JP4581662B2 - 投影光学系及び露光装置並びにデバイスの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置に搭載され、開口の大きさを調整可能な絞り装置を有する投影光学系に関するものである。さらに、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露光装置に関するものである。加えて、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法に関するものである。

従来より、半導体素子、液晶表示素子等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程では、フォトマスク、レチクル等のマスクに形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等の感光性材料の塗布されたウエハ、ガラスプレート等の基板上に転写する露光装置が用いられている。この種の露光装置としては、いわゆるステッパ等の静止露光型の露光装置や、いわゆるスキャニング・ステッパ等の走査露光型の露光装置が、主として用いられている。

近年、デバイス、特に半導体素子においては、回路パターンの微細化が著しく、露光装置に対する高解像度化の要求も大きく高まっている。このような要求に対応するため、露光装置では、より短波長の露光光を用いるとともに、投影光学系の開口数を大きくする方向での開発が進められている。投影光学系の開口数は、投影光学系内の瞳面の近傍に配置された可変絞り装置によって、任意の大きさに変更することができる。

また、投影光学系を完全に設計通りに製造することは困難であり、実際に製造された投影光学系には、様々な要因で諸収差が残存してしまう。このため、実際に製造された投影光学系の光学特性は、設計上の光学特性と異なるものとなり、投影光学系の瞳面が湾曲したものとなることがある。このような湾曲した瞳面を有する投影光学系では、可変絞り装置を光軸方向の特定の位置に固定した場合、ある開口数においては理想の絞り位置と合致するとしても、他の開口数においては理想の絞り位置からずれてしまうことがある。

このような問題に対応するために、可変絞り装置の光軸方向の位置を調整可能にした光学系も開発されてきている。
この従来構成の光軸方向に位置調整可能な可変絞り装置は、マウントの内側に、そのマウントに装着されたモータにより回転される円環状のリングギアが配置されている。そして、リングギアの内側に、開口部の大きさを変更するためのアイリス絞りを挟持する内側リングと溝付リングとが保持されている。

リングギアには、内側リングの下面を覆うように光軸側へ突出する段部が形成されており、この段部の先端に配置された駆動ラグを介して内側リングが連結されている。そして、リングギアの回転が駆動ラグを介して内側リングに伝達され、アイリス絞りの開口部の大きさが調整されるようになっている。

また、リングギアには、溝付リングの外周面に形成された案内溝に係合する案内ラグが設けられている。そして、リングギアが回転されると案内ラグが案内溝内で変位して、溝付リング及び内側リングの光軸方向における位置が調整されるようになっている。（特許文献１参照）
特開２００１−１５４２３５号公報（第５−６頁、第２図）

ところが、前記従来構成においては、リングギアにおいての駆動ラグを保持するための段部が、内側リングの下面を覆うように光軸方向へ大きく突出しているため、絞り装置の大型化が避けられない。

また、リングギアにおいて、内側リングを回転させるための駆動ラグが光軸方向に沿って設けられているのに対して、内側リング及び溝付リングを光軸方向に変位させるための案内ラグが光軸と交差する方向に沿って設けられている。言い換えると、１つのリングギアから互いに直交する方向を指向する２つの軸を突出させる必要があって、軸同士及びその周辺構成の干渉を避けるため、絞り装置の大型化及び構成の複雑化が避けられない。

しかも、投影光学系のさらなる高解像度化を実現すべく、その投影光学系の瞳面の近傍に、複数の可変絞り装置を設けようとする場合に、前記従来構成を採用としようとすれば、構成のさらなる複雑化及び大型化が避けられず、ひいては投影光学系、さらには露光装置の大型化を招くという問題があった。

本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、大型化を抑制しつつ解像力が高められた投影光学系を提供することにある。さらに、その他の目的としては、露光精度を向上可能な露光装置を提供することにある。加えて、その他の目的としては、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することのできるデバイスの製造方法を提供することにある。

