JP4594615B2 - 絶縁電線及び絶縁コイル - Google Patents
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Description
さらに、本発明の他の課題は、高耐熱性を有し、かつ、絶縁電線に曲げ加工を施した場合の絶縁層の剥がれや割れが生じにくく(即ち、可撓性に優れ)、しかも、耐電圧性も良好な絶縁電線及び該絶縁電線を用いた絶縁コイルを提供することである。
すなわち、本発明は、
(1)ポリイミドの主鎖中にシロキサン結合を含有し、分子中にアニオン性基を有するブロック共重合ポリイミドであって、重量平均分子量(Mw)が45,000〜90,000、数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000であるブロック共重合ポリイミドの電着被膜を導体線外周の絶縁層として設けたことを特徴とする絶縁電線、
(2)ブロック共重合ポリイミドの固有対数粘度(25℃)が20wt%のNMP(N−メチル−2−ピロリドン)溶液時において、5,000〜50,000mPa・sである、上記(1)記載の絶縁電線、
(3)ポリイミドの主鎖中のシロキサン結合が、シロキサン結合含有ジアミン化合物由来のシロキサン結合であり、当該シロキサン結合含有ジアミン化合物が、ビス(4−アミノフェノキシ)ジメチルシラン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、及び下記の一般式(I)で表される化合物よりなる群から選ばれる1種又は2種以上である、上記(1)又は(2)記載の絶縁電線、
(4)ブロック共重合ポリイミドのジアミン成分がシロキサン結合含有ジアミン化合物及び芳香族ジアミンからなり、テトラカルボン酸ジ無水物成分が芳香族テトラカルボン酸ジ無水物からなる、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の絶縁電線、
(5)芳香族ジアミンが、芳香族ジアミノカルボン酸及び/又は芳香族ジアミノスルホン酸を少なくとも含有する、上記(4)記載の絶縁電線、
(6)芳香族テトラカルボン酸ジ無水物が、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテルジ無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物、及び3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸ジ無水物から選ばれる少なくとも1種からなる、上記(4)又は(5)記載の絶縁電線、
(7)導体線の横断面形状が平角状である、上記(1)〜(6)のいずれかに記載の絶縁電線、
(8)導体線が銅または銅合金からなる、上記(1)〜(7)のいずれかに記載の絶縁電線、
(9)導体線外周の平坦面に形成された絶縁被膜の厚みが1.5〜30μmである、上記(7)に記載の絶縁電線、
(10)ブロック共重合ポリイミドの電着被膜が、該ブロック共重合ポリイミドを有機極性溶媒に溶解した溶液に水とポリイミドに対する貧溶媒とポリイミドを中和塩とするための中和剤とをさらに添加した溶液分散型ワニスを導体線外周に電着、焼付けして形成したものである、上記(1)〜(9)のいずれかに記載の絶縁電線、及び
(11)上記(1)〜(10)のいずれかに記載の絶縁電線をエッジワイズコイル巻きまたは整列巻きした絶縁コイル、に関する。
本発明の絶縁電線は、ポリイミドの主鎖中にシロキサン結合を含有し、分子中にアニオン性基を有するブロック共重合ポリイミド(以下、「シロキサン結合含有ブロック共重合ポリイミド」とも略称する。)の電着被膜を導体線外周の絶縁層として設けてなるものである。
先ず、NMP、DMF、DMAc、γ−ブチロラクトン、DMSO、アニソール、シクロヘキサノン、テトラメチル尿素及びスルホラン等から選ばれる少なくとも一種の有機極性溶媒中、酸触媒の存在下、ジアミン化合物とテトラカルボン酸ジ無水物とを160〜180℃で加熱し、生成する水を共沸によって留去しながら反応させて、オリゴマーを生成させる(第1段階反応)。次に、テトラカルボン酸ジ無水物又は/及びジアミン化合物をさらに加えて160〜180℃に加熱して、第2段階反応(加熱)を行う。このとき、第1段階又は/及び第2段階で用いるジアミン化合物として、シロキサン結合含有ジアミン化合物を使用することで、主鎖中にシロキサン結合を含有する、ブロック共重合ポリイミドが得られる。こうして得られる反応溶液の固形分濃度は10〜40重量%が好ましく、より好ましくは20〜30重量%である。次に、極性溶媒中に溶解したブロック共重合ポリイミドを塩基性化合物で中和し、さらに水及びポリイミドの貧溶媒を加えて電着液とする。塩基性化合物には、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、N−ジメチルベンジルアミン、N−メチルモルホリン等が使用される。塩基性化合物の使用量はポリイミドが水溶液中に安定に溶解または分散する程度であり、通常、理論中和量の30〜200モル%程度である。また、貧溶媒は、フェニル基、フルフリル基またはナフチル基を有するアルコールが好適であり、具体的には、ベンジルアルコール、2−フェニルエチルアルコール、4−メチルベンジルアルコール、4−メトキシベンジルアルコール、4−クロルベンジルアルコール、4−ニトロベンジルアルコール、フェノキシ−2−エタノール、シンナミルアルコール、フルフリルアルコールおよびナフチルカルビノール等が挙げられる。なお、ワニス(電着液)中の極性溶媒の量はポリイミド1重量部当たり1.5〜10重量部が好ましく、より好ましくは2.4〜6重量部であり、水の量はポリイミド1重量部当たり0.1〜5重量部が好ましく、より好ましくは1〜3重量部である。
