JP4594772B2 - 検査装置 - Google Patents

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Description

本発明は、検査装置に関し、特に、半導体ウェハの外観検査を行うための検査装置に関する。
半導体ウェハを外観検査する方法として、本来同一である2つの二次元画像を光学的な手段により撮像し、得られた2枚の検出画像を比較することによって、それらの検出画像中の異なる部分を欠陥として検出する方法が一般的に採用されている。このように、従来において、一般的に、比較画像間の差画像を演算し、差の値の大きな部分を欠陥として検出している。
上記のような外観検査において、画像の明るさや歪などの影響を受けずに、パターンの欠陥を検出する画像処理を行うために、比較対象となる2枚の検出画像に含まれる本来同一であるべきパターンの濃淡値を補正し欠陥のない部分に濃淡差があっても該濃淡差を正常部と認識できる程度に小さくする濃淡補正を行う技術が知られている(特許文献1参照)。
また、第1の被検査パターンを検出してこの第1の被検査パターンの第1の画像を得、この第1の画像を記憶し、第2の被検査パターンを検出してこの第2の被検査パターンの第2の画像を得、記憶した第1の画像と第2の画像との明るさがほぼ同一になるように少なくとも一方の階調を変換し、この明るさを合わせた第1の画像と第2の画像とを比較することによりパターンを検査する技術も知られている(特許文献2参照)。
上記のように、画像の濃淡や明るさを合わせることにより、誤検出を防ぐことができる。しかし、被検査物を検査する場合や、検査者が運用情報や検査性能のチェックのために検査画像群を使用する場合は、単に2つの画像の明るさを合わせるだけでなく、2つの画像を適切な明るさとする必要があり、このように、2つの画像を適切な明るさとすることによって最適な検査が可能になる。
特開平10-253544号公報 特開平11-304718号公報
本発明は、参照画像と比較して被検査画像内の欠陥の状態を検査する検査装置において、参照画像と被検査画像の輝度レベルを両者が適切となるように調節することによって、正確な検査を行うことが可能な検査装置を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の一局面に係る検査装置は、第1の画像の画像情報を用いて前記第1の画像の輝度を所望の値に調節するための輝度調節値を算出する手段と、算出された前記輝度調節値を記憶する記憶手段と、第1の画像と異なる第2の画像に対応する画像情報を有する第1の画像を探索する手段と、検索された第1の画像に対応する輝度調節値を前記記憶手段から読み出す手段と、前記記憶手段から読み出された輝度調節値により前記第2の画像の輝度を調節する手段とを具備することを特徴とする。
参照画像と被検査画像の輝度レベルを両者が適切となるように調節することによって、正確な検査を行うことが可能な検査装置を提供することが可能になる。
図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明が適用される検査装置の概略構成を示す図である。なお、図1に示す検査装置は、光学機器(検査用顕微鏡)に適用されるものである。
図1に係る検査装置は、検査用顕微鏡1と、演算処理装置2とを備えている。
検査用顕微鏡1は、落射照明用投光管11によって、対物レンズ12を介して観察用の半導体ウェハ3(以下、単に「ウェハ」と称する)を照射する。その反射光は接眼レンズ16で観察され、また、CCD等の撮像素子17によって撮像される。撮像素子17で撮像された画像信号は演算処理装置2に出力される。演算処理装置2は、撮像素子17で撮像された画像を演算処理し、その演算結果に基づいて輝度設定などを実行する。
図1に係る検査装置の概略動作を説明する。
落射照明用透光管11の光源111からの照射光は、結像レンズ112及びNDフィルタ113を介して光路分割素子である偏光ビームスプリッタ13で対物レンズ12の方向に反射されて、対物レンズ12を介してウェハ3に到達する。
ウェハ3に入射した光は、ウェハ3で反射されて再び対物レンズ12を介して、偏光ビームスプリッタ13を通過し、リレーレンズ14、及びプリズム15を介して接眼レンズ16で観察者によって目視により観察される。また、観察光路Oの延長上には、観察画像取得用の撮像素子17が配置されており、偏光ビームスプリッタ13を通過した光はプリズム15を通過又はプリズム15を観察光路Oから外すことによって、撮像素子17により撮像される。
