JP4624129B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置及び水平方向に配向したネマチック液晶に横方向の電界を印加することにより表示を行うインプレーンスイッチングモードの液晶表示装置に関する。

液晶表示装置としては、二枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶分子による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して、液晶性分子がハイブリッド配向したフィルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性分子を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での諧調反転が抑えきれないという問題を生じていた。

かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードおよびフリンジフィールドスイッチング（ＦＦＳ）モードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。

この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードやＦＦＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示又は中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特許文献１参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコチック液晶性化合物からなる光学補償フィルムを使用した方法（特許文献２、３、４参照）や、光学補償フィルムとして複屈折が正で光学軸がフィルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフィルムの法線方向にある膜とを組み合わせる方法（特許文献５参照）、レターデーションが二分の一波長の二軸性の光学補償シートを使用する方法（特許文献６参照）、偏光板の保護膜として負のレターデーションを有する膜を使い、この表面に正のレターデーションを有する光学補償層を設ける方式（特許文献７参照）が提案されている。

特開平９−８０４２４号公報 特開平１０−５４９８２号公報 特開平１１−２０２３２３号公報 特開平９−２９２５２２号公報 特開平１１−１３３４０８号公報 特開平１１−３０５２１７号公報 特開平１０−３０７２９１号公報

しかし、提案された方式の多くは、液晶セル中の液晶の複屈折の異方性を打ち消して視野角を改善する方式であるために、直交偏光板を斜めから見た場合の偏光軸交差角度の直交からのズレに基づく光漏れを十分に解決できないという問題がある。また、この光漏れを補償できるとされる方式でも、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。さらに、延伸複屈折ポリマーフィルムで光学補償を行うＩＰＳモードやＦＦＳモード液晶セル用光学補償シートでは、複数のフィルムを用いる必要があり、その結果、光学補償シートの厚さが増し、表示装置の薄形化に不利である。また、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することがあった。

本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角が改善されたＩＰＳ型やＦＦＳ型液晶表示装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するための手段は以下のとおりである。
（１） 少なくとも、第１偏光膜と、第１位相差領域と、第２位相差領域と、液晶層および該液晶層を挟持する一対の基板からなる液晶セルと、第２偏光膜とがこの順序で配置され、黒表示時に前記液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１位相差領域の面内レターデーション（Ｒｅ）が７０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、前記面内レターデーション（Ｒｅ）と、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義される第１位相差領域のＮｚ値が０を超え０．５未満であり、前記第２位相差領域の面内のレターデーションが５０ｎｍ以下であり、かつ、光学軸が前記第２位相差領域の面内に含まれておらず、前記第２位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に直交、かつ、前記第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行である液晶表示装置。
（２） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−１００ｎｍである（１）の液晶表示装置。

（３） 少なくとも、第１偏光膜と、第２位相差領域と、第１位相差領域と、液晶層および該液晶層を挟持する一対の基板からなる液晶セルと、第２偏光膜とがこの順序で配置され、黒表示時に前記液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１位相差領域の面内レターデーション（Ｒｅ）が８０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、前記面内レターデーション（Ｒｅ）と、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義される第１位相差領域のＮｚ値が０を超え０．４未満であり、前記第２位相差領域の面内のレターデーションが５０ｎｍ以下であり、かつ、光学軸が前記第２位相差領域の面内に含まれておらず、第２位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、前記第１位相差領域の遅相軸が、第１偏光膜の透過軸に平行、かつ、前記第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行である液晶表示装置。
（４） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍである（３）の液晶表示装置。

（５） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが２０ｎｍ〜−５０ｎｍである（１）〜（４）のいずれかの液晶表示装置。
（６） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚みが６０μｍ以下である（１）〜（５）のいずれかの液晶表示装置。
（７） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜がセルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムを含む（１）〜（６）のいずれかの液晶表示装置。
（８） 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜がアシル基による置換度が２．８７以上のセルロースアシレートを含む（１）〜（６）のいずれかの液晶表示装置。
（９）液晶セルの一対の基板のうち視認側と反対側の基板により近い位置に、前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が配置されている（１）〜（８）のいずれかの液晶表示装置。

正面方向の特性を何ら変更させることなく、斜めの方位角方向から見た場合に２枚の偏光板の吸収軸が９０度からずれることから生ずるコントラストの低下、特に４５度の斜め方向からのコントラストの低下や黒表示時の色味の視野角変化を改善することができる。

発明の実施の形態

以下において、本発明の液晶表示装置の一実施形態及びその構成部材について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長５５０ｎｍにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５５０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーションの計３つの方向で測定したレターデーションを基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。

ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。

また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーションがＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。

本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率および位相差の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。

本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。

以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。図２及び図３は、本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式図である。
［液晶表示装置］
図２に示す液晶表示装置は、偏光膜８、２０と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２と、一対の基板１３、１７及びこれに挟持される液晶層１５からなる液晶セルとを有する。偏光膜８及２０は、それぞれ保護膜７ａと７ｂ及び１９ａと１９ｂによって挟持されている。

図２の液晶表示装置では、液晶セルは、基板１３及び１７と、これらに挟持される液晶層１５からなる。液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは透過モードにおいて、ねじれ構造を持たないＩＰＳ型では０．２〜０．４μｍの範囲が最適値となる。この範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。基板１３及び１７の液晶層１５に接触する表面には、配向膜（不図示）が形成されていて、液晶分子を基板の表面に対して略平行に配向させるとともに配向膜上に施されたラビング処理方向１４及び１８等により、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子配向方向が制御されていて、遅相軸１６の方向が決定されている。また、基板１３もしくは１７の内面には、液晶分子に電圧印加可能な電極（図２中不図示）が形成されている。

