の単独または混合溶媒）中で行ってもよいが、無溶媒で行うことが好ましい。溶媒を使用する場合、その使用量は化合物（Ｖ）１ｋｇに対し、好ましくは１Ｌ〜３０Ｌである。
第２工程の反応温度は、通常は０℃〜１５０℃であるが、２０℃〜１００℃が好ましい。反応時間は、通常０．１〜１２時間である。
第２工程で得られる化合物（Ｉ）は、常法（例えば、第１工程と同様の方法）により単離、精製することができるが、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８７年，第５２巻，ｐ．３１９２−３１９６に記載の方法により単離精製するのが好ましい。すなわち、反応混合物を減圧蒸留することにより化合物（Ｉ）を含有する留分を得て、これを必要により、溶媒（ジエチルエーテル等）に希釈、無水硫酸マグネシウム等で乾燥、濃縮することにより、化合物（Ｉ）を単離精製することができる。
以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
［実施例１］：２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメトキシメチルエーテルの合成
１，３−ジクロロ−２−プロパノール（１０．０ｇ，７７．５ｍｍｏｌ）をジメトキシメタン（１５０ｍｌ）に溶解し、臭化リチウム（２０．２ｇ、２３２．５ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸（１．３３ｇ，７．８ｍｍｏｌ）を添加し、室温下３日間攪拌した。反応終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）を加えて中和分液を行った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾過後濃縮して、粗製の表題化合物（１２．４４ｇ）を得た。粗製の表題化合物を減圧蒸留（１５ｍｍＨｇ，８３℃）して、純粋な表題化合物（７．７ｇ，収率５７．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）３．４３（ｓ，３Ｈ），３．６９−３．７７（ｍ，４Ｈ），３．９９（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ）
［実施例２］：２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エンの合成
２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメトキシメチルエーテル（１５．０ｇ，８６．７ｍｍｏｌ）に水酸化カリウム（７．３ｇ，１３０．０ｍｍｏｌ）および硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（１．５ｇ，４．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌した。その後、８０〜９０℃に加熱し、減圧留去（２０〜３０ｍｍＨｇ，５０〜５５℃）した。得られた留出分（１０．５ｇ）をジエチルエーテル（５０ｍｌ）に溶解し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、無水硫酸マグネシウムを濾過、濃縮して表題化合物（９．３ｇ，収率７８．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）３．４５（ｓ，３Ｈ），３．９９（ｓ，２Ｈ），４．４１（ｓ，２Ｈ），５．０２（ｓ，２Ｈ）
［実施例３］：Ｌ−乳酸メチルのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチル（２０８ｍｇ，２ｍｍｏｌ）をベンゾトリフルオリド（２．０ｍＬ）に溶解させ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（ＰＰＴＳ，５０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を加えた後、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（東京化成社製，３２７ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３ｍＬ）を加え、酢酸エチル（４ｍＬ）で抽出した。有機層はさらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウム（０．５ｇ）上で脱水した後、減圧留去することにより、（Ｓ）−２−（メトキシメトキシ）プロピオン酸メチル（２４８ｍｇ，収率８４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：１．４４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例４］：Ｌ−乳酸メチルのメトキシメチルエーテル化
ベンゾトリフルオリドの代わりにアセトニトリル２．０ｍＬを使用した以外は、実施例１と同様に行い、（Ｓ）−２−（メトキシメトキシ）プロピオン酸メチル（２５６ｍｇ，収率８６％）を得た。
［実施例５］：（Ｓ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチルの代わりに（Ｓ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン（２０４ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を１５時間にした以外は実施例１と同様に行い、対応する（Ｓ）−β−（メトキシメトキシ）−γ−ブチロラクトン（２２６ｍｇ，収率７７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：２．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，Ｊ＝３Ｈｚ），２．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，Ｊ＝２Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．４８−４．５２（１Ｈ，ｍ），４．６８（２Ｈ，ｓ）．
［実施例６］：（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エチルのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチルの代わりに（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エチル（３３３ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を１５時間にした以外は実施例１と同様に行い、対応する（Ｓ）−４−クロロ−３−（メトキシメトキシ）ブタン酸エチル（４００ｍｇ，９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．２０−４．２６（１Ｈ，ｍ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例７］：（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エチルのメトキシメチルエーテル化