前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、マスクに形成された所定のパターンの像を基板に投影する投影光学系において、開口の大きさを調整可能な複数の絞り羽根のそれぞれを移動可能に保持する第１プレート部材と、前記第１プレート部材を相対移動可能に支持し、かつ前記第１プレート部材を当該投影光学系の光軸方向に移動可能な第２プレート部材と、前記第１プレート部材の側面に係合するとともに、前記第２プレート部材の側面に係合する係合部材と、前記係合部材に連結し、前記係合部材を介して、前記第１プレート部材を駆動するとともに前記第２プレート部材を駆動する駆動機構とを備えることを特徴とするものである。

この請求項１に記載の発明では、投影光学系の結像特性を高精度に調整することができ、露光精度を向上させることができる。また、第１プレートの側面及び第２プレートの側面に係合する係合部材が設けられており、その係合部材を介して駆動機構により第１プレート及び第２プレートが駆動されるようになっている。そして、第１プレート部材の駆動により複数の絞り羽根が移動され、開口の大きさが調整可能になっている。また、第２プレート部材の駆動により、第１プレート部材が投影光学系の光軸方向に移動可能となっている。

このように、開口の大きさを調整するための機構と、投影光学系の光軸方向の位置を調整するための機構とを、光軸側に大きく突出する部材を設けることなく、第１プレートの側面及び第２プレートの側面に係合する係合部材に設けることができる。このため、構成の簡素化を図ることができるとともに、大型化を抑制することができる。

また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記第１プレート部材は、前記第２プレート部材の前記光軸方向への移動に伴い、前記複数の絞り羽根を移動させて前記開口の大きさを調整することを特徴とするものである。

この請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の発明の作用に加えて、投影光学系の瞳面に湾曲が生じているような場合においても、湾曲した瞳面に沿って絞りを所望の開口数に設定しつつより好ましい位置に配置することができる。

また、請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記第１プレート部材は、前記第２プレート部材の前記光軸方向への移動に伴い、前記光軸を中心として前記第２プレート部材に対して回転することを特徴とするものである。

この請求項３に記載の発明では、請求項１または２に記載の発明の作用に加えて、複数の絞り羽根に形成される開口の大きさを、その絞り羽根の光軸方向の位置に連動させて調整することができる。

また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の発明において、前記駆動機構の駆動源が取り付けられる枠部材を有し、前記係合部材は、枠状に形成されるとともに、前記枠部材の内側に配置され、前記光軸を中心として、前記枠部材に対して回転することを特徴とするものである。

この請求項４に記載の発明では、請求項１〜３のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、係合部材を投影光学系の光軸を中心に回転させることで、複数の絞り羽根による開口の大きさの調整と、その複数の絞り羽根の光軸方向の位置の調整とを行うことができ、構成の簡素化を図ることができる。また、枠部材と係合部材とを、投影光学系の光軸を中心とする同心円状に、効率よく配置することができ、絞り装置の大型化を抑制することができる。

また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記係合部材は、前記開口の大きさを調整するための第１のカム機構の少なくとも一部と、前記第２プレート部材を前記光軸方向に移動させるための第２のカム機構の少なくとも一部とを有することを特徴とするものである。

この請求項５に記載の発明では、請求項４に記載の発明の作用に加えて、簡単な構成で、開口の大きさの調整と第２プレート部材の光軸方向の位置の調整とを行うことができ、絞り装置の構成の簡素化と大型化の抑制を実現することができる。

また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記第１のカム機構は第１のカム溝を有し、前記第２のカム機構は第２のカム溝を有することを特徴とするものである。

この請求項６に記載の発明では、係合部材に第１及び第２のカム溝を設けることで、請求項５に記載の発明の作用を実現することができ、さらなる絞り装置の構成の簡素化と大型化の抑制が可能となる。

また、請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のうちいずれか一項に記載の発明において、前記第１プレート部材は、前記光軸方向に所定間隔をおいて複数配列され、前記係合部材は、前記複数の第１プレート部材の側面にそれぞれ係合することを特徴とするものである。

この請求項７に記載の発明では、投影光学系内に複数の可変絞りを設けることで、投影光学系の結像特性を、１つの可変絞りを設けた場合に比べてより細かく調整することができ、例えば投影光学系の像面における線幅異常をより好適に補正することができるようになる。これにより、投影光学系の解像力を、さらに向上させることができる。

また、請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記複数の第１プレート部材は、前記開口の大きさを互いに異なる大きさに調整することを特徴とするものである。

この請求項８に記載の発明では、請求項７に記載の発明の作用に加えて、投影光学系の結像特性を一層細かく調整することができ、投影光学系の解像力をさらに向上させることができる。

また、請求項９に記載の発明は、マスクに形成された所定のパターンの像を基板に投影する投影光学系を備える露光装置において、前記投影光学系として、請求項１〜８のいずれか一項に記載の投影光学系が用いられることを特徴とするものである。

この請求項９に記載の発明では、投影光学系の結像特性を高精度に調整することができ、露光精度を向上させることができる。
また、請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記複数の絞り羽根は、前記投影光学系の瞳面に沿って移動することを特徴とするものである。

この請求項１０に記載の発明では、請求項９に記載の発明の作用に加えて、瞳面に沿って複数の絞り羽根の状態を調整することができ、光学系の結像特性を精度よく補正することができる。

また、請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の発明において、前記瞳面は、湾曲した瞳面であり、前記複数の絞り羽根は、前記湾曲した瞳面に沿って、前記開口の大きさを調整しつつ、前記投影光学系の光軸方向に移動することを特徴とするものである。

この請求項１１に記載の発明では、瞳面に湾曲している場合にも、請求項１０に記載の発明の作用を発揮させることができる。

また、請求項１２に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程は、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするものである。

この請求項１２に記載の発明では、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することができる。
次に、前記各請求項に記載の発明にさらに含まれる技術的思想について、それらの作用とともに以下に記載する。

（１） 前記複数の第１プレート部材が、単一の前記係合部材に係合するように設けられていることを特徴とする請求項７または８に記載の投影光学系。
従って、この（１）に記載の発明によれば、請求項７または８に記載の発明の作用に加えて、さらに小型化することができるという作用が奏される。

（２） 前記複数の第１プレート部材における前記光軸方向の相対位置を調整する位置調整機構を有することを特徴とする請求項７または８に記載の投影光学系。
従って、この（２）に記載の発明によれば、請求項７または８に記載の発明の作用に加えて、投影光学系の残存収差に応じて、複数の可変絞りの相対位置を細かく調整することで、投影光学系の結像特性をさらに高精度に補正することができるという作用が奏される。

（３） 前記湾曲した瞳面が、前記投影光学系の一部を構成する光学素子と干渉する場合には、前記湾曲した瞳面と前記光学素子とが干渉する部分で、前記複数の絞り羽根と前記光学素子との干渉を回避する干渉回避機構を備えることを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光装置。

従って、この（３）に記載の発明によれば、湾曲した瞳面と光学素子とが干渉する部分では、複数の絞り羽根と光学素子との干渉を回避させながら、開口の大きさのみを調整することができる。そして、湾曲した瞳面と光学素子とが干渉しない部分では、瞳面に沿って、開口の大きさを調整しつつ複数の絞り羽根の投影光学系の光軸方向における位置を調整することができるという作用が奏される。

以上詳述したように、本発明によれば、大型化を抑制しつつ解像力が高められた投影光学系を提供することができる。さらに、本発明によれば、露光精度を向上可能な露光装置を提供することができる。加えて、本発明によれば、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することのできるデバイスの製造方法を提供することができる。

（第１実施形態）
以下に、本発明の露光装置、光学系及び絞り装置を、半導体素子を製造する際のリソグラフィ工程で使用される露光装置、その投影光学系、その投影光学系に設けられる絞り装置に具体化した第１実施形態について図１〜図５に基づいて説明する。

図１は、本発明の露光装置２１を示す概略構成図である。図１に示すように、この露光装置２１は、マスクとしてのレチクルＲと基板としてのウエハＷとを一次元方向（ここでは、図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に同期移動しつつ、レチクルＲに形成された回路パターンを、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するようになっている。つまり、この露光装置２１は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。