図１に、液晶層１５の１画素領域中の液晶分子の配向を模式的に示す。図１は、液晶層１５の１画素に相当する程度の極めて小さい面積の領域中の液晶分子の配向を、基板１３及び１７の内面に形成された配向膜のラビング方向４、及び基板１３及び１７の内面に形成された液晶分子に電圧印加可能な電極２及び３とともに示した模式図である。電界効果型液晶として正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った場合の、電圧無印加状態若しくは低印加状態での液晶分子配向方向は５ａ及び５ｂであり、この時に黒表示が得られる。電極２及び３間に印加されると、電圧に応じて液晶分子は６ａ及び６ｂ方向へとその配向方向を変える。通常、この状態で明表示を行なう。
また、本発明に用いられる液晶セルはＩＰＳモードやＦＦＳモードに限定されることなく、黒表示時に液晶分子が前記一対の基板の表面に対して実質的に平行に配向する液晶表示装置であれば、いずれも好適に用いることができる。この例としては強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置がある。

再び図２において、偏光膜８の透過軸９と、偏光膜２０の透過軸２１は直交して配置される。また、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が偏光膜８の透過軸９と直交に配置される。さらに、偏光膜８の透過軸９と、黒表示時の液晶層１４中の液晶分子の遅相軸１６とは平行であり、即ち、第１位相差領域１０の遅相軸１１と液晶黒表示時の液晶層１４の遅相軸１６とは直交である。本態様では、後述する特定の光学特性を示す第１位相差領域１０を、この様に配置するとともに、後述する特定の光学特性を有する第２位相差領域を第１位相差領域１０と液晶セルとの間に配置することで、液晶セルの視野角特性を改善している。

図２に示す液晶表示装置では、偏光膜８が二枚の保護膜７ａ及び７ｂに挟持された構成を示しているが、保護膜７ｂはなくてもよい。但し、保護膜７ｂを配置しない場合は、第１位相差領域１０は後述する特定の光学特性を有するとともに、偏光膜８を保護する機能も兼ね備えている必要がある。保護膜７ｂを配置する場合は、該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａ及び１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。保護膜１９ａを配置する場合は、該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈの好ましい範囲は、保護膜７ｂと同様である。また、保護膜７ｂ及び保護膜１９ａは、その厚みが薄いのが好ましく、具体的には６０μｍ以下であるのが好ましい。

図２の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜８との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜２０との間に配置されていてもよい。いずれの態様においても、第２位相差領域１２が液晶セルにより近くなるように配置する。

本発明の他の実施形態を図３に示す。図３中、図２と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図３に示す液晶表示装置では、第１位相差領域１０と第２位相差領域１２との位置が入れ替わり、第１位相差領域１０が、第２位相差領域１２と比較して偏光膜８からより遠い位置、即ち、より液晶セルに近い位置に配置される。また、図３に示す態様では、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が、偏光膜８の透過軸９と平行にして配置される。さらに、偏光膜８の透過軸９と、黒表示時の液晶層１４中の液晶分子の遅相軸１６とは平行であり、即ち、第１位相差領域１０の遅相軸１１と液晶黒表示時の液晶層１４の遅相軸１６とは平行である。本態様では、後述する特定の光学特性を示す第１位相差領域１０をこの様に配置するとともに、後述する特定の光学特性を有する第２位相差領域を第１位相差領域１０と偏光膜８との間に配置することで、液晶セルの視野角特性を改善している。

図３の液晶表示装置においても、上記と同様、保護膜７ｂまたは保護膜１９ａはなくてもよい。但し、保護膜７ｂがない場合は、第２位相差領域１２が、後述する特定の光学特性を有するとともに、偏光膜８を保護する機能も兼ね備えている必要がある。保護膜７ｂを配置する場合は、該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａ及び１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。保護膜１９ａを配置する場合は、該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈの好ましい範囲は、保護膜７ｂと同様である。また、保護膜７ｂ及び保護膜１９ａは、その厚みが薄いのが好ましく、具体的には６０μｍ以下であるのが好ましい。

なお、図３の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜８との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜２０との間に配置されていてもよい。いずれの態様においても、第１位相差領域１０が液晶セルにより近くなるように配置する。

本発明の液晶表示装置は、図１〜図３に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶層と偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光膜の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図２及び図３の上側であっても下側であっても良いが、不良品率がやや高い反射防止や帯電防止処理をした偏光板と組み合わせる必要性が低いため、図でバックライトを下にしたほうがより好ましい。また、液晶層とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。

本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。

以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材の好ましい光学特性や部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。

［第１位相差領域］
本発明の液晶表示装置の一態様では、第１位相差領域は、図２に示す様に、第２位相差領域と比較して液晶セルからより離れた位置に配置される。本態様においては、第１位相差領域は、面内のレターデーション（Ｒｅ）が、７０ｎｍ〜３３０ｎｍである。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅは、９０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、１１０ｎｍ〜１９０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義される第１位相差領域のＮｚが０を超え０．５未満で、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、０．１以上０．４未満であるのがより好ましい。０．５を超えるとコントラストを向上させるために必要なＲｅの値が大きくなり、きわめて高精度な偏光板との貼合精度が必要になり、さらに第２位相差領域に必要なＲｔｈが大きくなり好ましくない。