撮像素子17からの画像出力は、演算処理装置2の画像演算部21に入力する。画像演算部21では、撮像素子17により撮像された非欠陥画像(以下、「参照画像」と称する)を用いて輝度情報を算出する。制御部22では参照画像又は検査画像に対して輝度調節が必要な場合に、NDフィルタ113の透過率又は光源111の電源電圧を変えるための電圧制御信号を生成し、NDフィルタ113の駆動モータ(又は光源111の電源)に送る。例えば、電圧制御信号に基づいて駆動モータが所定角度回転することにより、NDフィルタ113の透過率が変化する。
一方、輝度調節値設定部23では輝度調節が適切になるように輝度調節値(ここではNDフィルタ113の透過率を変える電圧制御信号)を設定し、輝度調節値記憶部25にて適切に調整されたときの輝度調節値を記憶する。なお、この場合において、輝度調節値記憶部25は、必要ならば輝度調節値を画像と共に記憶する。
制御部22は、画像演算部21から出力される輝度情報や、輝度調節値記憶部25からの記憶信号(記憶完了信号)を入力し、それらの信号に基づいて装置全体の制御を行う。一方、制御部22は、電圧制御信号に基づいて電圧を変更した後再度検査用顕微鏡1から参照画像又は検査画像を取得するように検査装置を制御する。
上記のように構成された本実施の形態に係る検査装置の具体的な処理について説明する。
図2は、検査装置の欠陥判断処理における輝度調節処理のフローチャートである。本実施の形態においては、欠陥判断処理における輝度調節処理では、基本的に次のような処理を実行する。まず、欠陥のない参照パターン画像から注目部分の画像を取り込み、当該各注目部分の画像にかかる輝度調節値を算出して、各注目部分の画像に対応する輝度調節値を記憶する。次に、検査画像を取り込み、検査画像の注目部分に対応する参照パターン画像の注目部分を検索して、当該参照パターン画像の注目部分の輝度調節値に基づいて検査画像の輝度を補正する。そして、補正した検査画像と参照パターン画像とを比較することによって欠陥判断を行う。具体的には、以下の通りである。
まず、参照パターン画像から各注目部分(以下、「参照パターン注目画像」と称する)の画像を取得する(ステップA1)。次に、参照パターン注目画像に対して輝度調節値設定部23により輝度を調節して、適正化し、その時に算出される輝度調節値を設定する(ステップA2)。そして、算出された参照パターン注目画像に対する輝度調節値を輝度調節値記憶部25に記憶する(ステップA3)。なお、ステップA1からステップA3は複数の注目画像について行われる。次に、検査画像のパターンから注目部分の画像(以下、「検査パターン注目画像」と称する)を取得する(ステップA4)。そして、制御部22は、取得した検査パターン注目画像に対応する参照パターン注目画像を検索し、検索された各参照パターン注目画像に対応する輝度調節値を輝度調節値記憶部25から読出して(ステップA5)、この輝度調節値に応じて検査パターン注目画像の輝度を補正する(ステップA6)。ここで、検査パターン注目画像の輝度は、参照パターン注目画像の輝度調節値を設定する方法(ステップA2)と同様な手順で調節することにより補正しても良いし、参照パターン注目画像の輝度調節値と同じ値をそのまま用いることにより補正しても良い。そのまま同じ値を使うときは、ステップA3及びステップA5を省略しても良い。画像比較によって、補正された検査パターン画像と参照パターン画像とが比較されて欠陥判断が行われる(ステップA7)。
なお、一旦輝度調節値が輝度調節記憶部25に記憶されれば(ステップA3)、その後の検査装置の欠陥判断処理フローでは、輝度調節値を輝度調節記憶部25に記憶されているかどうかの判断を行い、記憶されていれば、ステップA4から始めることとしても良い。
図3は、図2のフロー中のステップA2において、参照パターン注目画像から輝度調節値を設定する部分の詳細を示すフローチャートである。ここでは輝度を調節する値として、例えば、検査用顕微鏡のNDフィルタ113の透過率(光源自体の光量を調整しても良い)を変更するための電圧制御値を用いるものとして説明する。この場合は撮影条件を変更する方式になるが、撮影条件を変えずに、表示条件を変更して輝度を合わせるようにしても良い。