（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エチル（２．００ｇ，７．３ｍｍｏｌ）及び２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（東京化成社製，１．２０ｇ，８．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解させ、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ，１０ｍｇ）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応液にトリエチルアミン（１ｍＬ）流入した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）と飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウム（０．５ｇ）上で脱水濾過後、溶媒を留去することにより、対応する（Ｓ）−３−メトキシメトキシテトラデカン酸エチル（２．２０ｇ，収率９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０−１．４０（１８Ｈ，ｍ），１．４７−１．６０（２Ｈ，ｍ），２．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９２−４．０２（１Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例８］：１−フェニルエタノールのメトキシメチルエーテル化
１−フェニルエタノール（１．３５ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（２．０５ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（１２．５ｍｌ）の混合物に、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物（１１．９ｍｇ，０．０６３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温にて、４時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ）に注ぎ、酢酸エチル（２５ｍｌ）にて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ）にて洗浄後、無水硫酸マグネシウム（２．５ｇ）にて乾燥した。濾過後、濾液を減圧下濃縮し、（１．７４ｇ，収率８４％）を得た。結果を表１に示す。
［実施例９］：１−フェニルエタノールのメトキシメチルエーテル化
ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物の代わりにピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（３１４ｍｇ，１．２５ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を５４時間としたこと以外は、実施例８と同様に行い、メトキシメチル １−フェニルエチルエーテル（１．７７ｇ，収率８５％）を得た。結果を表１に示す。
［実施例１０〜２５］
水酸基含有化合物、酸触媒とその当量（ｍｏｌ％）および反応時間を表１に記載したとおりにしたこと以外は、実施例８または９と同様に行なった。結果（収率）を表１に示す。水酸基含有化合物が、第１級アルコール（実施例１６〜２１）および第３級アルコール（実施例２２〜２５）である場合は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは減圧蒸留にて精製した。
［実施例１］：２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメトキシメチルエーテルの合成
１，３−ジクロロ−２−プロパノール（１０．０ｇ，７７．５ｍｍｏｌ）をジメトキシメタン（１５０ｍｌ）に溶解し、臭化リチウム（２０．２ｇ、２３２．５ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸（１．３３ｇ，７．８ｍｍｏｌ）を添加し、室温下３日間攪拌した。反応終了後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）を加えて中和分液を行った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾過後濃縮して、粗製の表題化合物（１２．４４ｇ）を得た。粗製の表題化合物を減圧蒸留（１５ｍｍＨｇ，８３℃）して、純粋な表題化合物（７．７ｇ，収率５７．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）３．４３（ｓ，３Ｈ），３．６９−３．７７（ｍ，４Ｈ），３．９９（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ）
［実施例２］：２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エンの合成
２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメトキシメチルエーテル（１５．０ｇ，８６．７ｍｍｏｌ）に水酸化カリウム（７．３ｇ，１３０．０ｍｍｏｌ）および硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（１．５ｇ，４．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌した。その後、８０〜９０℃に加熱し、減圧留去（２０〜３０ｍｍＨｇ，５０〜５５℃）した。得られた留出分（１０．５ｇ）をジエチルエーテル（５０ｍｌ）に溶解し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、無水硫酸マグネシウムを濾過、濃縮して表題化合物（９．３ｇ，収率７８．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）３．４５（ｓ，３Ｈ），３．９９（ｓ，２Ｈ），４．４１（ｓ，２Ｈ），５．０２（ｓ，２Ｈ）
［実施例３］：Ｌ−乳酸メチルのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチル（２０８ｍｇ，２ｍｍｏｌ）をベンゾトリフルオリド（２．０ｍＬ）に溶解させ、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（ＰＰＴＳ，５０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を加えた後、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（東京化成社製，３２７ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３ｍＬ）を加え、酢酸エチル（４ｍＬ）で抽出した。有機層はさらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウム（０．５ｇ）上で脱水した後、減圧留去することにより、（Ｓ）−２−（メトキシメトキシ）プロピオン酸メチル（２４８ｍｇ，収率８４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：１．４４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ），４．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例４］：Ｌ−乳酸メチルのメトキシメチルエーテル化
ベンゾトリフルオリドの代わりにアセトニトリル２．０ｍＬを使用した以外は、実施例１と同様に行い、（Ｓ）−２−（メトキシメトキシ）プロピオン酸メチル（２５６ｍｇ，収率８６％）を得た。
［実施例５］：（Ｓ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチルの代わりに（Ｓ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン（２０４ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を１５時間にした以外は実施例１と同様に行い、対応する（Ｓ）−β−（メトキシメトキシ）−γ−ブチロラクトン（２２６ｍｇ，収率７７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：２．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，Ｊ＝３Ｈｚ），２．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，Ｊ＝２Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．４８−４．５２（１Ｈ，ｍ），４．６８（２Ｈ，ｓ）．