露光装置２１は、光源２２、照明光学系２３、レチクルステージＲＳＴ、光学系としての投影光学系ＰＬ、ウエハステージＷＳＴを備えている。照明光学系２３は、光源２２からの露光光ＥＬによりレチクルＲを照明する。レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを保持する。投影光学系ＰＬは、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する。ウエハステージＷＳＴは、ウエハＷを保持する。

光源２２としては、パルス紫外光からなる露光光を出力するＡｒＦエキシマレーザ光源が用いられている。光源２２は、図示しないビームマッチングユニットを介して照明光学系２３に接続されている。

照明光学系２３は、不図示のＮＤフィルタ、ビーム整形光学系、振動ミラー、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ、リレーレンズ系、絞り機構、レチクルブラインド、コンデンサレンズを備える。そして、光源２２から出射された露光光ＥＬは、この照明光学系２３を通過することにより、レチクルＲのパターン面を均一な照度で照明する平行光に変換される。

投影光学系ＰＬとしては、ここでは、石英や螢石を光学硝材とした屈折光学素子（レンズ素子）のみから成る１／４、１／５、又は１／６縮小倍率の屈折光学系が使用されている。この投影光学系ＰＬは、屈折光学素子（レンズ素子）と反射光学素子（ミラー）とを組み合わせた反射屈折光学系（カタディオプトリック光学系）、あるいは、反射光学素子のみからなる反射光学系であってもよい。この投影光学系ＰＬの鏡筒２４は、気密構造を有している。そして、その鏡筒２４内には、低吸収性ガス（例えば空気（酸素）の含有濃度が１ｐｐｍ未満のクリーンな乾燥窒素ガスあるいはヘリウムガス）等が供給され、鏡筒内の酸素濃度及び水分量が所定値以下となるように保たれている。

投影光学系ＰＬは、複数のレンズエレメントで構成される第１光学系ＬＳ１と、同じく複数のレンズエレメントで構成される第２光学系ＬＳ２と、第１光学系ＬＳ１と第２光学系ＬＳ２との間に配置される絞り装置としての開口絞り２５とを含んでいる。この開口絞り２５は、開口数が可変であり、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳに沿って移動可能なように設けられている。

次に、開口絞り２５の構成について、図２〜図５に基づいて説明する。
図２は開口絞り２５を開口数が最大の状態で示す斜視図であり、図３は開口絞り２５を開口数が最小の状態で示す斜視図である。図２に示すように、開口絞り２５は、枠部材としての固定枠体３１と、係合部材としての可動枠体３２と、第１プレート部材としての矢車３３と、第２プレート部材としてのベースプレート３４とを備えている。

固定枠体３１は、円筒状をなしており、投影光学系ＰＬの鏡筒２４の一部を構成しており、その外面には駆動機構の駆動源としてのモータ３７がモータ固定ブロック３８を介して取り付けられている。

図４は、開口絞り２５の主要部を示す部分断面図である。図４に示すように、このモータ固定ブロック３８には、モータ３７の駆動軸３９に咬合する歯車４０が回転可能に固定されている。歯車４０の一部は、矩形状の開口部４１を通して固定枠体３１の内側に表出している。ここで、固定枠体３１の外表面とモータ固定ブロック３８との間には、開口部４１を取り囲むようにＯリング４２が挟持されており、固定枠体３１の内外におけるガスの流通が規制され、鏡筒２４内の気密性が保たれるようになっている。

図２に示すように、可動枠体３２は、円筒の枠状に形成されており、固定枠体３１の内部に収容されている。図４に示すように、可動枠体３２は、図示しないベアリングを介して固定枠体３１の底部の内壁面から突出形成された凸部４３上に保持されている。

可動枠体３２には、固定枠体３１の内部に表出した歯車４０に咬合する平歯車４６が固定されている。これにより、モータ３７が駆動されると、駆動軸３９からの駆動力は歯車４０を介して平歯車４６に伝達され、可動枠体３２が投影光学系ＰＬの光軸を中心として、固定枠体３１に対して回転するようになっている。また、この可動枠体３２の位置は、固定枠体３１に取着された位置センサ４７によって常時検出されるようになっている。

図２に示すように、可動枠体３２には、１つの第１のカム機構の一部を構成する第１のカム溝としての回転角制御溝４８と、３つの第２のカム機構の一部を構成する第２のカム溝としての斜行溝４９と、３つの長孔５０が形成されている。なお、図においては、作図の都合上、斜行溝４９及び長孔５０は、一部のみを示している。

回転角制御溝４８は、投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に延びるように形成されている。斜行溝４９は、最大開口数側から最小開口数側に向かう可動枠体３２の回転方向に向かって下がり勾配を有する斜状に形成されている。長孔５０は、斜行溝４９と同様に、可動枠体３２の回転方向に向かって上り勾配を有する斜状で、かつ幅広く開口するように形成されている。ここで、斜行溝４９及び長孔５０は、互いに所定の間隔をおいて、それぞれ光軸を中心とする中心角が１２０°間隔となるように形成されている。

図４に示すベースプレート３４は、円環状をなしており、可動枠体３２内に収容されている。ベースプレート３４の外周縁に形成された側壁部５３の上端には、矢車３３の側端部５４を図示しないベアリングを介して支持する支持溝５５が形成されている。

側壁部５３の側面には、可動枠体３２の斜行溝４９に係合する３つの第２のカム機構の一部を構成する斜行ベアリング５６が設けられている。また、図２に示すように、側壁部５３の側面における可動枠体３２の長孔５０と対応する位置には、３つのスライダ５７が取着されている。このスライダ５７は、長孔５０を通して、固定枠体３１の内周面上に光軸を中心とする中心角が１２０°間隔となる位置に、光軸と平行な方向に延びるように固定された回転規制レール５８に係合するようになっている。

これにより、モータ３７からの駆動力で可動枠体３２が回転されると、ベースプレート３４はスライダ５７と回転規制レール５８との係合により投影光学系ＰＬの光軸を中心とする回転が規制されているため、斜行ベアリング５６は斜行溝４９内を投影光学系ＰＬの光軸方向に移動することになる。このように、ベースプレート３４は、投影光学系ＰＬの光軸を中心とする回転が規制され、光軸方向のみの移動が許容されるようになっている。

図４に示す矢車３３は、円環状をなしており、ベースプレート３４と所定の隙間をもってかつ、相対移動可能に重合された状態で可動枠体３２内に収容されている。
図５は、矢車３３の平面図であり、複数の絞り羽根６１のうち１枚の動きを示した図である。図３及び図５に示すように、矢車３３の下面には、複数の絞り羽根６１が、光軸に直交する平面内で、光軸から見て放射状に移動可能に取着されている。

絞り羽根６１は、例えば内側が円弧状の輪郭を有しており、その内側の円弧の曲率は投影光学系ＰＬに要求される最大の開口数に対応する開口径と同一にする。小開口径のときは、絞り羽根６１の数と等しい角の数を有する多角形に近くなるが、近似的には所望の小開口径の開口絞り２５と見ることができ、絞り羽根６１の数を３以上、好ましくは５以上、さらに望ましくは８以上と多くすれば問題とならない。

絞り羽根６１は、矢車３３に対して外側の円弧の一端部で回転軸６２により回転可能に固定されている。その絞り羽根６１には、外側の円弧において回転軸６２から先端側に所定距離だけ離間した位置にガイドピン６３が突設されている。このガイドピン６３は、矢車３３に絞り羽根６１の数と同数設けられた斜状のガイド溝６４の１つに係合されている。ここで、ガイド溝６４は、最大開口数側から最小開口数側に向かう矢車３３の回転方向に向かって下がり勾配を有する斜状に形成されている。

図２に示すように、矢車３３の側面をなす側端部５４には、可動枠体３２の回転角制御溝４８に係合し、第１のカム機構の一部を構成する回転伝達ベアリング６５が設けられている。

