JP4611914B2 - 圧縮機翼及びその製造方法、並びに、火力発電用ガスタービン - Google Patents
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Description
(1) 圧縮機翼表面にCrめっき、Niめっきなどの皮膜を施工した際、めっき膜に存在するピンホールを通って圧縮機翼の基材面に浸入した水分および海塩粒子、SOx、NOxなどの環境汚染ガスによって、基材が優先的に腐食されて孔食が発生し、圧縮機翼の折損を誘発する。
(2) 現行のAlを含むクロム酸化物の皮膜では、無処理の圧縮機翼に比較すると耐食性は向上するものの、吸入空気中に含まれている微細な粉じん類の付着は依然として防げず、しばしば圧縮機の水による洗浄を余儀なくされている。
(3) 無処理の圧縮機翼をはじめ上記(1)〜(2)などの既存技術によって施工された表面処理皮膜の形成翼においても、ガスタービンの運転に伴って圧縮機翼表面に粉じん類が堆積して、圧縮効率が低下してくる。この対策として、ガスタービンの運転中に硬質の木の実あるいは殻の粉砕片を吸入空気中に投入し、圧縮機翼と接触させることによって除去する方法があるが、粉砕片による圧縮機翼の損傷とともに、圧縮空気とともにタービン部へ搬送された粉砕片が冷却用空気孔を閉塞してタービン翼などの高温部材を過熱損傷させる可能性がある。
(4) 吸入空気中に含まれている微細な粉じんを除去するために設置されている多段式の空気フィルターは、それなりに効果は認められるものの、設備費が大となるほか、あまり完全な空気フィルターの設置では吸入空気の抵抗が大きくなるためその効果には一定の限度がある。
(5) 圧縮機翼表面で発生する腐食、粉じんによるエロージョン損傷の発生は、圧縮機翼表面を粗面化したり、圧縮機翼形状の変化を伴うことが多くなったりするとともに、圧縮効率の低下の原因となっている。
(6) 上記(1)〜(5)が原因となる障害の早期発見、及び、その保守点検を行うために実施する作業時間の短縮化が要望されている。
図1は、本発明の第1実施形態に係る圧縮機翼を示す断面図である。図2は、図1の圧縮機翼の表面付近の一部拡大図である。
アモルファス状膜13を形成するための基材12表面においては、機械的、化学的および電気化学的方法によって、算術平均粗さRaが0.5μm以下、十点平均粗さRzが2.0μm以下の鏡面状態となるように仕上げる。このような表面仕上げを行わないと、基材13表面は粗いので、突起物などが存在する場合がある。従って、基材12表面に形成するアモルファス状膜13の厚さが10μmと比較的薄い場合、突起物のある部分のアモルファス状膜13が早期に破壊されたり、腐食発生の起点となったりすることがある。
次に、上述の仕上げ工程を経た基材12表面にアモルファス状膜を形成する工程について説明する。図3は、アモルファス状膜を形成するための装置の概略構成図である。この装置は、接地された反応容器2と、この反応容器2内部空間とそれぞれバルブ7a、バルブ7bを介して接続されている成膜用の有機系ガス導入装置(図示せず)及び反応容器を真空引きする真空装置(図示せず)と、反応容器2内の所定の位置に配設される圧縮機翼1の基材12に接続する導体3に導入端子9を介して高電圧パルスを印加するための高電圧パルス発生電源4と、高電圧導入部9を介して導体3に高周波を印加し、圧縮機翼1の基材12周囲にプラズマを発生させるプラズマ発生用電源5と、パルスおよび高周波の印加を一つの導体3で共用するために、高電圧パルス発生電源4及びプラズマ発生用電源5との間に設けられるとともに、高電圧導入部9と電気的に接続されている重乗装置6と、反応容器2及び地表と電気的に接続されているアース線8とを備えている。
CH4、CH2CH2、C2H2、CH3CH2CH3、CH3CH2CH2CH3
(2)常温で液相状態
C6H5CH3、C6H5CH2CH、C6H4(CH3)2、CH3(CH2)4CH3、C6H12、C6H5Cl
(3)有機Si化合物(液相)
(C2H5O)4Si、(CH3O)4Si、(CH3)4Si、[(CH)3Si]2O
常温で気相状態のものは、そのままの状態で反応容器2に導入できるが、液相状態の化合物はこれを加熱してガス化させ、この蒸気を反応容器2中へ供給する。有機Si化合物を用いてアモルファス状膜を形成すると、この膜中にSiが混入することがあるが、Siは炭素と強く結合しているので本実施形態において使用するための妨げとはならない。
(2)ガスから変化したイオンおよびラジカルは、負の電圧が印加された翼面に衝撃的に衝突する。
(3)衝突時の衝撃によって結合エネルギーの小さいC−H間が切断されHがスパッタされる。
(4)翼表面に水素を含んだアモルファス状膜が形成される。