なお、本態様の液晶表示装置では、第１位相差領域は、その遅相軸が、第１位相領域により近い位置に配置される偏光膜の透過軸及び液晶層の黒表示時の遅相軸と直交にして配置される。

また、本発明の液晶表示装置の他の態様では、第１位相差領域は、図３に示す様に、第２位相差領域と比較して液晶セルからより近い位置に配置される。本態様においては、第１位相差領域は、面内のレターデーション（Ｒｅ）が、８０ｎｍ〜２３０ｎｍである。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅは、１００ｎｍ〜２１０ｎｍであるのが好ましく、１１０ｎｍ〜１９０ｎｍであるのがより好ましい。また、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義されるＮｚが０を超え０．４未満で、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、０．１以上０．３５未満であるのがより好ましい。０．４を超えるとコントラストを向上させるために必要なＲｅの値が大きくなり、きわめて高精度な偏光板との貼合精度が必要になり、さらに第２位相差領域に必要なＲｔｈが大きくなり好ましくない。

なお、本態様の液晶表示装置では、第１位相差領域は、その遅相軸が、第１位相領域により近い位置に配置される偏光膜の透過軸及び液晶層の黒表示時の遅相軸と平行にして配置される。

本発明において、前記第１位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱した膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。

複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるもの、光弾性が小さいものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、ポリプロピレン等のポリオレフィン、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。

フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該フィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより行うことができる。また、面方向に一軸または二軸に延伸し、厚さ方向にも延伸する方法等により厚さ方向の屈折率を制御することにより得られる。また高分子ポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理して配向させる方法等により得られる（例 特開平５−１５７９１１号公報、特開平１１−１２５７１６号公報、特開２００１−１３３２４号公報）。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般的には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。

［第２位相差領域］
本発明の液晶表示装置の一態様では、第２位相差領域は、図２に示す様に、第１位相差領域と比較して液晶セルからより近い位置に配置される。本態様においては、第２位相差領域の面内の屈折率ｎｘとｎｙが実質的に等しいのが好ましく、その差は０．０５以下であるのが好ましく、０．０２以下であるのがより好ましく、０．０１以下であるのがさらに好ましい。また、第２位相差領域は、面内のレターデーション（Ｒｅ）が、１００ｎｍ以下であるのが好ましい。５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、３０ｎｍ〜１３０ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜１１０ｎｍであるのがさらに好ましい。
なお、本態様では、第２位相差領域の遅相軸の配置については特に限定されないが、第２位相差領域のＲｅが２０ｎｍを超える場合は、第２位相差領域は、その遅相軸を、より近い位置に配置される偏光膜の透過軸と平行にして配置されるのが好ましい。そのように配置すると、例えば、第１位相差領域の厚みを薄くできる。

さらに詳細には、第１位相差領域のＮｚ値を０．４程度に大きくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは３０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、一方、第１位相差領域のＮｚ値を、０．１程度と小さくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは８０〜１２０ｎｍが好ましい。第１位相差領域のＮｚ値がその中間である０．２５程度では、第２位相差領域のＲｔｈは６０〜１００ｎｍが好ましい。但し、前記好ましい範囲は、本態様の液晶表示装置が、液晶セルと偏光膜との間に偏光膜を保護する少なくとも一枚の保護膜を有し、且つ該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−１００ｎｍである場合の好ましい範囲である。

本発明の液晶表示装置の他の態様では、第２位相差領域は、図３に示す様に、第１位相差領域と比較して液晶セルからより離れた位置に配置される。本態様においては、第２位相差領域の面内のレターデーション（Ｒｅ）が、１００ｎｍ以下であるのが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、２５ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、３０ｎｍ〜８０ｎｍであるのがさらに好ましい。
なお、本態様では、第２位相差領域の遅相軸の配置については特に限定されないが、第２位相差領域のＲｅが２０ｎｍを超える場合は、第２位相差領域は、その遅相軸を、より近い位置に配置される偏光膜の透過軸と直交にして配置されるのが好ましい。そのように配置すると、例えば、第１位相差領域の厚みを薄くできる。

さらに詳細には、第１位相差領域のＮｚ値を０．４程度に大きくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは３０ｎｍ〜４０ｎｍが好ましく、一方、第１位相差領域のＮｚ値を０．１程度と小さくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは７０〜８０ｎｍが好ましい。第１位相差領域のＮｚ値がその中間である０．２５程度である場合には、第２位相差領域のＲｔｈは５０〜７０ｎｍが好ましい。但し、前記好ましい範囲は、本態様の液晶表示装置が、液晶セルと偏光膜との間に偏光膜を保護する少なくとも一枚の保護膜を有し、且つ該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍである場合の好ましい範囲である。

前記第２位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料について特に制限はない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。

上記光学特性を有する複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜は、高分子フィルムを一軸及び二軸延伸することでも容易に形成できる（例 特開２００２−１３９６２１号公報、特開２００２−１４６０４５号公報）。また、延伸することなしに流延するだけでこの光学特性を発現するセルロースアシレート類を好適に用いることができる。かかるセルロースアシレートとして、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００１−１６６１４４号公報、特開２００２−１６１１４４号公報、特開２００２−９０５４１号公報に記載されているものを用いることができる。高分子フィルムの材料は、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、セルロースアシレート）が用いられる。