これにより、モータ３７からの駆動力で可動枠体３２が回転されると、矢車３３は回転伝達ベアリング６５と回転角制御溝４８との係合により、可動枠体３２と同期して回転される。矢車３３が例えば図５の矢印Ｒ１の方向に回転されると、絞り羽根６１のガイドピン６３がガイド溝６４内で矢車３３に対して矢印Ｒ２に方向に相対移動され、絞り羽根６１は回転軸６２を中心に最小開口径側に回転される。

可動枠体３２の回転に伴いベースプレート３４が投影光学系ＰＬの光軸方向に移動することで、矢車３３も光軸方向に移動することになる。このとき、回転伝達ベアリング６５は、回転角制御溝４８内を投影光学系ＰＬの光軸方向に移動することになる。

そして、ここで、図１に示すように、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳが湾曲している場合には、可動枠体３２の回転角制御溝４８及び斜行溝４９の形状は、複数の絞り羽根６１により形成される開口の周縁がその湾曲している瞳面ＩＳに沿って移動するように形成されている。具体的には、例えば回転角制御溝４８及び斜行溝４９の少なくとも一方を、直線状ではなく、瞳面ＩＳの湾曲状態に応じて緩い円弧状をなすように形成する。

従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（ア） この開口絞り２５は、複数の絞り羽根６１のそれぞれを移動可能な矢車３３と、その矢車３３を支持し、かつ矢車３３を投影光学系ＰＬの光軸方向に移動可能なベースプレート３４とを備えている。また、この開口絞り２５は、矢車３３の側端部５４に設けられた回転伝達ベアリング６５に係合するとともに、ベースプレート３４の側壁部５３に設けられた斜行ベアリング５６に係合する可動枠体３２を備えている。そして、矢車３３とベースプレート３４とが、この可動枠体３２に連結されるモータ３７により、可動枠体３２を介して駆動されるようになっている。

このため、開口絞り２５における開口の大きさを調整するための機構と、投影光学系ＰＬの光軸方向の位置を調整するための機構とを、光軸に向かって大きく突出する部材を設けることなく、矢車３３及びベースプレート３４の側面に係合する可動枠体３２に設けることができる。このため、開口絞り２５の構成の簡素化を図ることができるとともに、大型化を抑制することができる。

（イ） この開口絞り２５においては、矢車３３の複数の絞り羽根６１が、ベースプレート３４の光軸方向への移動に伴い、開口の大きさを調整するようになっている。
このため、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳに湾曲が生じているような場合においても、湾曲した瞳面ＩＳに沿って開口絞り２５を所望の開口数に設定しつつより好ましい位置に配置することができる。

（ウ） この開口絞り２５では、矢車３３が、ベースプレート３４の光軸方向への移動に伴い、光軸を中心として回転するようになっている。
このため、複数の絞り羽根６１により形成される開口の大きさを、その絞り羽根６１の光軸方向の位置に連動させて調整することができる。

（エ） この開口絞り２５は、モータ３７が取り付けられる固定枠体３１を有している。また、矢車３３及びベースプレート３４を駆動させるための可動枠体３２が、固定枠体３１と同様の枠状に形成され、固定枠体３１の内側に配置され、投影光学系ＰＬの光軸を中心として固定枠体３１に対して回転されるようになっている。

このため、可動枠体３２を投影光学系ＰＬの光軸を中心に回転させることで、複数の絞り羽根６１による開口の大きさの調整と、その複数の絞り羽根６１の光軸方向の位置の調整とを行うことができ、構成の簡素化を図ることができる。また、固定枠体３１と可動枠体３２とを、投影光学系ＰＬの光軸を中心とする同心円状に、効率よく配置することができ、開口絞り２５の大型化を抑制することができる。

（オ） この開口絞り２５では、可動枠体３２に、開口の大きさを調整するための回転角制御溝４８と、ベースプレート３４を光軸方向に移動させるための斜行溝４９とが設けられている。