まず、注目画像に対して視野中心に位置される欠陥部分の画像が取り込まれないようにマスク領域を設定する。例えば、注目画像を複数のブロックに分割して、欠陥部分が表示される中央部のブロックをマスク領域として設定する(ステップB1)。この場合のブロック数は、特に限定されないが、例えば4×4ブロックに分割し、中央の4ブロックをマスク領域として設定する。この分割例を図4(b)及び図5(b)に示す。図4及び図5は、詳細は後述するヒストグラム算出で用いられる画像領域の説明の図である。なお、図4(a)は参照パターンの注目画像、図5(a)は欠陥がほぼ中央に位置する場合の検査画像の注目画像を示している。
次に、注目画像を取得する(或いは読み出す)(ステップB2)。続いて、図4(c)及び図5(c)に示すように、注目画像にステップB1で設定した分割ブロックを割り当てて、中央部のマスク領域以外の周辺部の12ブロックから輝度情報を取得して、輝度情報のヒストグラム(すなわち、輝度に対する頻度)を算出する(ステップB3)。ここで、輝度情報を取得する際に、中央部のマスク領域を除外するのは、以下のような理由による。検査用顕微鏡1によりウェハ上の欠陥を撮像する場合、検査用顕微鏡1の視野中心(対物レンズ12の光軸)に欠陥が位置決めされる。従って、検査画像中の中央部分をマスク領域として設定すれば、欠陥が含まれない中央部以外の画像情報から輝度情報のヒストグラムを算出するようにすることができ、欠陥の影響を受けることなく、検査画像に対する輝度調節値を正確に設定することができる。なお、ヒストグラムとして、例えば、図6に示すような、ヒストグラムが得られる。図6は、さまざまなヒストグラムの例を示す図である。また、マスク領域は、ほとんどの欠陥が視野中心である検査画像の中央部に表示されるため、この検査画像の中央部に欠陥より大きな円形状又は矩形状のマスク領域を設定することもできる。このように、マスク領域は、検査画像中の欠陥が表示されている領域に設定されれば良く、中央部以外の位置に設定することも可能である。
続いて、算出したヒストグラムから輝度の最大値としきい値T_MAX(輝度最大値として許容できる輝度の最大リミット)以上となるような輝度の頻度の総数(累積頻度)とを取得する(ステップB4)。
次に、輝度の最大値がしきい値T_MAXとしきい値T_MIN(輝度最大値として許容できる輝度の最小リミット)との間の値であるかどうかを調べる(ステップB5)。
ステップB5において、輝度の最大値がしきい値T_MAXとしきい値T_MINの間になければ(ステップB5でNo)、輝度最大値がT_MAXより大きく、かつ、しきい値T_MAXにおける累積頻度がしきい値H_MAX(累積頻度に関するしきい値)より小さいかどうかを判断する(ステップB6)。なお、図6において、しきい値H_MAXは、ノイズの影響を無視できるようにするために所定の値に設定される。
ステップB5において、図6(c)に示すように、輝度の最大値がしきい値T_MAXとしきい値T_MINの間であれば(ステップB5でYes)、現在設定されているNDフィルタ113の電圧制御値を輝度調節値(すなわち、注目画像の輝度を適切な輝度にできる値)として設定する。(ステップB7)。また、ステップB6において、図6(d)に示すように、輝度最大値がT_MAXより大きく、かつ、しきい値T_MAXにおける累積頻度がしきい値H_MAX(累積頻度に関するしきい値)より小さければ(ステップB6でYes)、ステップB5のYesの場合と同様に、現在設定されているNDフィルタ113の電圧制御値を輝度調節値として設定する。(ステップB7)。
なお、ステップB6でNoであれば、現在の輝度最大値に応じてNDフィルタ113の電圧制御値を変更するよう制御する(ステップB8)。具体的には、以下の通りである。
最大値がT_MIN以下であれば、図6(a)に示すように、画像が暗過ぎるとみられるので、明るくなるようにNDフィルタ113の電圧制御値を制御(調節)する。
また、最大値がT_MAX以上で且つT_MAX以上の輝度の累積頻度がH_MAX以上であれば、図6(b)に示すように、画像が明る過ぎるとみられるので、暗くするようにNDフィルタ113の電圧制御値を制御(調節)する。
そして、NDフィルタ113の電圧制御値を調節した後に、同じ注目部分の画像取得を再度行うようにする。
この場合において、輝度調節値は、例えば画像の輝度を変換する際の特性(線形式や、非線形式)として表してもよい。例えば明部を示す輝度の頻度と暗部を示す輝度の頻度がそれぞれ所定値以下となるように(又はヒストグラムの中央値、最頻値が所定の範囲内となるように)輝度特性を変更しても良い。この場合には、例えばゲインを変える、γ係数を変える等により調節が可能である。このようにすれば、撮影条件を変えずに画像の輝度を変更することができるのでソフトウェアによる処理が可能になる。