シロキサン結合含有ブロック共重合ポリイミド溶液の作製
ガラス製のセパラブル三口フラスコを使用し、これに攪拌機、窒素導入管及び冷却管の下部にストップコックを備えた水分受容器を取付けた。窒素を流通させ、さらに攪拌しながら反応器をシリコーン油浴中に漬けて加熱し反応を行った。まず、フラスコに3,4,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物58.84g(0.2モル)、ビス(γ−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン(信越化学工業社製のKF−8010)97.2g(0.1モル)、バレロラクロン4g(0.04モル)、ピリジン6.3g(0.08モル)、NMP(N−メチル−2−ピロリドン)500g及びトルエン80gを入れ、室温で30分間攪拌し、次いで、昇温し、180℃において1時間、200rpmで攪拌しながら反応を行った。反応後、トルエン−水留出分30mlを除いた。残留物を空冷して、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物64.45g(0.2モル)、3,5−ジアミノ安息香酸30.43g(0.2モル)、ビス−[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン43.25g(0.1モル)、NMP500g及びトルエン100gを添加し、室温で1時間攪拌(200rpm)し、次いで昇温して180℃で1時間、過熱攪拌した。トルエン−水留出分15mlを除き、以降は留出分を系外に除きながら、180℃で3時間、攪拌を行った。次いで、無水フタル酸1.1g及びNMP113gを添加し反応を1時間行い終了した。これにより20%ポリイミドワニスを得た。ブロック共重合ポリイミドの重量平均分子量及び数平均分子量はそれぞれ66,000及び34,000であった。
極間距離:3.0cm
電着電圧:定電流法(50mA)−電圧(Max160V)
電着時間:60秒
なお、絶縁層の被覆厚みは、マイクロメーターにて全長30cm区間のうち5箇所を測定し、その算術平均値を平均厚さとした(1箇所につき、2方向から測定した)。なお、下記の比較例1〜4中の円形絶縁銅線の絶縁層の被覆厚み(平均厚み)も同様にして得た。
アクリロニトリル5モル、アクリル酸1モル、グリシジルメタクリレート0.3モルをイオン交換水760g、ラウリル硫酸エステルソーダ7.5g、過硫酸ソーダ0.13gと共にフラスコに入れて室温、窒素気流下15〜30分間撹拌したのち、その混合物を50〜60℃の温度で3時間反応させて得た乳化重合液(エポキシ・アクリル系水分散ワニス)を用意した。かかる乳化重合液を電着用組成物として、実施例1と同様の条件で、実施例1で使用したものと同じ、横断面が円形の銅線と平角状の銅線にそれぞれ電着して焼付け、エポキシ変性アクリル樹脂による絶縁層(平均厚み17μm)を有する円形絶縁銅線と、エポキシ変性アクリル樹脂による絶縁層の平角銅線の平坦部を覆う部分の平均厚み(D1)が15μm、コーナー部を覆う部分の平均厚み(D2)が23μmの平角絶縁銅線を得た。
撹拌機、チッ素導入管及び冷却管の下部にストップコックのついた水分受容器を取り付けたガラス製のセパラブル三つ口フラスコを使用し、窒素を流しながら、さらに撹拌しながら反応器をシリコーン油中につけて加熱して下記の反応を行った。すなわち、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物64.44g(0.2モル)、ビス−[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン43.25g(0.1モル)、バレロラクトン3g(0.03モル)、ピリジン4.8g(0.06モル)、NMP(N−メチル−2−ピロリドンの略)400g及びトルエン90gを加えて、室温で30分間撹拌し、ついで昇温し、180℃において1時間、200rpmで撹拌しながら反応を行った。反応後、トルエン−水留出分30mlを除いた。残留物を空冷して、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物32.22g(0.1モル)、3,5−ジアミノ安息香酸15.22g(0.1モル)、2,6−ジアミノピリジン11.01g(0.1モル)、NMP222g及びトルエン45gを添加し、室温で1時間撹拌(200rpm)、次いで昇温して180℃で1時間、加熱撹拌した。トルエン−水留出分15mlを除き、以後は留出分を系外に除きながら、180℃、3時間、加熱、撹拌して反応を終了し、20%ポリイミド溶液を得た。こうして得たポリイミド溶液100gにNMP70gを加え、アニソール55g、シクロヘキサンノン45g及びN−メチルモルホリン2.6g(中和率200モル%)を加え、攪拌しながら水30gを滴下して、固形分濃度6.6%、pH7.8の電着用ポリイミドエマルジョン組成物(ワニス)を得た。そして、該組成物を実施例1と同様の条件で、実施例1で使用したものと同じ、横断面が円形の銅線と平角状の銅線にそれぞれ電着して焼付け、ブロック共重合ポリイミドによる絶縁層(平均厚み17μm)を有する円形絶縁銅線と、ブロック共重合ポリイミドによる絶縁層の平角銅線の平坦部を覆う部分の平均厚み(D1)が15μm、コーナー部を覆う部分の平均厚み(D2)が12μmの平角絶縁銅線を得た。
3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物128.9g(0.4モル)と1,3−ビス−(4−アミノフェノキシ)ベンゼン116.9g(0.4モル)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)983gに溶かし、室温でイカリ型撹拌機を用いて、200rpmに撹拌しながら10時間反応し、20%ポリアミド酸溶液(ポリアミド酸の固有対数粘度0.78)を得た。この20%ポリアミド酸溶液にNMP、ベンジルアルコールを加え、さらに次いで中和剤を加え、さらに純水を加え、ポリアミド酸の固形分量6.8%、NMP41%、ベンジルアルコール16%、N−メチルモルホリン0.9%、純水35.3%の電着用組成物を調製した。こうして得た電着用組成物を実施例1と同様の条件で、実施例1で使用したものと同じ、横断面が円形の銅線と平角状の銅線にそれぞれ電着し、焼付け、ポリイミドによる絶縁層(平均厚み17μm)を有する円形絶縁銅線と、ポリイミドによる絶縁層の平角銅線の平坦部を覆う部分の平均厚み(D1)が14μm、コーナー部を覆う部分の平均厚み(D2)が12μmの平角絶縁銅線を得た。
ランダム共重合体においてポリシロキサンを含有するポリアミドとして特開2000−178481号公報に準拠して作製されたポリイミド電着液を実施例1と同様の条件で、実施例1で使用したものと同じ、横断面が円形の銅線と平角状の銅線にそれぞれ電着し、焼付け、ポリイミドによる絶縁層(平均厚み17μm)を有する円形絶縁銅線と、ポリイミドによる絶縁層の平角銅線の平坦部を覆う部分の平均厚み(D1)が15μm、コーナー部を覆う部分の平均厚み(D2)が12μmの平角絶縁銅線を得た。
実施例1及び比較例1〜4で作製した絶縁銅線について以下の評価試験を行った。
JIS C 3003に準拠した温度指数評価法によって、耐熱性を評価した。
JIS C 3003に準拠して、絶縁丸銅線(n=5)と絶縁平角銅線(n=5)に対してピンホールの有無を調査した。
5個の絶縁丸銅線(30cm長さ)と5個の絶縁平角銅線(30cm長さ)のいずれにもピンホールが確認されなかったものを合格(○)、10個のうちの1個でもピンホールが確認され場合は不合格(×)とした。
(1)自己径巻付けでの被覆剥離の有無
同一巻枠から適切な長さの試験片3本を採り、それぞれについて試験片自身の周囲に線と線が接触するように緊密に10回巻き付けたとき、被膜に導体が見える亀裂が生じるかを目視で調べた。
同一巻枠から長さ約20cmの試験片2本を採り、規定の径をもつ丸棒の外周に沿って一平面内にあるように保ちながら、中央部をそれぞれフラットワイズ及びエッジワイズに180°曲げたとき、被膜に導体が見える亀裂が生じるかを目視で調べた。
絶縁丸銅線に対して、JIS C 3003に準拠して、AC破壊電圧を測定した。すなわち、1cmのスズ箔を絶縁上巻き付け、導体−すず箔間にて測定した(n=3)。そして、各板に交流電圧発生装置を接続し、電圧を上昇させて、短絡した電圧を破壊電圧とする。破壊電圧が2.0kV以上を合格(〇)とし、破壊電圧が2.0kV未満の場合を不合格(×)とした。
絶縁平角銅線の断面コーナー部の絶縁層の平均厚さ(D2)が平坦部の絶縁層の平均厚さ(D1)の0.8倍以上である場合を合格(○)、0.8倍未満である場合を不合格(×)とした。
2 導体線
3 絶縁層
Claims (11)
- ポリイミドの主鎖中にシロキサン結合を含有し、分子中にアニオン性基を有するブロック共重合ポリイミドであって、重量平均分子量(Mw)が45,000〜90,000、数平均分子量(Mn)が20,000〜40,000であるブロック共重合ポリイミドの電着被膜を導体線外周の絶縁層として設けたことを特徴とする絶縁電線。
- ブロック共重合ポリイミドの固有対数粘度(25℃)が20wt%のNMP(N−メチル−2−ピロリドン)溶液時において、5,000〜50,000mPa・sである、請求項1記載の絶縁電線。
- ポリイミドの主鎖中のシロキサン結合が、シロキサン結合含有ジアミン化合物由来のシロキサン結合であり、当該シロキサン結合含有ジアミン化合物が、ビス(4−アミノフェノキシ)ジメチルシラン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、及び下記の一般式(I)で表される化合物よりなる群から選ばれる1種又は2種以上である、請求項1又は2記載の絶縁電線。
(式中、Rは、それぞれ独立して、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、又は1個乃至3個のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されたフェニル基を表し、l及びmはそれぞれ独立して1〜4の整数を表し、nは1〜20の整数を表す。) - ブロック共重合ポリイミドのジアミン成分がシロキサン結合含有ジアミン化合物及び芳香族ジアミンからなり、テトラカルボン酸ジ無水物成分が芳香族テトラカルボン酸ジ無水物からなる、請求項1〜3のいずれか1項記載の絶縁電線。
- 芳香族ジアミンが、芳香族ジアミノカルボン酸及び/又は芳香族ジアミノスルホン酸を少なくとも含有する、請求項4記載の絶縁電線。
- 芳香族テトラカルボン酸ジ無水物が、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテルジ無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物、及び3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸ジ無水物から選ばれる少なくとも1種からなる、請求項4又は5記載の絶縁電線。