上記光学特性を有する液晶性化合物から形成された位相差層は、キラル構造単位を含んだ棒状コレステリック液晶性組成物を、支持体上もしくは仮支持体上に塗布し、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させた後、固定化することによって形成することができる。前記位相差層を仮支持体上に形成した場合は、支持体上に転写することで作製することができる。また、複屈折が負のディスコチック液晶性化合物を水平配向（ダイレクターは基板に垂直）させて、固定した位相差層、及びポリイミド高分子を基板上に流延固定した位相差層も、同様に用いることができ。さらに、一枚の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、上記光学特性を示す第２位相差領域を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体で上記光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を構成してもよい。

ディスコチック液晶性化合物から形成された位相差層を含む第２位相差領域は、ディスコチック液晶性化合物あるいは重合性開始剤や空気界面水平配向剤（例 特願２００３−３８８３０８号公報に記載）及び前述の他の添加剤を含む塗布液を、支持体の上に形成された水平配向膜の上に塗布することで形成することができる。ディスコチック液晶層を水平に配向させるための配向膜としては有機酸や塩などの固形分含有量が０．１質量％未満のポリビニルアルコールやポリイミド、ポリアミド、アクリルなどの高分子配向膜を使用できる。配向膜を形成後にラビングは行なってもよいが、行なわなくてもよい。
その他、使用可能なディスコチック液晶性化合物の例、塗布液の調製に用いる溶媒の例、塗布方法の例、重合性開始剤及び重合性モノマー等の他の材料、及び位相差層の形成に用いられる支持体については、特願２００４−３７８３５号公報に記載を同様に用いることができる。

［偏光膜用保護膜］
本発明の液晶表示装置は、偏光膜を保護する偏光膜用保護膜を有していてもよい。偏光膜用保護膜は、可視光領域に吸収が無く、光透過率が８０％以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さいものが好ましい。具体的には、面内のＲｅが０〜３０ｎｍが好ましく、０〜１５ｎｍがより好ましく、０〜５ｎｍが最も好ましい。また、第１位相差領域が第２位相差領域と比較してより液晶セルに近い位置に配置される態様、例えば図２に示す態様では、液晶セル側に配置される保護膜（例えば図２中の７ｂ及び１９ａ）のＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ〜−１００ｎｍであるのがより好ましく、４０ｎｍ〜−５０ｎｍであるのがさらに好ましく、２０ｎｍ〜−２０ｎｍであるのがさらにより好ましい。また、第２位相差領域が第１位相差領域と比較してより液晶セルに近い位置に配置される態様、例えば図３に示す態様では、液晶セル側に配置される保護膜（例えば図３中の７ｂ及び１９ａ）のＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ〜−５０ｎｍであるのがより好ましく、２０ｎｍ〜−２０ｎｍであるのがさらに好ましい。もう一方の保護膜（例えば、図２及び図３中の７ａ及び１９ｂ）の光学特性については特に制限はない。

また、保護膜の厚み、特に液晶セル側に配置される保護膜の厚みは、Ｒｔｈを小さくするという観点から、６０μｍ以下であるのが好ましく、５０μｍ以下であるのがより好ましく、４０μｍ以下があるのがさらに好ましい。但し、保護膜が上記光学特性を満たすために複数の層からなる場合は、厚みの好ましい範囲はこの範囲に限定されない。

保護膜には、上記特性を満足するフィルムであればいずれも好適に使用することができるが、偏光膜の耐久性の観点からは、セルロースアシレートやノルボルネン系のフィルムを含んでいるのがより好ましい。
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。

セルロースアシレートとしては、そのアシル基が脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよく、総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。これらの好ましいセルロースアシレートとしては、エステル部の総炭素数が２２以下のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、バレル、ヘプタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイルなど）、アリールカルボニル基（アクリル、メタクリルなど）、アリルカルボニルキ（ベンゾイル、ナフタロイルなど）、シンナモイル基を挙げることが出来る。これらの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどであり、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、好ましくはアセテートが総エステルの３０モル％以上であることが好ましい。

これらの中でも、セルロースアセテートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ましく、市販の写真用グレードのものは粘度平均重合度、置換度等の品質を満足して入手することができる。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０，３０，４０，５０，７０，３５，５５，１０５など）、イーストマンコダック社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、いずれも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤（好ましい添加量はセルロースエステルに対して０．１乃至２０質量％、以下同様）、改質剤（０．１乃至２０質量％）、紫外線吸収剤（０．００１乃至５質量％）、平均粒径が５乃至３０００ｎｍである微粒子粉体（０．００１乃至５質量％）、フッ素系界面活性剤（０．００１乃至２質量％）、剥離剤（０．０００１乃至２質量％）、劣化防止剤（０．０００１乃至２質量％）、光学異方性制御剤（０．１乃至１５質量％）、赤外線吸収剤（０．１乃至５質量％）などを混合することが出来る（参考資料：特開２００２−２７７６３２、特開２００２−１８２２１５、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）１６頁〜２２頁）。

透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法及び溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。

溶液流延による方法は、たとえばセルロースアシレートフィルムの流延は、従来の溶液流延製膜方法に従い、従来の溶液流延製膜装置を用いて製造できる。溶解機（釜）で調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）は、貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープは３０℃に保温し、ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。流延工程では、２以上のセルロースアシレート溶液を同時または逐次共流延してもよい。