［実施例６］：（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エチルのメトキシメチルエーテル化
Ｌ−乳酸メチルの代わりに（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エチル（３３３ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を１５時間にした以外は実施例１と同様に行い、対応する（Ｓ）−４−クロロ−３−（メトキシメトキシ）ブタン酸エチル（４００ｍｇ，９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．２０−４．２６（１Ｈ，ｍ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例７］：（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エチルのメトキシメチルエーテル化
（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エチル（２．００ｇ，７．３ｍｍｏｌ）及び２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（東京化成社製，１．２０ｇ，８．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解させ、ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−ＴｓＯＨ，１０ｍｇ）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応液にトリエチルアミン（１ｍＬ）流入した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）と飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウム（０．５ｇ）上で脱水濾過後、溶媒を留去することにより、対応する（Ｓ）−３−メトキシメトキシテトラデカン酸エチル（２．２０ｇ，収率９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δｐｐｍ：０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０−１．４０（１８Ｈ，ｍ），１．４７−１．６０（２Ｈ，ｍ），２．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９２−４．０２（１Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）．
［実施例８］：１−フェニルエタノールのメトキシメチルエーテル化
１−フェニルエタノール（１．３５ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）、２−（クロロメチル）−３，５−ジオキサヘキサ−１−エン（２．０５ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（１２．５ｍｌ）の混合物に、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物（１１．９ｍｇ，０．０６３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温にて、４時間攪拌した。反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ）に注ぎ、酢酸エチル（２５ｍｌ）にて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ）にて洗浄後、無水硫酸マグネシウム（２．５ｇ）にて乾燥した。濾過後、濾液を減圧下濃縮し、（１．７４ｇ，収率８４％）を得た。結果を表１に示す。
［実施例９］：１−フェニルエタノールのメトキシメチルエーテル化
ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物の代わりにピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（３１４ｍｇ，１．２５ｍｍｏｌ）を使用し、反応時間を５４時間としたこと以外は、実施例８と同様に行い、メトキシメチル １−フェニルエチルエーテル（１．７７ｇ，収率８５％）を得た。結果を表１に示す。
［実施例１０〜２５］
水酸基含有化合物、酸触媒とその当量（ｍｏｌ％）および反応時間を表１に記載したとおりにしたこと以外は、実施例８または９と同様に行なった。結果（収率）を表１に示す。水酸基含有化合物が、第１級アルコール（実施例１６〜２１）および第３級アルコール（実施例２２〜２５）である場合は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたは減圧蒸留にて精製した。
Ｌ−乳酸の水酸基を保護した化合物は、たとえば抗真菌薬の原料として有用であり、（Ｓ）−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンや（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブタン酸エチルの水酸基を保護した化合物は、たとえば抗エイズ薬や高脂血症の治療薬の原料として有用であり、（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラデカン酸エチルの水酸基を保護した化合物は、たとえば抗肥満薬の原料として有用である。
本出願は、日本で出願された特願２００３−２８８３００および特願２００４−７９０６１を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。
本出願は、日本で出願された特願２００３−２８８３００および特願２００４−７９０６１を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。
Claims (9)
- 一般式（Ｉ）：
- Ｒが置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項１記載の水酸基の保護方法。
- Ｒがアルキル基である請求項２記載の水酸基の保護方法。
- 酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまたはｐ−トルエンスルホン酸である請求項１〜３のいずれかに記載の水酸基の保護方法。
- 酸触媒が、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートである請求項４記載の水酸基の保護方法。
- 一般式（Ｉ）：
- Ｒが、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項６記載の水酸基保護試薬。
- Ｒがアルキル基である請求項７記載の水酸基保護試薬。
- Ｒがメチル基である請求項８記載の水酸基保護試薬。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003288300 | 2003-08-06 | ||
| JP2003288300 | 2003-08-06 | ||
| JP2004079061 | 2004-03-18 | ||
| JP2004079061 | 2004-03-18 | ||
| PCT/JP2004/009215 WO2005014508A1 (ja) | 2003-08-06 | 2004-06-23 | 水酸基保護試薬およびそれを用いた水酸基の保護方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2005014508A1 JPWO2005014508A1 (ja) | 2006-10-05 |