次に、本発明の第2実施形態に係る圧縮機翼について説明する。なお、第1実施形態の符合11、13の部位と、本実施形態の符合21、23の部位とは順に対応しており、その説明を省略することがある。図は、本発明の第3実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
(1)基材22表面部にイオン注入を重点的に行う場合:10〜40kV
(2)イオン注入と金属薄膜形成とを行う場合:5〜20kV
(3)基材22上に金属薄膜形成を行う場合:数百V〜数kV
(4)基材22上にスパッタリングなどで金属薄膜形成を重点的に行う場合:数百V〜数kV
したがって基材22表面部又は表面上にCr、Si、Ta、Nb、Tiなどの炭素と化学的親和力の強い金属イオン注入や金属の薄膜を形成した後、その上にアモルファス状膜23を積層させることが可能である。
次に、本発明の第3実施形態に係る圧縮機翼について説明する。なお、第1実施形態の符合11〜13の部位と、本実施形態の符合31〜33の部位とは順に対応しており、その説明を省略することがある。図5は、本発明の第3実施形態に係る圧縮機翼の表面付近の一部拡大断面図である。
この実施例では、上記第1実施形態と同様の構成で、表面粗さの異なる各炭素鋼基材の表面に、厚さを0.05μmから70μmの範囲に制御したアモルファス状膜をコーティングした試験片を作成し、JISZ2371規定の塩水噴霧試験方法を連続96時間実施して、各試験片の外観を目視観察して赤錆の発生状況を調査した。なお、炭素鋼基材の寸法は幅25mm×長さ60mm×厚さ1.0μmであり、Raが1μm〜10μmの表面粗さのものは砥粒の大きさを変えたエメリー紙による研磨によって調製し、Raが0.3μm以下の表面粗さのものは、#1000エメリー紙による研磨後電解研磨によって仕上げた。またRaが10μm以上の表面粗さの炭素鋼基材は、Al2O3粒子を用いたブラスト処理によって調製した。下記表1は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
実施例1と同じ試験片をそれぞれ用いて、中央部を90°に曲げたあとJISZ2371規定の塩水噴霧試験方法によって連続96時間の試験をおこなった。試験後の各試験片の外観、特に曲げ部における赤錆の発生の有無について調査した。下記表2は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
この実施例では、第2実施形態と同様の構成で、基材として、実施例1で使用した炭素鋼基材と同一寸法のSS400鋼板(Ra=0.12μm、Rz=0.88μm)を用い、その片面に対して高周波プラズマCVD法により各種の元素を注入した後、その表面にアモルファス状膜を15μmの棒鋼を支点にして90°に曲げた状態でアモルファス状膜の表面を拡大鏡で観察記録した。その後、さらにこの試験片を180°に曲げ同じ位置を拡大鏡で観察記録し、SS400鋼板の表面部への注入層形成によるアモルファス状膜の密着性向上の有無を調査した。なお、この実施例の注入層に注入された元素は、C、Cと化学的親和力の高いN、Ti、Nb、Ta、Cr、Al、Si、の9種類で注入濃度は1×1012〜1×1014イオン濃度である。なお、比較例としてCとの化学的親和力の小さいCu、Ni、Snを同濃度の注入処理を施した。また、それぞれの注入層の上に形成したアモルファス状膜中の水素量は12%、残りは炭素の主要組織を有するものである。下記表3は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
この実施例では、炭素鋼、SUS410鋼(寸法:幅50mm×長さ100mm×厚さ3.2mm)の試験片の表面にアモルファス状膜を15μmの厚さで形成した後、このアモルファス状膜表面に対し、高さ100mmの距離から60メッシュのAl2O3粉末を含む0.5MPaの空気を30°の角度で吹き付けアモルファス状膜の耐エロージョン性を調査した。図6は、本実施例に用いたエロージョン装置の概略構成図である。このエロージョン装置の使用方法は以下の通りである。試験片49を試験片ホルダー41に固定した後、この直上に設置したノズル42から60メッシュのAl2O3粉末を含む5kg・cm−2気圧の圧縮空気を試験片の表面にAl2O3種として500gを吹き付け、試験後のアモルファス状膜表面を目視(拡大鏡観察を含む)およびエロージョン部の触針式表面粗さ計によってエロージョンによる表面形態の変化を測定することによって侵食深さを推定した。なお図6における43は空気式の圧縮機、44は水分除去機、45は圧力調整機、46は空気流量調製機、47はAl2O3粉末の供給用ホッパー、48はAl2O3粉末を搬送するための空気孔である。この実施例では比較用の試験片として、無処理のSS400、SUS410とともに硬度の高いアモルファス状膜を用いた。下記表4は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