溶液の流延における空間温度は、−５０℃乃至５０℃が好ましく、−３０℃乃至４０℃がさらに好ましく、−２０℃乃至３０℃が最も好ましい。低い空間温度で流延されたセルロースアシレート溶液は、支持体上で瞬時に冷却され、ゲル強度が向上する。これにより、有機溶媒が多く残存するフィルムが得られる。従って、セルロースアシレートから有機溶媒を蒸発させることなく、支持体からフィルムを短時間で剥ぎ取ることができる。空間を冷却する気体は、通常の空気、窒素、アルゴンあるいはヘリウムを用いることができる。相対湿度は、０乃至７０％が好ましく、０乃至５０％がさらに好ましい。
セルロースアシレート溶液を流延する支持体（流延部）の温度は、−５０℃乃至１３０℃が好ましく、−３０℃乃至２５℃がさらに好ましく、−２０℃乃至１５℃が最も好ましい。流延部を冷却するために、流延部に冷却した気体を導入できる。冷却装置を流延部に配置して空間を冷却してもよい。冷却においては、流延部に水が付着しないように注意することが重要である。気体で冷却する場合は、気体を乾燥しておくことが望ましい。

続いて、金属支持体から剥離して得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。
このようにして乾燥の終了したフィルム中の残留溶剤は０〜５質量％が好ましく、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜１質量％である。乾燥終了後、両端をトリミングして巻き取る。好ましい幅は０．５〜５ｍであり、より好ましくは０．７〜３ｍ、さらに好ましくは１〜２ｍである。好ましい巻長は３００〜３００００ｍであり、より好ましくは５００〜１００００ｍ、さらに好ましくは１０００〜７０００ｍである。

Ｒｅ、Ｒｔｈをさらに調整するために、フィルムを延伸することもできる。延伸は、製膜中未乾燥の状態で実施しても良く（例えば、流延後支持体から剥ぎ取った後から乾燥完了までの間）、乾燥終了後に実施しても良い。これらの延伸は製膜工程中、オン−ラインで実施しても良く、製膜完了後、一度巻き取った後オフ−ラインで実施しても良い。延伸はＴｇ以上Ｔｇ＋５０℃以下で実施するのが好ましく、より好ましくはＴｇ＋１℃以上Ｔｇ＋３０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋２℃以上Ｔｇ＋２０℃以下である。好ましい延伸倍率は１％以上５００％以下、より好ましくは３％以上４００％以下、さらに好ましくは５％以上３００％以下である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施しても良い。
このような延伸は出口側の周速を速くした２対以上のニップロールを用いて、長手方向に延伸してもよく（縦延伸）、フィルムの両端をチャックで把持しこれを直交方向（長手方向と直角方向）に広げても良い（横延伸）。一般にいずれの場合も、延伸倍率を大きくすると、Ｒｔｈを大きくすることができる。また、縦延伸と横延伸の倍率の差を大きくすることでＲｅを大きくすることができる。

セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを小さくする方法として、非平面構造性の化合物をフィルムに混合することが有効である。また、特開平１１−２４６７０４号公報、特開２００１−２４７７１７号公報、特願２００３−３７９９７５号明細書に記載の方法などが挙げられる。また、セルロースアシレートフィルムの厚みを小さくすることによっても、Ｒｔｈを小さくすることができる。

セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを負にする方法としてはＲｔｈ低下剤の混合による方法とアシル基の置換度を２．８７以上にする方法が好ましい。
Ｒｔｈを低下させる化合物は、セルロースアシレートの配向を乱し、かつ自身が配向しにくいおよび／または分極率異方性が小さい添加剤がＲｔｈを効果的に低下させる化合物である。したがって、セルロースアシレートの配向を乱すため、極性基と非極性基とを併せ持つ化合物が好ましい。また、化合物自身の配向を妨げたり分極率異方性を小さくしたりするため、液晶性を有するような剛直な構造でない化合物が好ましく、複数の芳香環を有する場合には、それらが同一平面内に存在しないことが好ましい。本発明で好ましく用いられるＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートに対して０．１〜３０質量％含有することが好ましく、１〜２５質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがさらに好ましい。

また、アシル基の置換度を２．８７以上にする方法では、セルロースアシレート溶液の溶媒をハロゲン化炭化水素もしくはそれにアルコールを混合した溶媒を使用し、冷却溶解によって溶液（ドープ）を形成し、前述の流延方法でフィルムを形成することが出来る。セルロースアシレートの置換度は、２．８７以上であることが好ましく、２．８７〜２．９６であることがより好ましく、２．８８〜２．９５がさらに好ましく、２．９０〜２．９５が最も好ましい。
特に好ましい有機溶媒は、ジクロロメタン、メチルホルメート、エチルホルメート、メチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、メチルアセトアセテート、ヘキサン、シクロヘキサンである。これらのうち、全溶媒中に少なくとも１０〜３０質量％、より好ましくは１１〜３０質量％、さらに好ましくは１２〜２５質量％のアルコールを含有することがセルロースエステルの溶解性向上の観点から好ましい。
また、Ｒｔｈ低減の観点から、乾燥過程初期において、ハロゲン化炭化水素とともに揮発する割合が小さく、次第に濃縮される沸点が９５℃以上の、セルロースエステルの貧溶媒である有機溶媒を全溶媒中に１〜１０質量％、より好ましくは１．５〜８質量％、さらに好ましくは２〜６質量％含有されることが好ましい。そして、バンドからの剥離荷重低減およびＲｔｈ低減双方の観点から、沸点が９５℃以上の有機溶媒はアルコールであることが好ましく、乾燥負荷低減による生産性向上の観点から、アルコールは２種類以上のアルコールの混合物であり、沸点が９５℃以上のアルコールと沸点が９５℃未満のアルコールとからなることが好ましい。

セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、冷却溶解法を実施することが好ましく、高温溶解法との組み合わせで実施することもできる。セルロースアシレート溶液の調製方法については、特開昭５８−１２７７３７号、同６１−１０６６２８号、特開平２−２７６８３０号、同４−２５９５１１号、同５−１６３３０１号、同９−９５５４４号、同１０−４５９５０号、同１０−９５８５４号、同１１−７１４６３号、同１１−３０２３８８号、同１１−３２２９４６号、同１１−３２２９４７号、同１１−３２３０１７号、特開２０００−５３７８４号、同２０００−２７３１８４、同２０００−２７３２３９号の各公報に記載がある。
セルロースエステルと溶媒との混合物を冷却する工程について、その冷却温度は特に限定されないが、−１００℃〜−１０℃が好ましく、−１００℃〜−３０℃がさらに好ましく、−１００℃〜−５０℃が特に好ましい。

前記以外に、Ｒｔｈが負の光学特性を有する偏光板保護膜は、高分子フィルムを膜の厚さ方向に延伸する方法や（例 特開２０００−１６２４３６号）、ビニルカルバゾール系高分子を塗布して乾燥させる方法（例 特開２００１−０９１７４６号公報）によっても形成できる。また、保護膜は、液晶材料を含んでいてもよく、例えば、Ｒｔｈが負の光学特性を有する液晶性化合物から形成された位相差層であってもよい。該位相差層としては、キラル構造単位を含んだコレステリックディスコチック液晶化合物や組成物を、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層、屈折率異方性が正の棒状液晶化合物や組成物を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層などを例示することができる（例えば、特開平６−３３１８２６号公報や特許第２８５３０６４号等参照）。棒状液晶化合物は低分子化合物であってもよく、高分子化合物であってもよい。さらに、一の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、Ｒｔｈが負の光学特性を示す保護膜を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体でＲｔｈが負の光学特性を満たすようにして、保護層を構成してもよい。用いる棒状液晶化合物としては、配向固定させる温度範囲で、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、リオトロピック液晶相状態をとるものが好適に用いられる。揺らぎの無い均一な垂直配向が得られるスメクチックＡ相、Ｂ相を示す液晶が好ましい。特にまた、添加剤の存在下において、適切な配向温度範囲で、上記液晶状態となる棒状液晶性化合物については、該添加剤と棒状液晶性化合物を含有する組成物を用いて層を形成するのも好ましい。

保護膜とその上に設けられる層（接着層、粘着層、パッシベーション層、配向膜あるいは位相差層、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、アンチグレア層）との接着を改善するため、フィルムに表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理ケン化処理（酸ケン化処理、アルカリケン化処理）を実施してもよく、特にグロー放電処理およびアルカリケン化処理が好ましい。表面処理に加えて、あるいは表面処理に代えて、下塗層（接着層）を設けることができる。下塗層については、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載があり、これらを適宜、使用することができる。また、保護膜や長尺の保護膜には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。セルロースアシレートフィルムに設ける機能性層については、公開技報２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に記載があり、これらを適宜、使用することができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
＜ＩＰＳモード液晶セル１の作製＞
一枚のガラス基板上に、図１に示す様に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中２及び３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。

＜第１位相差領域１〜第１位相差領域４の作製＞
厚さ８０μｍ、Ｒｅが１２０ｎｍのポリカーボネートフィルムの両面に、一軸延伸ポリエステルフィルム製の熱収縮性フィルムをその遅相軸が直交するようにアクリル系粘着層を介して接着し、これを１６０℃に加熱して熱収縮性フィルムを収縮させながら延伸装置を用いて、幅方向の長さをそれぞれ収縮前の９２％、８８％、９６％、及び９３％にした後、熱収縮性のフィルムを剥がして、それぞれ第１位相差領域１、第１位相差領域２、第１位相差領域３及び第１位相差領域４を得た。

自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、これらの光学特性を算出したところ、第１位相差領域１はＲｅが１６０ｎｍ、Ｒｔｈが−４０ｎｍで、Ｎｚが０．２５であり、第１位相差領域２はＲｅが１５０ｎｍ、Ｒｔｈが−６０ｎｍで、Ｎｚが０．１０であり、第１位相差領域３はＲｅが１４０ｎｍ、Ｒｔｈが−２１ｎｍで、Ｎｚが０．３５、第１位相差領域４はＲｅが１２０ｎｍ、Ｒｔｈが−２６ｎｍで、Ｎｚが０．２８であることが確認できた。

＜第２位相差領域１および２の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、下記の組成を有するセルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液の組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４８７質量部にレターデーション上昇剤溶液６質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。

得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、６０℃の温風で１分間乾燥し、フィルムをバンドから剥ぎ取った。次にフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、厚さ８０μｍのフィルムを作製した。このフィルムの光学特性は自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することにより求めたところ、Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈ＝８０ｎｍであった。このフィルムを第２位相差領域１とした。
さらに、ドープの吐出量を調整して、膜厚を６０μｍにした以外は、同様にしてフィルムを形成した。このフィルムの光学特性はＲｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝６７ｎｍであった。このフィルムを第２位相差領域２とした。

＜偏光板保護膜１、２、３の作製＞
（偏光板保護膜１）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部

別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１を調製した。
＜添加剤溶液Ｂ−１組成＞
メチレンクロライド ８０質量部
メタノール ２０質量部
下記光学的異方性低下剤 ４０質量部

