JP4615226B2 - 基板用複合材及びそれを用いた回路基板 - Google Patents
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Description
これらに使用されるフレキシブル基板・高密度実装用多層基板・高周波基板等(以下これらを総称してプリント配線板ということもある)を製作する基板用複合材は、導体(銅箔)とそれを支持する絶縁基板から構成されており、絶縁基板は、導体間の絶縁を確保し、部品を支持する等の役割を果たすため、所定の強度をもたせている。
また、絶縁基板は、信号速度が速くなると、絶縁基板の材質が特性インピーダンスや信号伝搬速度等に重要に関与してくるため、その材料の誘電率、誘電体損失等の特性の向上が要求される。これらを満足させるために種々な材料が提案されている。例えば信号の高速伝搬のためには、誘電率が小さく、誘電体損失も小さい絶縁基板として、片面板には、フェノール樹脂材が多く、めっきスルーホールには、エポキシ樹脂材が用いられている。また、耐熱性を必要とする絶縁基板では耐熱性エポキシ樹脂、ポリイミドなどが使われている。この他、寸法安定性のよい材料、反りねじれの少ない材料、熱収縮の少ない材料などが開発されている。
これらの絶縁基板に貼り合わされ導体として使用される銅箔は主に電解銅箔である。電解銅箔は、通常、図1に示すような電解製箔装置により製箔された銅箔に、図2に示すような表面処理装置により密着性向上のための粗化処理や防錆処理等を施して製造される。電解製箔装置は、回転するドラム状のカソード2(表面はSUS又はチタン製)と該カソードに対して同心円状に配置されたアノード1(鉛又は貴金属酸化物被覆チタン電極)からなる装置に、電解液3を流通させつつ両極間に電流を流して、該カソード表面に所定の厚さに銅を析出させ、その後該カソード表面から銅を箔状に剥ぎ取る。この段階の銅箔が未処理銅箔4であり、該未処理銅箔の電解液と接していた面がマット面、回転するドラム状のカソード2と接していた面が光沢面(シャイニー面)である。
そこで未処理銅箔の表面を粗くし、粗化粒子付着量を減らすことでピール強度を上げることも可能ではあるが、高周波特性・ファインパターンを作成する上では不適当である。
また、液晶ポリマーの接着性を改善するために、プラズマ(特許文献2参照)、UV処理(特許文献3参照)などの表面処理を施す方法も提案されているが、これらの方法を用いても、表面粗さの低い銅箔には十分な接着性が得られていない。
そこで、高周波特性が良いこと・ファインパターンが作製できること・ピール強度を上げることを可能にする銅箔の開発と、この銅箔を使用した耐熱性、フレキシブル性に富む基板用複合材の出現が要求されている。
更に、前記本発明表面処理銅箔は、前記粗化粒子から突起物が形成されており、該突起物は、高さが1μm〜5μmの突起物が観察断面25μmの範囲に6〜35個の個数で、略均等に分布している銅箔であることが好ましく、前記表面処理銅箔の突起物における各突起物の最大幅は、0.01μm以上、25μm範囲に存在する突起物の個数(n)で25μmを割った長さの2倍以下であることが好ましい。
更に、本発明は、前記表面処理銅箔の突起物において各突起物の最大幅は、0.01μm以上、25μm範囲に存在する突起物の個数(n)で25μmを割った長さの2倍以下であることが好ましい。
更に、本発明は、好適には、前記表面処理銅箔の粗化処理前の銅箔として電解銅箔を使用すると良い。
更に、本発明は、前記表面処理銅箔に使用する未処理銅箔の少なくとも表面処理を行う面の粗さはRzが、2μm以下である銅箔が好ましい。
更に、本発明は、前記表面処理銅箔の粗化処理面の表面粗さRzが2μm以下のマット面とすることが好ましい。
更に、本発明は、前記絶縁基板を熱可塑性液晶ポリマーを50%以上含む樹脂からなるフィルムとすることが好ましい。
更に、本発明は、前記基板用複合材により作成したことを特徴とする回路基板である。
未処理銅箔の表面の表面粗化処理は、未処理銅箔の表面に粗化粒子を付着させ、その表面粗さがRz:2.5〜4.0μmの粗化面とする。Rzが2.5μm未満では、ピール強度が低いためその目的を果たす表面処理銅箔としては満足でなく、また、Rzが4.0μmより大きいと、高周波特性が低下するうえにファインパターン化に不向きとなるためである。
Ni: 0.01〜0.5mg/dm2
Zn: 0.01〜0.5mg/dm2
Cr: 0.01〜0.3mg/dm2
の範囲内の防錆処理を施した後、明度計(スガ試験機株式会社製、機種名:SMカラーコンピューター 型番:SM−4)を使用して明度を測定した。