| JP4624923B2 true JP4624923B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=34137922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005512906A Expired - Fee Related JP4624923B2 (ja) | 2003-08-06 | 2004-06-23 | 水酸基保護試薬およびそれを用いた水酸基の保護方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7605286B2 (ja) |
| EP (1) | EP1652832A4 (ja) |
| JP (1) | JP4624923B2 (ja) |
| WO (1) | WO2005014508A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013073681A1 (ja) | 2011-11-18 | 2013-05-23 | 国立大学法人金沢大学 | 水酸基保護化剤及び水酸基保護方法 |
| EP3486232B1 (en) | 2013-12-27 | 2021-09-01 | API Corporation | Method for producing 5-hydroxypiperidine-2-carboxylic acid |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9214720D0 (en) | 1992-07-10 | 1992-08-19 | Wellcome Found | Enzyme inhibitors |
| WO1995016660A1 (fr) * | 1993-12-17 | 1995-06-22 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Compose d'acetal de cis-3-hexenal cis-3-hexenyle, son procede de production, aromatisant, exhausteur de gout, et composition parfumee le contenant |
-
2004
- 2004-06-23 EP EP04746684A patent/EP1652832A4/en not_active Withdrawn
- 2004-06-23 US US10/567,150 patent/US7605286B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-06-23 JP JP2005512906A patent/JP4624923B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-06-23 WO PCT/JP2004/009215 patent/WO2005014508A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2005014508A1 (ja) | 2006-10-05 |
| EP1652832A4 (en) | 2007-05-16 |
| EP1652832A1 (en) | 2006-05-03 |
| US20070155983A1 (en) | 2007-07-05 |
| US7605286B2 (en) | 2009-10-20 |
| WO2005014508A1 (ja) | 2005-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2292579A1 (en) | Process for production of halogenated -fluoroethers | |
| JP4649645B2 (ja) | 光学活性アルコール化合物の製法 | |
| JP4624923B2 (ja) | 水酸基保護試薬およびそれを用いた水酸基の保護方法 | |
| JP3777408B2 (ja) | カルボン酸誘導体の製造法 | |
| EP1268462B1 (en) | A process for producing simvastatin | |
| EP1730109B1 (en) | Synthesis of pyrrole-2-carbonitriles | |
| JP5042243B2 (ja) | ポリ−３−ヒドロキシブチレートを用いてβ−ラクタム化合物を調製する方法 | |
| JP4519241B2 (ja) | エポキシドの製造法 | |
| US6414181B1 (en) | Process of producing cyclopropanecarboxylate compounds | |
| JP4084501B2 (ja) | α−メルカプトカルボン酸およびその製造方法 | |
| US5162554A (en) | Optically active enantiomers of substituted glyceraldehydes or glycidaldehydes formed as subtituted 1,5- dihydro-3H-2,4-benzodioxepines | |
| JP4138322B2 (ja) | ５−イソキサゾリジノン類の新規製造法 | |
| JP2023111473A (ja) | 脱水縮合をともなう環化反応による環化生成物の製造方法、および１，３，４－置換－ピラゾール－５－カルボン酸エステル類の製造方法 | |
| JP3777407B2 (ja) | カルボン酸誘導体の製造法 | |
| JP2023155765A (ja) | アミド化合物の製造方法 | |
| EP1731495B1 (en) | Process for producing cyclopropane monoacetal derivative and intermediate therefor | |
| US6420612B1 (en) | Bicycloheptene derivatives and processes for the preparation of the same | |
| JP5574480B2 (ja) | アミノ基含有アセトン誘導体、及びそれを用いた炭素−炭素結合形成方法 | |
| JP2006176426A (ja) | アセトニル化試薬の新規製造方法 | |
| JP2001199949A (ja) | 光学活性体の合成法 | |
| WO2017098975A1 (ja) | ビフェニル化合物の製造方法 | |
| JPH083126A (ja) | Ｎ，ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンの製造方法 | |
| Mathieson | A flexible one-step synthesis of dienamides: approaches towards a total synthesis of the Crocacins | |
| MXPA05006877A (es) | Proceso para la sintesis de 3,3a,6,6a-tetrahidro-2h-ciclopentan[b] furan-2-ona. | |
| HU206695B (en) | Process for producing epoxy-carbamae derivatives |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100614 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101026 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101104 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |