JP4586402B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に用いる転写体及び該素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、有機薄膜のエレクトロルミネセンス（以下、「ＥＬ」という。）現象を利用した有機薄膜ＥＬ素子、特に有機発光媒体層に高分子発光材料を含む有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という。）の製造に用いられる転写体及び該有機ＥＬ素子の製造方法に関するものである。

有機ＥＬ素子は、透光性基板上に透明導電層、有機発光媒体層、陰極を順次積層した構造を有するもので、自発光型素子である。この有機ＥＬ素子は、視野角が広く、低電圧駆動が可能で、高輝度であり、構成層が液晶素子と比べて少なく、製造するのが容易であり、薄形化できる等の長所を有している。

この有機ＥＬ素子を構成する有機発光媒体層の典型的な例としては、正孔注入層として銅フタロシアニンを、正孔輸送層としてＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンを、発光体層としてトリス（８−キノリノール）アルミニウムを用いたものが挙げられる。
これらの有機発光媒体層の材料は、いずれも低分子の化合物であり、また各層は１０〜１００ｎｍ程度の厚みからなり、抵抗加熱方式等の真空蒸着法等によって積層されるのが一般的である。このため、複数の蒸着釜を連結した真空蒸着装置が必要であり、低分子材料を用いる有機薄膜ＥＬ素子は、生産性が低く製造コストが高いという問題があった。

これに対し、有機発光媒体層として高分子材料を用いた有機ＥＬ素子も提案されている。この場合、発光体層としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等の高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリアルキルフルオレン誘導体（ＰＡＦ）等の高分子蛍光体が用いられる。
これらの高分子材料は、溶液に可溶とすることでスピンコート、グラビア印刷等の湿式法で成膜することができる。高分子材料を用いる有機薄膜ＥＬ素子は、前述の低分子材料を用いたものと比較して、大気圧下での成膜が可能であり、設備コストが安いという利点を有している。

しかしながら、湿式法には、溶液の表面張力により有機発光媒体層の膜均一性が不十分になることや、有機発光媒体層を積層する際に有機発光媒体層が界面で溶解するといった問題があった。このため、この湿式法によって得られた有機ＥＬ素子は、発光が不均一になることや、発光効率、素子耐久性に劣るという問題があった。

上記の問題点を解決する方法として、転写法を用いた成膜法が提案されている。この方法は、転写支持体上に形成された有機発光媒体層を、少なくとも電極層が形成された基板上に転写させるものである。しかし、転写法を用いて有機発光媒体層を転写し、有機ＥＬ素子を製造する場合には、有機発光媒体層の一部が転写されない、いわゆる抜けや欠損や、過剰に転写される転写過剰といった転写不良が発生する問題があった。この様な転写不良は、非発光画素となるばかりかショートやクロストークの原因となってしまう。このような転写法の問題を改善するために、転写支持体上に、有機発光媒体層との剥離が容易な離型層（剥離層）を設ける方法があったが、この構造によっても上述の問題は依然残っていた。

転写法の問題点を解決する方法の一つとして、例えば、特許文献１のような方法が提案されている。この方法は、基材と、基材上に形成された離型層と、前記離型層上に形成された有機エレクトロルミネッセント層とを有する転写シートを、少なくとも電極層が形成された基板上にレーザ光を用いてレーザ転写させるものである。レーザ転写により、離型層と有機エレクトロルミネッセント層との界面で剥離し、基板上に有機エレクトロルミネッセント層（有機発光媒体層）が積層して、離型層（剥離層）は基材側に残る。

このような従来の転写法では、有機発光媒体層のみが転写され、剥離層は支持体に残るのが一般的である。これは、支持体上に設けられた剥離層、あるいは支持体へ施された易剥離処理は有機発光媒体層の剥離が容易になるという以上の役目はなく、また、有機発光媒体層上には電子輸送層を設けるため、剥離層のように余計な層が少しでも残存するとやはり非発光画素だけでなく、ショートやクロストークの原因となってしまう。
当然ながら、このような従来の転写法で有機ＥＬ素子を製造する場合は、最上層が有機発光媒体層となる。従って、電子輸送層等を必要とする有機ＥＬ素子を作製する際には、有機発光媒体層を転写した後に電子輸送層等を形成し、次いで陰極を形成していた。
特開２００３−７７６５３号公報

しかしながら、特許文献１に代表される従来の転写法では、剥離層と有機発光媒体層との界面で剥離させ転写する際に、有機発光媒体層上に少しでも剥離層が残存すると電流が流れにくくなり、有機ＥＬ素子の発光効率や素子耐久性が低下する問題があった。