以上のような表面粗さ(Rz)および明度値を兼ね備えた本発明の表面処理銅箔は、液晶ポリマーフィルムと積層・複合化されて、接着性に難点のある液晶ポリマーフィルムの欠点を補い、後記する実施例・比較例から明らかなように、優れたピール強度およびファインパターン特性を有する基板用複合材を提供することができる。
EM観察を行い観察写真にて、観察断面25μmの長さで上記定義する突起物の数が何個あるかを数える方法が挙げられる。本発明は、この方法を用いて測定した数を実施例の表に記載した。また、断面観察の概略図を図3・4・5に記載した。
「突起物の頂点と銅箔表面の間の高さが、1.0μm〜5.0μmである突起物の個数をn(個)とし、突起物を断面観察した際の観察幅を25(μm)とした時に、25/n(μm)の幅の領域に、少なくとも該突起物の1つの一部分がその領域に存在している」ことをいう。
突起物間の平均溝深さは、溝の深さが0.3μm以上の突起物n個に対して、各突起物の両サイドの溝深さを測定し、その時の値を A1(μm) B1(μm)・・・・・・・An(μm) Bn(μm)とした時、次式により求めた値である。
((A1+B1)+・・・・・・+(An+Bn))/2/n
図4は突起の最大幅が0.01μm以上、25μmの範囲内に存在する突起物の個数で25μmを割った長さの2倍以上の幅の突起物が一部に存在する。図5は突起物が均等に分布していない断面を示している。
このように、図3に示す断面形状の表面処理銅箔は液晶ポリマーフィルムとの密着性が良く、ファインパターンの回路構成が可能である。図4に示す断面形状の表面処理銅箔は幅の広い突起物が一部に存在し、部分的に液晶ポリマーフィルムとの密着性が良くない部分が存在するためファインパターン回路では支障がでることもあるが、他の一般的な用途には支障とならない程度である。図5に示すように突起物が均等に分布されていない場合には液晶ポリマーフィルムとの密着性に支障が生じ、ファインパターンの回路構成ができない恐れが生じる。
Cu粒子又はCuとMoの合金粒子で所望の突起物は得られるが、Cu粒子又はCuとMoの合金粒子にNi、Co、Fe、Cr、V及びWの群から選ばれる少なくとも1種の元素を含む2種類以上の合金粗化粒子で形成された突起物は更に均一性のある突起物を形成させることができるため効果的である。これらの突起物を形成する粗化粒子は、化学結合を液晶ポリマーフィルム(絶縁基板)と行うため、ピール強度を増大させると考えられる。絶縁基板を構成する樹脂の種類にもよるが、ピール強度を化学結合で増大させる粒子としてCu−Mo合金、Cu−Ni合金、Cu−Co合金、Cu−Fe合金、Cu−Cr合金、Cu−Mo−Ni合金、Cu−Mo−Cr合金、Cu−Mo−Co合金、Cu−Mo−Fe合金等を挙げることができる。
更に、突起物を設けていない方の表面にも耐塩酸性・耐熱性・導電性を向上させることを目的にNi、Ni合金、Zn、Zn合金、Agの少なくとも1種の金属めっき層を付着させると良い。これらの目的を果たすためには、付着金属量として0.05mg/dm2以上、10mg/dm2以下であることが望ましい。
特に液晶ポリマーフィルム等との複合化においてNi金属またはNi合金は、ピール強度向上に効果がある。
上記構成からなるめっき層の上にCrおよび/またはクロメート被膜を形成させ防錆処理を行ない、または、必要に応じシランカップリング処理または防錆処理+シランカップリングを施す。
本実施例においては、銅箔、粗化処理用めっき液、絶縁基板用フィルムとして、以下に記載したものを用いた。
(i)原箔1
厚さ:12μmで、マット面粗度:Rz=1.26μm、光沢面粗度:Rz=1.82μmの未処理電解銅箔、及び未処理圧延銅箔を用意した。
(ii)原箔2
厚さ:12μmで、マット面粗度:Rz=1.52μm、光沢面粗度:Rz=1.46μmの未処理電解銅箔を用意した。
(iii)原箔3
厚さ:12μmで、マット面粗度:Rz=1.86μm、光沢面粗度:Rz=1.2μmの未処理電解銅箔を用意した。
(i)電気めっきA
・めっき浴1
硫酸銅(Cu金属として) 5〜10g/dm3
硫 酸 30〜120g/dm3
モリブデン酸アンモニウム(Mo金属として) 0.1〜5.0g/dm3
電流密度 10〜60A/dm2
通電時間 1秒〜2分
浴 温 20〜60℃
・めっき浴2
硫酸銅(Cu金属として) 20〜70g/dm3
硫 酸 30〜120g/dm3、
電流密度 5〜60A/dm2
通電時間 1秒〜2分
浴温 20℃〜65℃
・めっき浴1
硫酸銅(Cu金属として) 1〜50g/dm3
硫酸ニッケル(Ni金属として) 2〜25g/dm3
メタパナジン酸アンモニウム(V金属として) 0.1〜15g/dm3
pH 1.0〜4.5
電流密度 1〜60A/dm2
通電時間 1秒〜2分
浴 温 20℃〜60℃
・めっき浴2
硫酸銅(Cu金属として) 10〜70g/dm3
硫 酸 30〜120g/dm3