この実施例では、上記第3実施形態と同構成で、基材として、SS400鋼(寸法:幅10mm×長さ50mm×厚さ1.5mm)の試験片を用い、その表面に電気めっき法、CVD法およびPVD法によって各種の金属の薄膜をアンダーコートとして施工した後、その表面に本発明にかかるアモルファス状膜を15μm厚で形成した後、この試験片を実施例3と同じように180°の曲げ試験を行って、モルファス状膜の密着性について拡大鏡を使って調査した。アンダーコートの形成法及び金属薄膜の種類は下記の通りである。
電気めっき法 :Cr、Cu−Ni
CVD法 :Cr、Al、Si
PVD法 :Ti、W、Nb、Ta、Cr、Al
下記表5は以上の内容及び試験結果を要約したものである。
2 反応容器
3 導体
4 高電圧パルス発生源
5 プラズマ発生用電源
6 重乗装置
7a、7b バルブ
8 アース線
9 導入端子
12、22、32 基材
11、21、31 (圧縮機翼の表面付近の)一部拡大部分
13、23、33 アモルファス状膜
34 アンダーコート(下塗り膜)
41 試験片ホルダー
42 ノズル
43 圧縮機
44 水分除去機
45 圧力調整機
46 空気流量調製機
47 供給用ホッパー
48 空気孔
49 試験片
Claims (7)
- 炭素およびクロムを含む合金鋼である基材の表面、または、ニッケルおよびクロムを含むステンレス鋼である基材の表面に、直接または下塗り膜を介して、炭素と水素とを主成分とする1層の親油性のアモルファス状膜を被覆し、前記アモルファス状膜の厚さが1μm〜50μmの範囲にあり、前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さRaが0.5μm以下、且つ、十点平均粗さRzが2.0μm以下であり、外気温の空気を外部から吸入し加圧・圧縮空気の温度が300℃〜600℃となる圧縮機に用いられることを特徴とする圧縮機翼。
- 前記基材の表面の算術平均粗さRaが0.5μm以下、十点平均粗さRzが2.0μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の圧縮機翼。
- 前記親油性のアモルファス状膜の厚さが10μm〜50μmの範囲にあるとともに、前記基材の表面の算術平均粗さRaが1μm〜3μmであることを特徴とする請求項1に記載の圧縮機翼。
- 前記親油性のアモルファス状膜の厚さが25μm〜50μmの範囲にあるとともに、前記基材の表面の算術平均粗さRaが1μm〜15μmであることを特徴とする請求項1に記載の圧縮機翼。
- 炭素およびクロムを含む合金鋼である基材の表面、または、ニッケルおよびクロムを含むステンレス鋼である基材の表面の算術平均粗さRaが0.5μm以下、十点平均粗さRzが2.0μm以下となるように加工する基材表面加工工程と、
前記基材上に、炭素と水素とを主成分とする1層の親油性のアモルファス状膜を直接または下塗り膜を介して被覆形成するとともに、前記アモルファス状膜の表面を算術平均粗さRaが0.5μm以下、且つ、十点平均粗さRzが2.0μm以下となるように、且つ、前記アモルファス状膜の厚さが1μm〜50μmの範囲となるように被膜形成するアモルファス状膜被覆工程と、を有する圧縮機翼の製造方法であって、
外気温の空気を外部から吸入し加圧・圧縮空気の温度が300℃〜600℃となる圧縮機に用いられることを特徴とする圧縮機翼の製造方法。 - 炭素およびクロムを含む合金鋼である基材の表面、または、ニッケルおよびクロムを含むステンレス鋼である基材の表面の算術平均粗さRaが1μm〜3μmとなるように機械的研磨のみにより加工する基材表面加工工程と、
前記基材上に、炭素と水素とを主成分とする1層の親油性のアモルファス状膜を直接または下塗り膜を介して被覆形成するとともに、前記アモルファス状膜の表面を算術平均粗さRaが0.5μm以下、且つ、十点平均粗さRzが2.0μm以下となるように、且つ、前記アモルファス状膜の厚さが10μm〜50μmの範囲となるように被覆形成するアモルファス状膜被覆工程と、を有する圧縮機翼の製造方法であって、
外気温の空気を外部から吸入し加圧・圧縮空気の温度が300℃〜600℃となる圧縮機に用いられることを特徴とする圧縮機翼の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧縮機翼を備えた圧縮機を有していることを特徴とする火力発電用ガスタービン。
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