このような剥離層の残存問題を避けるため、支持体上に剥離層を設けることなく直接有機発光媒体層を設けた場合、転写の際に支持体と有機発光媒体層との界面で剥離が不十分となり、有機発光媒体層の一部が転写されない、いわゆる抜けや欠損と言った転写不良が発生する問題があった。このような転写不良は、非発光画素となるばかりか、ショートやクロストークの原因となる。また、支持体から染み出す不純物や支持体に付着した不純物が、支持体から有機発光媒体層に混入し、有機ＥＬ素子の発光効率や素子耐久性を低下させる問題もある。

そして、剥離層の有無にかかわらず、支持体（あるいは剥離層）表面の凹凸が有機発光媒体層に反映して、転写後の有機発光媒体層の表面の平坦性が損なわれるという問題があった。また、転写の際に転写効率を上げるために熱やレーザーを用いると、転写に際しての転写温度が上昇し、有機発光媒体層の機能低下を招いたり、レーザー光によって材料が劣化するという問題もあった。

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、転写が容易で熱や光を用いることなく転写でき、有機発光媒体層の膜均一性と剥離性の向上した、有機ＥＬ素子の製造に用いられる転写体を提供することを目的とする。

また、本発明は、転写が容易で熱や光を用いることなく転写でき、また転写工程後、電子輸送層を別途形成する必要のない有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。

かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、陽極と陰極との間に、有機発光媒体層と該有機発光媒体層上に設けられた機能性剥離層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に用いられる転写体であって、支持体と、この支持体上に順次設けられた前記機能性剥離層と前記有機発光媒体層とを有しており、前記機能性剥離層は、電子輸送性材料又はホールブロック性材料と、シリコーン系、フッソ系、長鎖アルキル系ポリマー等の前記支持体との密着性の弱い剥離性の材料との混合物または共重合体のように同じ分子内に含まれる材料を用いており、前記支持体から熱や光を用いることなく剥離できる機能を有することを特徴とする転写体である。

請求項２にかかる発明は、陽極と陰極との間に、有機発光媒体層と該有機発光媒体層上に設けられた機能性剥離層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記機能性剥離層は、電子輸送性材料又はホールブロック性材料と、シリコーン系、フッソ系、長鎖アルキル系ポリマー等の支持体との密着性の弱い剥離性の材料との混合物または共重合体のように同じ分子内に含まれる材料を用いており、前記支持体から熱や光を用いることなく剥離できる機能を有しており、支持体上に前記機能性剥離層と前記有機発光媒体層とを順次設けた転写体を形成する工程と、この転写体から前記有機発光媒体層と前記機能性剥離層を被転写体に転写する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。

本発明によれば、有機発光媒体層と支持体の間に機能性剥離層を設けることにより、熱や光を用いることなく支持体から剥離しやすくなり、また支持体表面の凹凸が有機発光媒体層に反映されにくくなるため、有機発光媒体層の膜均一性の向上した転写体を得ることができる。

また、本発明によれば、有機発光媒体層と支持体の間に機能性剥離層を設けて転写することにより、転写が従来の方法よりも容易となり、また転写の際に熱や光を用いることなく転写できるため、有機発光媒体層の機能低下が防止できると共に転写不良が低減し、発光効率や素子耐久性の向上した高品質の有機ＥＬ素子が得られ、転写工程後、電子輸送層を別途形成することなく有機ＥＬ素子を製造することができる。
また、製造された有機ＥＬ素子は、有機発光媒体層上に機能性剥離層を設けることにより、この機能性剥離層が電子輸送機能やホールブロック機能を備えているため、電子が効率良く有機発光媒体層へ伝達され、発光効率や素子耐久性に優れた有機ＥＬ素子が得られる。

以下、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ素子とその製造方法の例を図面に示し、詳細に説明する。

［第１の実施形態］
図１に、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の断面図を示す。本実施形態の有機ＥＬ素子は、被転写体７と、この上に設けられた有機発光媒体層３と、有機発光媒体層３上に設けられた機能性剥離層２と、陰極９とから概略構成されている。そして、この被転写体７は、透光性基板６と、この上に形成された陽極である透明導電層４と正孔輸送層５とから構成されている。

この透光性基板６とは、陽極である透明導電層４を支持するものであり、透明なガラス基板やプラスチック製のフィルム又はシートを用いることができる。そのなかでも、プラスチック製のフィルムが好ましい。プラスチック製のフィルムを用いることにより、巻き取りながら有機ＥＬ素子を製造できるため、安価に素子を提供することができる。このようなプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。
また、この透光性基板６の透明導電層４を成膜しない側が、画像等を視認する側に相当する場合には、透光性であると共に耐キズ性、耐反射性、耐酸化性を有する必要がある点から、セラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等のガスバリア性フィルムを積層してもよい。

また、透明導電層４としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下、「ＩＴＯ」という。）、オクチル酸インジウムの酸化物、アセトンインジウムの酸化物、アルミニウム、金、銀等の金属の半透明状蒸着物、ポリアニリン等の有機半導体を用いることができる。そのなかでも、ＩＴＯが好ましい。
このＩＴＯは、透光性基板６上に蒸着又はスパッタリング法により製膜することができる。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムの酸化物は、これらの前駆体を透光性基板６上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することができる。
この透明導電層４には、必要に応じてエッチングによりパターニングを行ったり、ＵＶ処理、プラズマ処理等により表面の活性化を行ってもよい。また、エッチングの代わりにニトロセルロース、ポリアミド、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等を絶縁層として印刷してもよい。
このような透明導電層４が積層された透光性基板６は、本発明のために特別に製造する必要はなく、導電層の抵抗率や光線透過率に合わせて市販の基材を用いることができる。

正孔輸送層５とは、正孔輸送材料を有する層であり、透明導電層４上に形成されるものである。
この正孔輸送層５に用いられる正孔輸送材料としては、例えば、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料が挙げられる。正孔輸送層５には必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。また、この正孔輸送層５の膜厚は、１０〜２００ｎｍであるのが好ましい。
この正孔輸送層５は、これらの正孔輸送材料をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独又は混合溶媒に溶解、分散させ、スピンコート、カーテンコート、バーコート、ワイヤーコート、スリットコート等のコーティング法により、透光性基板６上に塗布して形成することができる。また、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷方法等と組み合わせて、必要に応じてパターニングを行ってもよい。

この正孔輸送層５の上には、有機発光媒体層３が設けられている。この有機発光媒体層３は、発光体層のみの単層構造からなるものであってもよいし、発光体層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電荷輸送層等を設けた多層構造からなるものであってもよい。
この発光体層は、高分子発光材料を含むものであるのが好ましい。このような高分子発光材料としては、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフルオレン系、ＰＰＶ系、ＰＡＦ系等の高分子発光体を用いることができる。そのなかでも、熱的安定性、高量子効率、高キャリア移動度を有する点から、ＰＰＶ系材料が好ましく、ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン］（以下、「ＭＥＨ−ＰＰＶ」という。）が最も好ましい。
また、有機発光媒体層には必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。有機発光媒体層３の膜厚は単層又は多層構造のいずれの場合にも、１０００ｎｍ以下であり、好ましくは５０〜１５０ｎｍである。

有機発光媒体層３の上には、機能性剥離層２が設けられている。この機能性剥離層２とは、後述する本発明の転写法で有機ＥＬ素子を作製する際に、支持体から有機発光媒体層３を容易に剥離させるための機能を有するものであると共に、転写によりこの機能性剥離層２と有機発光媒体層３とが被転写体７上に転写、積層されると、電子輸送機能やホールブロック機能を発揮するものである。したがって、本発明における機能性剥離層２は、上述したような電子輸送機能等を有さない従来の剥離層とはまったく異なるものである。また、この剥離性は支持体との間でのみ発揮されるものであって、一旦有機ＥＬ素子に積層されてしまえば、剥がれることはない。

この機能性剥離層２は、電子輸送性材料又はホールブロック性材料を含有するのが好ましい。また、導電性材料を含有していてもよい。
機能性剥離層２に含まれる具体的な材料は、電子輸送性を有するものとしては、ポリピリジン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノサリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、カルボジイミド誘導体、フタロシアニン誘導体等の金属錯体、ポリシロール、含ボロンポリマー等が挙げられ、ホールブロック性を有するものとしては、フェナントロリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体等が挙げられ、導電性を有するものとしては、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）系、ＰＰＶ系、ＰＶＫ系、テトラチオフルバレン電荷移動錯体（ｔｅｔｒａｔｈｉｏｆｕｌｖａｌｅｎｅ ＴＴＦ電化移動錯体）、銅フタロ系、カーボン系、金属系が挙げられ、特にドーピングによって積極的に導電性を高めた材料が好ましい。これら/又は複数の材料と、シリコーン系、フッソ系、長鎖アルキル系ポリマー等支持体との密着性が弱い剥離性の材料との混合物、もしくは共重合体のように同じ分子内に含まれるような材料を用いることができる。混合する場合には、剥離性に優れ、かつ素子の効率を向上させる点から、ＰＰＶ系ポリマーとアルキル系ポリマーの混合物等が好ましい。
この機能性剥離層２の膜厚は、５〜２００ｎｍであり、２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜８０ｎｍがより好ましい。機能性剥離層の膜厚が薄すぎると、電子輸送性およびホールブロック性等の機能を発揮できないからであり、厚すぎると抵抗が高くなり通電しなくなるからである。