- 導体線の横断面形状が平角状である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の絶縁電線。
- 導体線が銅または銅合金からなる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁電線。
- 導体線外周の平坦面に形成された絶縁被膜の厚みが1.5〜30μmである、請求項7に記載の絶縁電線。
- ブロック共重合ポリイミドの電着被膜が、該ブロック共重合ポリイミドを有機極性溶媒に溶解した溶液に水とポリイミドに対する貧溶媒とポリイミドを中和塩とするための中和剤とをさらに添加した溶液分散型ワニスを導体線外周に電着、焼付けして形成したものである、請求項1〜9のいずれか1項記載の絶縁電線。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の絶縁電線をエッジワイズコイル巻きまたは整列巻きした絶縁コイル。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109427439A (zh) * | 2017-08-22 | 2019-03-05 | 三菱综合材料株式会社 | 具有高纵横比的绝缘扁平导线、其制造方法和线圈 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4737938B2 (ja) * | 2004-02-13 | 2011-08-03 | 株式会社ピーアイ技術研究所 | コイル用リング状絶縁板の製造方法 |
JP2007066815A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Suncall Corp | 絶縁被覆導線及びその製造方法、並びに、絶縁被覆導線成形品及びその製造方法 |
EP2017854B1 (en) | 2006-04-28 | 2020-02-12 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | Linear member, and stator structure |
JP2008041568A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 半導電層を有する平角状電線及びその製造方法 |
JP2008085077A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | リング状絶縁コイル板およびその製造方法 |
TW200910385A (en) * | 2007-05-07 | 2009-03-01 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Insulation members |
TWI441878B (zh) * | 2007-05-07 | 2014-06-21 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電沉積塗料組成物及電沉積方法 |
JP2009016319A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 絶縁被覆金属細線 |
JP5464838B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-04-09 | 三菱電線工業株式会社 | 絶縁部材の製造方法 |
JP5399685B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-01-29 | 三菱電線工業株式会社 | リード線付き電子部品およびリード線の絶縁被覆方法 |
JP5624716B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2014-11-12 | 三菱電線工業株式会社 | プローブピンおよびその絶縁処理方法 |
JP5543845B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2014-07-09 | 住友電気工業株式会社 | 絶縁電線及びその製造方法 |
JP5555063B2 (ja) * | 2010-06-10 | 2014-07-23 | 三菱電線工業株式会社 | ポリイミド電着塗料及びその製造方法 |
JP2013191356A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Hitachi Cable Ltd | 絶縁電線及びそれを用いて形成されたコイル |
JP2017016956A (ja) * | 2015-07-03 | 2017-01-19 | 三菱電線工業株式会社 | 絶縁電線及びその製造方法 |
JP6874785B2 (ja) * | 2019-03-27 | 2021-05-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 絶縁銅線および電気コイル |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0680274U (ja) * | 1993-04-22 | 1994-11-08 | 山武ハネウエル株式会社 | コネクタの抜け止め構造 |
JP2000178481A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写用電着膜形成液 |