セルロースアセテート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂ−１の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの偏光板保護膜１を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、光学特性を算出したところ、Ｒｅが１ｎｍ、Ｒｔｈが６ｎｍであることが確認できた。

（偏光板保護膜２）
市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ）を用いて、その表面のケン化処理を行い、このフィルム上に市販の垂直配向膜（ＪＡＬＳ−２０４Ｒ、日本合成ゴム（株）製）をメチルエチルケトンで１：１に希釈したのち、ワイヤーバーコーターで２．４ｍｌ／ｍ²塗布した。直ちに、１２０℃の温風で１２０秒乾燥した。

配向膜上に、下記の棒状液晶化合物１．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃２．３のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、偏光板保護膜２を製作した。

自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、偏光板保護膜２のＲｅの光入射角度依存性を測定したところ、Ｒｅが２ｎｍ、Ｒｔｈが−１５ｎｍであった。また、偏光板保護膜２の全体の厚みは８３μｍであった。

（偏光板保護膜３）
（セルロースアシレート溶液の調製）
置換度が２．９１のセルロースアセテートの粉体をセルロースアシレートとして用いた。セルロースアシレートの粘度平均重合度は２７０、６位のアセチル基置換度は０．９３、アセトン抽出分は７質量％、質量平均分子量／数平均分子量比は２．３、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１６０℃、含水率は０．２質量％、６質量％ジクロロメタン溶液中の粘度は３０５ｍＰａ・ｓ、残存酢酸量は０．１質量％以下、Ｃａ含有量は６５ｐｐｍ、Ｍｇ含有量は２６ｐｐｍ、鉄含有量は０．８ｐｐｍ、硫酸イオン含有量は１８ｐｐｍ、イエローインデックスは１．９、遊離酢酸量は４７ｐｐｍであった。粉体の平均粒子径は１．５ｍｍ、標準偏差は０．５ｍｍであった。

攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、ジクロロメタン（主溶媒）８０．０質量部、メタノール（第２溶媒）１０．０質量部、ブタノール（第３溶媒）５．０質量部、トリメチロールプロパントリアセテート（可塑剤）２．４質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（劣化防止剤）、２，４−ビス（オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン（紫外線吸収剤Ａ）０．２質量部、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（紫外線吸収剤Ｂ）０．２質量部、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（紫外線吸収剤Ｃ）０．２質量部、平均粒径２０ｎｍの二酸化ケイ素微粒子（モース硬度：約７）０．０５質量部、クエン酸エチルエステル（モノエステルとジエステルとの１：１混合物）０．０４質量部を投入した。なお、ジクロロメタン（主溶媒）、メタノール（第２溶媒）およびブタノール（第３溶媒）の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。

各成分を攪拌、分散しながら、セルロースアセテート粉体（フレーク）２０質量部を徐々に添加し、全体が２００ｋｇになるように仕込んだ。セルロースアセテート粉体を分散タンクに投入後、タンク内を１３００Ｐａに減圧した。攪拌は、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ２）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ２）で攪拌する攪拌軸を用いて、３０分間実施した。攪拌の開始温度は２５℃であり、冷却水を流しながら攪拌し、最終到達温度を３５℃とした。その後、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして、さらに１００分間攪拌し、セルロースアセテート粉体（フレーク）を膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。防爆のため、タンク内の酸素濃度は２ｖｏｌ％未満とした。ドープ中の水分量は、０．２質量％以下であることを確認した。

得られた不均一なゲル状物質を、軸中心部を３０℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却して−７５℃で３分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。冷却により得られた溶液は、スクリューポンプで送液中に３５℃に加温し、ステンレス製の容器に移送した。５０℃で２時間攪拌し均一溶液とした後、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過した。得られたセルロースエステル溶液は、送液パイプの加温加圧部で１１０℃、１ＭＰａに加温加圧し、常圧（約０．１Ｍｐａ）に放出することで有機溶媒を揮発させると共に冷却して、温度４０℃、セルロースアセテート濃度２４．０質量％の溶液を得た。溶液の粘度（４０℃）は１２０Ｐａ・ｓ、動的貯蔵弾性率（１５℃）は３８００Ｐａ、動的貯蔵弾性率（−５℃）は３．５万Ｐａ、動的貯蔵弾性率（−５０℃）は２４万Ｐａであった。また、会合体重合度は、２８０万〜３２０万であった。

（セルロースアシレートフィルムの作製）
濾過した５０℃のセルロースアシレート溶液を、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の温度は、−５℃に設定した。流延スピードは７５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターでクリップした。ピンテンターで保持されたセルロースアシレートフィルムは、乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４５℃で１０分乾燥（フィルム温度は約１４０℃）して、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルムを得た。
得られた試料は両端を３ｃｍ裁断し、さらに端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを実施し、ロール状に巻き取った。このようにして偏光板保護膜３を製作した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、偏光板保護膜３のＲｅの光入射角度依存性を測定したところ、Ｒｅが０．３ｎｍ、Ｒｔｈが−４３ｎｍであった。フィルム面状は目視により確認し、横段ムラやブツは認められなかった。

＜偏光板Ａの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜２をそのセルロースアセテートフィルム側が偏光膜がわになるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ａを作製した。

＜偏光板Ｂの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の偏光板保護膜１を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｂを作製した。

＜偏光板Ｃの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍ、厚み４０μｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｃを作製した。

＜偏光板Ｄの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両面に貼り付け偏光板Ｄを作製した。

＜偏光板Ｅの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の偏光板保護膜３を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｅを作製した。