このため、回転角制御溝４８及び斜行溝４９といった簡単な構成のカム溝で、開口の大きさの調整とベースプレート３４の光軸方向の位置の調整とを行うことができ、開口絞り２５の構成の簡素化と大型化の抑制を実現することができる。

（カ） この投影光学系ＰＬでは、開口の大きさを可変とする絞り装置として、前記（ア）〜（オ）に記載の効果を有する開口絞り２５が用いられる。
このため、投影光学系ＰＬの大型化を抑制しつつ、投影光学系ＰＬの解像力を向上させることができる。

（キ） この投影光学系ＰＬでは、開口絞り２５の複数の絞り羽根６１が、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳに沿って移動するようになっている。
このため、開口絞り２５を所望の開口数に設定する際に、複数の絞り羽根６１による開口を所定の大きさに調整しつつ、複数の絞り羽根６１を瞳面ＩＳに沿って好適な光軸方向の位置に調整することができる。従って、投影光学系ＰＬの結像特性を精度よく調整することができる。そして、この投影光学系ＰＬを露光装置２１に搭載することで、その露光装置２１の露光精度を向上させることができる。

（第２実施形態）
つぎに、本発明の絞り装置の第２実施形態について、前記第１実施形態と異なる部分を中心に、図６及び図７に基づいて説明する。

図６は、第２実施形態の開口絞り２５における可動枠体３２の外周面の一部を示す部分展開図である。この第２実施形態の開口絞り２５においては、図６に示すように、可動枠体３２に形成された第２のカム機構の一部を構成する第２のカム溝としての斜行溝７１の形状が、前記第１実施形態の斜行溝４９とは異なったものとなっている。この斜行溝４９には、その最大開口数側部分に、投影光学系ＰＬの光軸を中心とする円の周方向に延びる干渉回避機構としての横行部７２が形成されている。

図７は、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳ’が湾曲しており、かつその瞳面ＩＳ’の最大開口数側部分が投影光学系ＰＬにおける第２光学系ＬＳ２の一部を構成するレンズエレメント７３に干渉している状態を示している。投影光学系ＰＬの大きさと光学設計との制約上、このような瞳面ＩＳ’とレンズエレメント７３との干渉を避けられないことがある。このような場合には、単純に開口絞り２５の複数の絞り羽根６１を瞳面ＩＳ’に沿って移動させることができない。

これに対して、図６に示すような横行部７２を有する斜行溝７１を備えた開口絞り２５では、複数の絞り羽根６１による開口の大きさと、複数の絞り羽根６１の投影光学系ＰＬの光軸方向の位置とが、次のように変化する。

すなわち、まず、開口絞り２５が最大開口数に設定されている場合には、ベースプレート３４に設けられた斜行ベアリング５６が、斜行溝７１における横行部７２の末端部７２ａに配置されている。この状態から、開口絞り２５の開口数を小さくすべく、モータ３７を駆動させて可動枠体３２を回転させると、斜行ベアリング５６は、横行部７２内を斜行部７４側へと可動枠体３２に対して相対移動することになる。

ここで、横行部７２では、斜行ベアリング５６に投影光学系ＰＬの光軸方向の変位が生じず、ベースプレート３４の光軸方向における位置は変化しない。この一方で、矢車３３は回転角制御溝４８と回転伝達ベアリング６５との係合により回転されるため、複数の絞り羽根６１は小開口径側に向かって回転されることになる。これにより、図７に二点鎖線で示すように、斜行ベアリング５６が横行部７２内を可動枠体３２に対して相対移動している状態では、開口絞り２５は、その光軸方向の位置が変化することなく、開口の大きさのみが瞳面ＩＳ’に向かって変化する。

やがて、複数の絞り羽根６１により形成される開口の輪郭が、レンズエレメント７３の近傍であって、そのレンズエレメント７３と干渉しない部分の瞳面ＩＳ’に到達すると、斜行溝７１内の斜行ベアリング５６は、横行部７２から斜行部７４へと移行する。斜行ベアリング５６が斜行部７４内を可動枠体３２に対して相対移動している状態では、ベースプレート３４が投影光学系ＰＬの光軸方向に移動されるようになる。そして、開口絞り２５は、瞳面ＩＳ’に沿って、矢車３３の回転により開口が小開口径化されるとともに、複数の絞り羽根６１の光軸方向の位置が変化されるようになる。