図7はヒストグラムからの輝度調節値を設定する場合における他の調節方法を示す図である。図7における方法ではしきい値としてT_MAXのみを用いている。また、電圧調節レベルと画像の輝度との対応付けによるLUT(Look Up Table)を持つ。
まず、注目画像のヒストグラムを取得した場合に図7(a)のようなヒストグラムが得られたものとする。この場合には、輝度最大値がしきい値T_MAXを超えており、撮像素子に対して過剰な光が入射していることになる。図7(a)の最小輝度値が輝度値aであれば、そこで、図7(b)に示すLUTを使用して、最小輝度値aが輝度値0になるように、電圧調整レベルVaを調整する。
上記のような電圧調整の結果、図7(c)に示すような注目画像のヒストグラムが算出されたものとする。図7(c)に示すヒストグラムでは、輝度の最大値がしきい値T_MAX未満になっている。そこで、輝度の最大値がしきい値T_MAXに一致するように、図7(d)に示すようなLUTを用いて、この時の電圧調整レベルVbを調節することにより、最大輝度値bをしきい値T_MAXに一致させる。これにより、図7(e)に示すようなヒストグラムを算出する画像よりも明るい、欠陥検査に対して最適な画像が得られる。
そして最終的に図7(e)のようなヒストグラムができあがり、このときの電圧調節レベルを適切な輝度調節値として設定すればよい。なお、最初のヒストグラム算出時点で図7(c)のようなヒストグラムが得られた場合には、以降の処理は図7(d)のLUTを使用して最大輝度が適切値となるように処理を実行すれば良いし、最初の段階で図7(e)に示すように適切値に設定されていれば、その時点の電圧調節レベルを適切な輝度調節値として採用すれば良い。
更に、ヒストグラムが図7(a)の場合に図7(b)のLUTによって調節し、その後のヒストグラムが図7(e)になった場合は、ヒストグラムが図7(e)となったときの電圧調節レベルを適切な輝度調節値として設定すればよい。
次に、図8及び図9を参照して、本発明の他の実施の形態に係る検査装置について説明する。
ウェハが顕微鏡の撮像可能な領域に載置され、検査が開始される。まず、ウェハの位置合わせを行う。通常ウェハが撮像可能な領域に載置された時点では、精密な位置合わせがなされていないことが多い。そのため、ウェハ上に作られているアラインメントマークを用いて精密な位置合せを行う(図9参照)。アラインメントマークを2つ以上使用し、顕微鏡の中心位置に合わせることにより、位置及び回転のずれが補正される(ステップC1)。
次に、設定ファイルに光量データ(輝度調節値)があるかどうかを判断する(ステップC2)。光量設定データがなければ、第1の画像(参照パターン注目画像)を取得するため、アラインメントマークに隣接した欠陥のないセルに移動する。ここで欠陥がないかどうかは、他の欠陥検査装置からの情報を基にして判断しても良いし、隣接したセルを撮像したときの輝度が設定値の範囲かどうかで判断しても良い。そして、中間的な輝度となる予め入力された価を光量設定データとして設定する(ステップC3)。ステップC2において、光量設定データがあれば、そのデータを設定ファイルから読み込み、設定する(ステップC4)。そして、第1の画像を撮像する(ステップC5)。撮像された第1の画像が最適光量で撮像されているかを判断する(ステップC6)。ここで、判断は、総光量がある範囲にある、又は、画像の一部がある輝度値以上とある輝度値以下にならないといった範囲を事前に設定しておき、その範囲をもとに行われる。範囲内にない場合は、光量を調節し、再度第1の画像を撮像する(ステップC9)。ステップC6において、総光量が範囲内にある場合には、そのとき使用された第1の画像に対する光量設定データが設定ファイル(輝度調節値記憶部25)に書き込まれる(ステップC7)。そして、第2の画像(検査パターン注目画像)を第1の画像に対する光量設定データをそのまま使用して撮像する(ステップC8)。このように、第1の画像の光量設定データ(輝度調節値)の調整を位置合わせ時に行うので、ステージの移動時間が少なくて済む。また、第1の画像の光量設定データをそのまま使うので、第2画像(検査パターン注目画像)取得時に再度光量設定データ(輝度調節値)を設定する必要がない。そのため、検査時間を削減することが出来る。