［実施例１］
偏光板Ａの偏光板保護膜２側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域２の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板ＣをフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。測定はまず、暗室内に設置されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせない状態で液晶セル１を置き、液晶セルのラビング方向を基準として左方向に４５度の方位で、且つ液晶セル法線方向から方向６０°の方向に１ｍ離れたところに設置された輝度計で輝度１を測定した。
次いで、上記と同じシャーカステン上に実施例１の液晶表示パネルを同様に配置して、暗表示の状態で同様に輝度２を測定し、これを輝度１に対する１００分率で表したものを漏れ光とした。測定した漏れ光は０．０８％であった。

［実施例２］
偏光板Ｂの偏光板保護膜１側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域２を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域２の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域２の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ上記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．０８％であった。

［実施例３］
偏光板Ｄにアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域３を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域３の遅相軸が平行になるように貼り付けた。この構成では偏光板Ｄの保護膜であるフジタックＴＤ８０ＵＦ、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍが第２位相差領域に相当する。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域３の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第１位相差領域３面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板ＣをフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｄとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．０９％であった。

［実施例４］
偏光板Ｄにアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が平行になるように貼り付けた。この構成では偏光板Ｄの保護膜であるフジタックＴＤ８０ＵＦ、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍが第２位相差領域に相当する。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第１位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｄとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．０４％であった。

［実施例５］
偏光板Ｄにアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が平行になるように貼り付けた。この構成では偏光板Ｄの保護膜であるフジタックＴＤ８０ＵＦ、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍが第２位相差領域に相当する。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第１位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に液晶セル側の保護膜のＲｔｈが４８ｎｍの偏光板Ｄを、他方の偏光板Ｄとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．１９％であった。
即ち、液晶セル側に配置される保護膜のＲｔｈが４０ｎｍ以下である偏光板Ｂ（液晶セル側保護膜のＲｔｈは６ｎｍ）を用いた実施例４のほうが、液晶セル側の保護膜のＲｔｈが４０ｎｍを超える偏光板Ｄ（液晶セル側保護膜のＲｔｈは４８ｎｍ）を用いた実施例５と比較して、漏れ光がより少ないことがわかった。

［実施例６］
偏光板Ｅの偏光板保護膜３側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域４を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域３の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域２をアクリル系接着剤を用いて貼合した。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域４の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域２面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ上記偏光板Ｅとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．０２％であった。

［比較例１］
前記作製したＩＰＳモード液晶セル１の両側に市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を、クロスニコルの配置で貼り付け、液晶表示装置を作製した。光学補償フィルムは用いなかった。上記液晶表示装置では、実施例１と同様に、上側の偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように偏光板を貼り付けた。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．５５％であった。

［比較例２］
偏光板Ｂの偏光板保護膜１側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域２を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域２の遅相軸が平行になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。

これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の一方に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域２の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光は０．９９％であった。

本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す概略図である。 本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の液晶表示装置の他の例を示す概略図である。

符号の説明

１ 液晶素子画素領域
２ 画素電極
３ 表示電極
４ ラビング方向
５ａ、５ｂ 黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ 白表示時の液晶化合物のダイレクター
７ａ、７ｂ、１９ａ、１９ｂ 偏光膜用保護膜
８、２０ 偏光膜
９、２１ 偏光膜の偏光透過軸
１０ 第１位相差領域
１１ 第１位相差領域の遅相軸
１２ 第２位相差領域
１３、１７ セル基板
１４、１８ セル基板ラビング方向
１５ 液晶層
１６ 液晶層の遅相軸方向

Claims (6)

1. 少なくとも、第１偏光膜と、第１位相差領域と、第２位相差領域と、液晶層および該液晶層を挟持する一対の基板からなる液晶セルと、第２偏光膜とがこの順序で配置され、黒表示時に前記液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、
   前記第１位相差領域の面内レターデーション（Ｒｅ）が７０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、前記面内レターデーション（Ｒｅ）と、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義される第１位相差領域のＮｚ値が０を超え０．５未満であり、
   前記第２位相差領域の面内のレターデーションが５０ｎｍ以下であり、且つ光学軸が前記第２位相差領域の面内に含まれておらず、前記第２位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、
   前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に直交で、且つ前記第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行である液晶表示装置。
2. 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−１００ｎｍである請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 少なくとも、第１偏光膜と、第２位相差領域と、第１位相差領域と、液晶層および該液晶層を挟持する一対の基板からなる液晶セルと、第２偏光膜とがこの順序で配置され、黒表示時に前記液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、
   前記第１位相差領域の面内レターデーション（Ｒｅ）が８０ｎｍ〜２３０ｎｍであり、前記面内レターデーション（Ｒｅ）と、前記第１位相差領域の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を用いてＮｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５で定義される第１位相差領域のＮｚ値が０を超え０．４未満であり、
   前記第２位相差領域の面内のレターデーションが５０ｎｍ以下であり、且つ光学軸が前記第２位相差領域の面内に含まれておらず、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションが２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、
   前記第１位相差領域の遅相軸が、第１偏光膜の透過軸に平行で、且つ前記第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、
   第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍである液晶表示装置。
4. 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが２０ｎｍ〜−２０ｎｍである請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜の厚みが６０μｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
6. 第１偏光膜及び第２偏光膜の少なくとも一方を挟んで配置された一対の保護膜を有し、該一対の保護膜のうち少なくとも液晶層に近い側の保護膜がセルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムを含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。

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