本発明における機能性剥離層２は、上述したように電子輸送機能を有するものであるから別途電子輸送層を設けることなく、陰極９がこの上に直接設けられている。この陰極９には、有機発光媒体層３の発光特性に合わせて、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀等の安定な金属との合金を用いることができる。また、これらを多層構造としてもよい。また、インジウム、亜鉛、錫等の導電性酸化物を用いることもできる。
この陰極９の膜厚は特に限定されないが、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましい。
この陰極９は、通常の抵抗加熱、ＥＢ過熱等の真空蒸着やスパッタ法等で、機能性剥離層２上に設けることができる。また、必要に応じてパターニングを行ってもよく、その際には、金属膜、セラミック膜の蒸着マスクを用いることができる。

本実施形態では、透明導電層４の上に正孔輸送層５が設けられた構造であるが、透明導電層４上に有機発光媒体層３が設けられた構成であってもよい。また、有機発光媒体層３や正孔輸送層５に、隣接する層と親和性のある材料を加え、発光機能または正孔輸送機能に加え、密着性を向上させることもできる。機能性剥離層２と陰極９の間にフッ化リチウム、フッ化セシウム等からなる電子注入層を設けてもよい。さらに、陰極９上に、絶縁性の無機物や樹脂等の保護層を設けてもよい。

本発明の有機ＥＬ素子は、有機発光媒体層３上に機能性剥離層２を設けることにより、この機能性剥離層２が電子輸送機能やホールブロック機能を備えているため、電子が効率良く有機発光媒体層３へ伝達され、発光効率や素子耐久性に優れた高品質なものである。

［第２の実施形態］
本発明の有機ＥＬ素子の製造に用いられる転写体１０とは、図２（ａ）に示したように支持体１上に、機能性剥離層２と有機発光媒体層３とを順次設けた構造からなる。支持体１の形状は特に限定するものではなく、シート状でもフィルム状であってもよい。印刷用のブランケットとして用いる場合は、円筒状のロール（胴）に巻きつけて用いることになる。この支持体１の表面は、この上に形成する有機発光媒体層３の膜均一性を得るという観点から、平坦であることが好ましく、十点平均粗さでＲｚ≦０．１μｍがより好ましい。

また、この支持体１は、化学的に安定であり耐溶剤性及び可撓性を有することが好ましい。この支持体１を構成する材料としては、有機発光媒体層３と機能性剥離層２を成膜することができ、かつ転写処理が可能である限りにおいては、どのような材料を用いてもよい。そのなかでも、高分子フィルムやゴムのようにある程度の柔軟性を有する材料が、均一に成膜できるという観点から好ましく、例えば、フッ素樹脂、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン−酢酸ビニレン共重合体、ポリエーテルスルホン、シリコーン系エラストマー、フッ素系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム又はこれらの混合物が挙げられる。
また、この支持体１の表面に、フッ素樹脂処理、シリコーン処理等を施してもよい。

この支持体１の上には、機能性剥離層２が設けられている。この機能性剥離層２は、含有する上述した材料又はこれらの混合物を、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独又は混合溶媒に溶解し、スピンコート法、カーテンコート法、バーコート法、ワイヤーコート法、スリットコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等のコーティング法もしくは印刷法により塗布することができる。この塗布は、有機発光媒体層の劣化を防ぐため、１５０℃以下で行い、必要に応じてパターニングを行って、減圧又は大気圧下で乾燥させる。

この機能性剥離層２の上には、有機発光媒体層３が設けられている。この有機発光媒体層３は、含有する上述した高分子発光材料を、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独又は混合溶媒に溶解し、あるいは分散させ、スピンコート法、カーテンコート法、バーコート法、ワイヤーコート法、スリットコート法等のコーティング法により塗布することができる。必要に応じて、版を用いてパターニングを行ってもよいし、支持体１自身に凹凸を設けることによりパターンを形成してもよい。また、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷方法等と組み合わせてパターンを形成してもよい。