上記の各実施形態から下記の発明が抽出される。なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
本発明の実施の形態に係る検査装置は、第1の画像(例えば、参照画像等の欠陥のない画像)の画像情報を用いて前記第1の画像の輝度を所望の値に調節するための輝度調節値を算出する手段と、算出された前記輝度調節値を記憶する記憶手段と、第1の画像と異なる第2の画像(例えば、被検査画像)に対応する画像情報を有する第1の画像を探索する手段と、検索された第1の画像に対応する輝度調節値を前記記憶手段から読み出す手段と、前記記憶手段から読み出された輝度調節値により前記第2の画像の輝度を調節する手段とを具備することを特徴とする。なお、第1の画像と輝度調節された第2の画像とを用いて検査を行う手段を更に具備することが好ましい。このように、画像比較による検査において、一方の画像の輝度調節を適切な輝度に調節するための輝度調節値を求めておき、もう一方の画像の輝度が既に調節済みの輝度調節値により調節されるので、両者の画像を適切な輝度に合わせて観察し、検査をしやすくすることができる。従って、自動検査では正確な検査(すなわち、正確な欠陥の検出)ができるようになる。
上記の検査装置において、下記の実施態様が好ましい。なお、下記の実施態様はそれぞれ独立に適用しても良いし、適宜組み合わせて適用しても良い。
(1) 前記輝度調節値の算出に用いられる画像情報は、第1の画像の周辺部の画像情報であること。通常、欠陥が画像の中心に位置することが多い。従って、周辺部の画像情報を用いて輝度調節値を算出することにより、最初の輝度調節のための画像として欠陥画像を採用することができ、その欠陥画像に対する輝度調節値を算出した場合であっても、欠陥による悪影響を受けずに適切な輝度調節を行うことができる。
(2) 前記輝度調節値を算出する手段は、前記第1の画像の画像情報の輝度を求め、前記輝度を用いたヒストグラムに基づく統計情報を用いて輝度調節値を決定すること。ここで、統計情報とは、最大値、最小値、最頻値、中央値等を意味し、実際の画像情報を用いることで、輝度調節値を最適化することができる。
(3) 前記輝度調節値は、画像の階調を変換する特性を表す値、又は画像の明るさを決めるための手段を調節する制御特性を表す値の少なくとも一方の値であること。撮影条件の変更(すなわち、明るさを求める機構をハード的に調節する)又は撮影後の画像の変換(すなわち、画像処理によりソフト的に行う)のいずれを行って画像の輝度調節を行っても良いので、撮影系を変更するにより最適な撮影条件とすることができる。また、画像変換を行う場合には、装置構成に依存しない輝度調節が可能になる。なお、輝度調整をハード的に行う場合には、NDフィルタへの印加電圧、光源電圧、その他光量調節機構などで行えば良い。
本発明は、上記各実施の形態に限ることなく、その他、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々の変形を実施し得ることが可能である。さらに、上記各実施形態には、種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組合せにより種々の発明が抽出され得る。
また、例えば各実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
本発明が適用される検査装置の概略構成を示す図。 検査装置の欠陥判断処理における輝度調節処理のフローチャート。 参照パターンの注目画像から輝度調節値を設定する部分の詳細を示すフローチャート。 ヒストグラム算出で用いられる画像領域の説明の図。 ヒストグラム算出で用いられる画像領域の説明の図。 さまざまなヒストグラムの例を示す図。 ヒストグラムからの輝度調節値を設定する場合における他の調節方法を示す図。 本発明の他の実施の形態に係る検査装置の動作を示すフローチャート。 本発明の他の実施の形態に係る検査装置の動作の説明図。
符号の説明
O…観察光路、1…検査用顕微鏡、2…演算処理装置、3…半導体ウェハ、11…落射照明用透光管、12…対物レンズ、13…偏向ビームスプリッタ、14…リレーレンズ、15…プリズム、16…接眼レンズ、17…撮像素子、21…画像演算部、22…制御部、23…輝度調節値設定部、25…輝度調節値記憶部、111…光源、112…結像レンズ、113…NDフィルタ。

Claims (7)