JP2002343152A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-29 | Totoku Electric Co Ltd | 角状絶縁電線の製造方法および角状絶縁電線 |
JP2003151257A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-23 | Toshiba Corp | 静電気センサを搭載したディスク記憶装置及び同装置における静電気印加検知方法 |
JP2003272916A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-26 | Totoku Electric Co Ltd | 樹脂絶縁被覆エッジワイズコイル、絶縁被覆エッジワイズコイルの製造方法、絶縁被覆平角電線および樹脂絶縁被覆平角電線の製造方法 |
JP2003317547A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Totoku Electric Co Ltd | 角形断面マグネットワイヤ及びその製造方法 |
JP2003317549A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 平角絶縁電線およびそれを用いたコイル |
JP2005162954A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Pi R & D Co Ltd | 電着塗料組成物及びそれを用いた電着方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5213237B2 (ja) * | 1972-08-25 | 1977-04-13 | ||
US4997908A (en) * | 1989-11-13 | 1991-03-05 | Occidental Chemical Corporation | Solvent resistant polymidesiloxane |
JPH04108879A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-09 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ポリイミド樹脂コーテイング剤組成物 |
JP3089195B2 (ja) * | 1995-10-12 | 2000-09-18 | 大日本塗料株式会社 | 電着用ポリイミド組成物 |
-
2003
- 2003-12-05 JP JP2003408227A patent/JP4594615B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0680274U (ja) * | 1993-04-22 | 1994-11-08 | 山武ハネウエル株式会社 | コネクタの抜け止め構造 |
JP2000178481A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写用電着膜形成液 |
JP2002343152A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-29 | Totoku Electric Co Ltd | 角状絶縁電線の製造方法および角状絶縁電線 |
JP2003151257A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-23 | Toshiba Corp | 静電気センサを搭載したディスク記憶装置及び同装置における静電気印加検知方法 |
JP2003272916A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-26 | Totoku Electric Co Ltd | 樹脂絶縁被覆エッジワイズコイル、絶縁被覆エッジワイズコイルの製造方法、絶縁被覆平角電線および樹脂絶縁被覆平角電線の製造方法 |
JP2003317547A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Totoku Electric Co Ltd | 角形断面マグネットワイヤ及びその製造方法 |
JP2003317549A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-07 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 平角絶縁電線およびそれを用いたコイル |
JP2005162954A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Pi R & D Co Ltd | 電着塗料組成物及びそれを用いた電着方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109427439A (zh) * | 2017-08-22 | 2019-03-05 | 三菱综合材料株式会社 | 具有高纵横比的绝缘扁平导线、其制造方法和线圈 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005174561A (ja) | 2005-06-30 |
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