本実施形態は、機能性剥離層２と有機発光媒体層３の二層構造からなるものであるが、この有機発光媒体層３の上にさらに正孔輸送層を設けることもできる。また、有機発光媒体層３に、さらに正孔輸送層も設ける場合には正孔輸送層に、被転写体７表面と親和性のある材料を加え、発光機能または正孔輸送機能に加え、転写時の密着性を向上させることもできる。

本発明の転写体１０は、支持体１上に機能性剥離層２を設けることにより、支持体１から容易に剥離できると共に支持体１表面の凹凸が、この機能性剥離層２の存在により有機発光媒体層３に反映されにくくなるため、成膜した有機発光媒体層３の膜均一性を向上させることができる。

［第３の実施形態］
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、支持体上１に機能性剥離層２と有機発光媒体層３とを順次設けた転写体１０を形成する工程と、この転写体１０から、有機発光媒体層３と機能性剥離層２を被転写体７に転写する工程とから構成される。図２に、第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を第３の実施形態として示す。図２（ａ）に示すように、まず転写体１０を形成する。本実施形態の転写体１０は、上述した第２の実施形態に係る転写体１０と同様に塗布等により支持体１上に塗布機能性剥離層２を設け、次いでその上に有機発光媒体層３を設けることで形成することができる。

次いで、図２（ｂ）に示すような被転写体７を形成する。本実施形態の被転写体７は、上述した第１の実施形態に係る被転写体７と同様に塗布等により透光性基板６上に透明導電層４と正孔輸送層５を設けることで形成することができる。

これら転写体１０と被転写体７とを形成した後、図２（ｃ）に示すように、転写体１０の支持体１が上方に、有機発光媒体層３が下方になるように転写体１０を反転させ、被転写体７と対面、接触させる。そして、支持体１の上から、ローラー等の加圧部材８により有機発光媒体層３と正孔輸送層５とを圧着させる。

次いで、図２（ｄ）に示すように、支持体１と機能性剥離層２との界面から剥離して、機能性剥離層２と有機発光媒体層３とを被転写体７上に転写する。この転写は圧着で行うことができ、熱や光を用いる必要がない。したがって、転写の際に、熱や光による有機発光媒体層３の損傷を防止することができる。

転写後、最上層には機能性剥離層２が存在する。この機能性剥離層２は電子輸送機能を有するものであるから、別途電子輸送層をこの上に設けることなく、蒸着等により陰極９を形成して図１に示す第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子とすることができる。また、必要に応じて支持体１、又は支持体１上の機能性剥離層２及び有機発光媒体層３、又は転写後の被転写体７上の機能性剥離層２及び有機発光媒体層３にはパターニングを行ってもよい。

本発明の製造方法では、有機発光媒体層３と支持体１の間に機能性剥離層２を設けることにより、転写の際に支持体１から機能性剥離層２及び有機発光媒体層３を剥離しやすくし、転写を従来の方法よりも容易とすることができる。

また、本発明の製造方法では、転写の際に熱や光を用いることなく転写できるため、有機発光媒体層３の機能低下が防止できると共に転写不良が低減し、発光効率や素子耐久性の向上した高品質の有機ＥＬ素子を得ることができる。

また、本発明の製造方法では、転写工程後、別途電子輸送層を形成する工程が不要となる。

［第４の実施形態］
図３に、有機ＥＬ素子の第４の実施形態に係る製造方法を示す。本実施形態では、図３（ａ）に示すように転写体１０の有機発光媒体層３の上に正孔輸送層５を形成し、図３（ｂ）に示すように被転写体７に正孔輸送層５又は正孔注入層３０を形成した以外は第３の実施形態と同様であるため、その説明は省略する。本実施形態によれば、四層以上の多層構造の有機ＥＬ素子を形成することができる。また、転写体１０の有機発光媒体層３の上に、正孔輸送層５として、被転写体７表面と親和性のある材料を含み、正孔輸送機能に加え、転写時の密着性も向上した正孔輸送層５を設けてもよく、逆に被転写体７上の正孔輸送層５あるいは正孔注入層３０にそのような密着性向上材料を含ませてもよい。

［第５の実施形態］
図４に、有機ＥＬ素子の第５の実施形態に係る製造方法を示す。本実施形態では、図４（ａ）に示すように転写体１０の支持体として、ロールに巻きつけたブランケット２０を用いた以外は、第３の実施形態と同様であるため、その説明は省略する。この場合は、加圧部材８を用いることなく、図４（ｃ）に示すように機能性剥離層２と有機発光媒体層３を備えたブランケット２０で被転写体７上を押圧して転写させることができる。