  1. 第1の画像の画像情報を用いて前記第1の画像の輝度を所望の値に調節するための輝度調節値を算出する手段と、
    算出された前記輝度調節値を記憶する記憶手段と、
    第1の画像と異なる第2の画像に対応する画像情報を有する第1の画像を探索する手段と、
    検索された第1の画像に対応する輝度調節値を前記記憶手段から読み出す手段と、
    前記記憶手段から読み出された輝度調節値により前記第2の画像の輝度を調節する手段とを具備することを特徴とする検査装置。
  2. 請求項1に記載の検査装置において、第1の画像と輝度調節された第2の画像とを用いて検査を行う手段を更に具備することを特徴とする検査装置。
  3. 請求項1に記載の検査装置において、前記輝度調節値の算出に用いられる画像情報は、第1の画像の周辺部の画像情報であることを特徴とする検査装置。
  4. 請求項1に記載の検査装置において、前記輝度調節値を算出する手段は、前記第1の画像の画像情報の輝度を求め、前記輝度を用いたヒストグラムに基づく統計情報を用いて輝度調節値を決定することを特徴とする検査装置。
  5. 請求項1に記載の検査装置において、前記輝度調節値は、画像の階調を変換する特性を表す値、又は画像の明るさを決めるための手段を調節する制御特性を表す値の少なくとも一方の値であることを特徴とする検査装置。
  6. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の検査装置において、前記第2の画像の輝度を調整する手段による輝度調節値は、前記第1の画像の輝度調節値と同一であることを特徴とする検査装置。
  7. 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の検査装置において、前記第1の画像は、位置合わせ用のマークに隣接した画像であることを特徴とする検査装置。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007155557A (ja) * 2005-12-06 2007-06-21 Olympus Corp 微弱光解析方法
JP2014109436A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Tokyo Electron Ltd 基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US20230326870A1 (en) * 2020-08-31 2023-10-12 Hitachi High-Tech Corporation Alignment Device and Alignment Method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000183122A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体検査方法及び装置
JP2000306100A (ja) * 1999-04-21 2000-11-02 Ipi Kk 検査データ作成方法
JP2003121380A (ja) * 2001-10-11 2003-04-23 Nikon Corp 表面検査装置および表面検査方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11136659A (ja) * 1997-10-30 1999-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像中の濃度むら補正方法
JP4024381B2 (ja) * 1998-04-21 2007-12-19 株式会社ルネサステクノロジ 欠陥検査方法および装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000183122A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体検査方法及び装置
JP2000306100A (ja) * 1999-04-21 2000-11-02 Ipi Kk 検査データ作成方法
JP2003121380A (ja) * 2001-10-11 2003-04-23 Nikon Corp 表面検査装置および表面検査方法

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