電流密度 5〜60A/dm2、
通電時間 1秒〜2分
浴 温 20℃〜65℃
・めっき浴1
硫酸銅(Cu金属として) 1〜50/dm3、
硫酸コバルト(Co金属として) 1〜50g/dm3
モリブデン酸アンモニウム(Mo金属として) 0.1〜10g/dm3
pH 0.5〜4.0
電流密度 1〜60A/dm2
通電時間 1秒〜2分
浴 温 20℃〜60℃
・めっき浴2
硫酸銅(Cu金属として) 10〜70g/dm3
硫 酸 30〜120g/dm3
電流密度 5〜60A/dm2
通電時間 1秒〜2分
浴 温 20℃〜65℃
・めっき浴3
硫酸銅(Cu金属として) 20〜70g/dm3
硫 酸 30〜120g/dm3
電流密度 3A/dm2
通電時間 2分以上(表面粗さにおいて時間を変更)
浴 温 15℃
(i)液晶ポリマーフィルム(絶縁基板)1(以下「フィルム1」とする)
ジャパンゴアテックス(株)製のI型液晶ポリマーフィルム、BIAC BA050F−NT
を用いた。
(ii) 液晶ポリマーフィルム2(絶縁基板)(以下「フィルム2」とする)
ジャパンゴアテックス(株)製のII型液晶ポリマーフィルム、BIAC BC050F−NT
を用いた。
このようにして得られた表面粗化処理した銅箔の表面の粗さ等の測定結果を、表面処理の選択条件とともに表1に示す。
即ち、上記のようにして得た表面処理銅箔と前記フィルム1又は2のいずれかとを積層し、多段式真空プレス機(北川製作所製ホットアンドコールドプレスVH3−1377)を用いて、前記フィルム1の場合には335℃で4MPaの条件で、前記フィルム2の場合には310℃で4Mpaの条件で、5分間保持した後冷却してラミネート処理を行い基板用複合材とした。室温からの昇温は、7℃/分の速度で行った。
即ち、作成した銅箔をFR4樹脂に貼り付け、図6に断面概略図を示すように銅箔にライン幅:L、スペース幅:Sにてレジストした銅箔を、塩化鉄浴にてエッチングし、ライン幅Lのトップの幅がレジスト幅と同じになるエッチング時間を決定し、各ライン幅L及び各スペース幅S(基板1枚に形成するラインを10本とする)でレジストした基板を各n=10作成し、塩化鉄浴で上記決定した時間、エッチングを行い、各基板において、ライン間にブリッジが発生していないこと、または根残りがないこと、またはラインのトップの幅がレジストと同じになっていることを観察し、n=10作成した各基板にそれらが観察されなかったものの中で最小のLとSの値を求めた。
以上の各実施例、各比較例の条件で行なったピール強度およびファインパターン特性評価の結果を表1に示す。
物を銅箔表面に形成させることによって、絶縁基板に液晶ポリマーフィルムを用いながら
良好なピール強度有し、ファインな配線パターンを作成することができ、かつ高周波特性に優れた基板用複合材及びこれを用いた回路基板等へ利用することができ、種々の電子回路部品産業の分野での利用が可能である。
2 電解製箔装置のカソード
3 電解製箔装置の電解液
4 未処理銅箔
5 表面処理装置の電解液
6 表面処理装置の電解液
7 表面処理装置のアノード
8 電解銅箔(表面処理銅箔)
Claims (6)
- 少なくとも銅箔の片面に粗化粒子を付着して、その表面粗さRz:2.5〜4.0μmであり、明度値:25以下である粗化処理面とし、かつ前記粗化粒子から突起物が形成されており、該突起物は、その高さが1μm〜5μmの突起物が観察断面25μmの範囲に6〜35個の個数で、略均等に分布しており、各突起物の最大幅は、0.01μm以上であって、25μm範囲に存在する突起物の個数で25μmを割った長さの2倍以下であり、突起物間の平均溝深さが0.5μm以上である表面処理銅箔と、50%以上が熱可塑性液晶ポリマーからなる絶縁基板とが加熱圧着によって積層されてなることを特徴とする基板用複合材。
- 前記表面処理銅箔の粗化処理前の銅箔が電解銅箔であることを特徴とする請求項1に記載の基板用複合材。
- 前記表面処理銅箔に使用する未処理銅箔の少なくとも表面処理を行う面の粗さRzが2.0μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板用複合材。
- 前記未処理銅箔の粗化処理を施す方の表面が、表面粗さ2.0μm以下のマット面であることを特徴とする請求項3に記載の基板用複合材。
- 前記絶縁基板が、熱可塑性液晶ポリマーを50%以上含むフィルムより構成されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の基板用複合材。
- 請求項1乃至5の何れかに記載の基板用複合材を用いて作成したことを特徴とする回路基板。
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