以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、下記実施例に何ら制限されるものではない。

［実施例１］
第３の実施形態に示すように、厚さ１００μmのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを支持体１とし、この上にアルキル系ポリマーとＰＰＰ系ポリマーの混合物をグラビア印刷法によりパターン状に印刷し、５０ｎｍの機能性剥離層２を形成した。
次いで、ＭＥＨ−ＰＰＶをグラビア印刷法によりパターン状に印刷し、１００ｎｍの有機発光媒体層３を製膜し、転写体１０を形成した。

次に、透明導材料であるＩＴＯ付きガラスから成る透光性基板６上のＩＴＯを所定のパターンにエッチングし、透明導電層４を形成した。その後、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物をグラビア印刷法によりパターン状に印刷し、５０ｎｍの正孔輸送層５を製膜し、被転写体７を形成した。

この転写体１０の有機発光媒体層３を、被転写体７の正孔輸送層５と対面するよう合わせ、加圧部材８により連続的に圧着させた後、支持体１を剥離し、機能性剥離層２及び有機発光媒体層３を転写した。
次いで、機能性剥離層２上にとしてフッ化リチウム及びアルミニウムを真空蒸着によりそれぞれ０．５ｎｍ、２００ｎｍ蒸着して陰極９を形成し、有機ＥＬ素子を得た。
この有機ＥＬ素子は、８Ｖで１００ｃｄ/ｍ^２のパターン化された発光を示した。

［実施例２］
厚さ０．５ｍｍのメチルシリコーンゴムを支持体１とし、この上にポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）とオキサジアゾール誘導体の混合物をグラビア印刷法によりパターン状に印刷し、５０ｎｍの機能性剥離層２を形成した。
次いで、ＭＥＨ−ＰＰＶをグラビア印刷法によりパターン状に印刷し、１００ｎｍの有機発光媒体層３を製膜し、転写体１０を形成した。

以下、実施例１と同様の方法で有機ＥＬ素子を形成した。
この有機ＥＬ素子は、８．２Ｖで１００ｃｄ/ｍ^２のパターン化された発光を示した。

［比較例１］
転写体１０に機能性剥離層２を設けない以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ素子を作製した。
この有機ＥＬ素子は、１１．５Ｖで１００ｃｄ/ｍ^２のパターン化された発光を示したが、幾つかの箇所では有機発光媒体層３に抜けがあり、ＩＴＯ４と陰極９が接触したために電圧を印加するとショートする箇所があった。

以上のように、本発明によれば、転写不良が低減し、発光効率や素子耐久性の向上した有機ＥＬ素子が得られることが確認された。

本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の断面図である。 第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法を示した概略図である。 本発明の有機ＥＬ素子の第４の実施形態に係る製造方法を示した概略図である。 本発明の有機ＥＬ素子の第５の実施形態に係る製造方法を示した概略図である。

符号の説明

１ 支持体
２ 機能性剥離層
３ 有機発光媒体層
７ 被転写体
９ 陰極
１０ 転写体

Claims (2)

1. 陽極と陰極との間に、有機発光媒体層と該有機発光媒体層上に設けられた機能性剥離層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に用いられる転写体であって、支持体と、この支持体上に順次設けられた前記機能性剥離層と前記有機発光媒体層とを有しており、
   前記機能性剥離層は、電子輸送性材料又はホールブロック性材料と、シリコーン系、フッソ系、長鎖アルキル系ポリマー等の前記支持体との密着性の弱い剥離性の材料との混合物または共重合体のように同じ分子内に含まれる材料を用いており、前記支持体から熱や光を用いることなく剥離できる機能を有する
   ことを特徴とする転写体。
2. 陽極と陰極との間に、有機発光媒体層と該有機発光媒体層上に設けられた機能性剥離層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
   前記機能性剥離層は、電子輸送性材料又はホールブロック性材料と、シリコーン系、フッソ系、長鎖アルキル系ポリマー等の支持体との密着性の弱い剥離性の材料との混合物または共重合体のように同じ分子内に含まれる材料を用いており、前記支持体から熱や光を用いることなく剥離できる機能を有しており、
   支持体上に前記機能性剥離層と前記有機発光媒体層とを順次設けた転写体を形成する工程と、
   この転写体から前記有機発光媒体層と前記機能性剥離層を被転写体に転写する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。

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