従って、本実施形態によれば、前記第１実施形態における（ア）〜（キ）に記載の効果に加えて、以下のような効果を得ることができる。
（ク） この開口絞り２５では、湾曲した瞳面ＩＳ’とレンズエレメント７３とが干渉する部分で、複数の絞り羽根６１とレンズエレメント７３との干渉を回避するために、可動枠体３２の斜行溝７１に横行部７２が設けられている。

このため、湾曲した瞳面ＩＳ’とレンズエレメント７３とが干渉する部分では、複数の絞り羽根６１とレンズエレメント７３との干渉を回避させながら、開口絞り２５の開口の大きさのみを調整することができる。そして、湾曲した瞳面ＩＳ’とレンズエレメント７３とが干渉しない部分では、瞳面ＩＳ’に沿って、開口絞り２５の開口の大きさを調整しつつ複数の絞り羽根６１の光学系の光軸方向における位置を調整することができる。

（第３実施形態）
つぎに、本発明の絞り装置の第３実施形態について、前記第１実施形態と異なる部分を中心に、図８及び図９に基づいて説明する。

図８（ａ）及び図８（ｂ）は、第３実施形態の絞り装置としての開口絞り８１の要部を示す部分断面図である。この第３実施形態の開口絞り８１においては、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、ベースプレート３４と矢車３３とが、複数組（本実施形態では二組）装備されている点で、前記第１実施形態の開口絞り２５とは異なっている。

すなわち、この開口絞り８１では、投影光学系ＰＬの物体面側に配置される物体面側絞り８２と、像面側に配置される像面側絞り８３とが、投影光学系ＰＬの光軸方向に所定の間隔をおいて配列されている。そして、物体面側絞り８２のベースプレート３４ｏと像面側絞り８３の３４ｉとは、単一の可動枠体３２に係合されている。

なお、この開口絞り８１において、投影光学系ＰＬの物体面側に配置される物体面側絞り８２と、像面側に配置される像面側絞り８３との構成は、ともに前記第１実施形態の開口絞り２５と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。

図９は、第３実施形態の開口絞り８１における可動枠体３２の外周面の一部を示す部分展開図である。図８（ａ）及び図９に示すように、この可動枠体３２には、物体面側絞り８２の矢車３３ｏの回転角を制御するための物体面側回転角制御溝４８ｏと、像面側絞り８３の矢車３３ｉの回転角を制御するための像面側回転角制御溝４８ｉとが１つずつ、投影光学系ＰＬの光軸方向にほぼ沿うように設けられている。なお、本実施形態では、物体面側回転角制御溝４８ｏがわずかに湾曲するように形成されており、像面側回転角制御溝４８ｉが若干勾配を有する斜めの直線状に形成されている。

また、可動枠体３２には、物体面側絞り８２のベースプレート３４ｏの投影光学系ＰＬにおける光軸方向の位置を調整するための物体面側斜行溝４９ｏと、像面側絞り８３のベースプレート３４ｉの投影光学系ＰＬにおける光軸方向の位置を調整するための像面側斜行溝４９ｉとが３つずつ形成されている。ここで、物体面側斜行溝４９ｏと像面側斜行溝４９ｉとは、ともに略Ｓ字状をなすとともに、１つずつが寄り添うように形成されている。また、物体面側斜行溝４９ｏと像面側斜行溝４９ｉとは、その間隔が可動枠体３２の回転角に応じて変化するように形成されている。

ここで、図８（ａ）は、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３の斜行ベアリング５６が、それぞれ物体面側斜行溝４９ｏ及び像面側斜行溝４９ｉにおける最大開口数側の末端部４９ａに配置された状態での開口絞り８１の状態を示している。この状態では、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３のいずれも最大開口数に設定されており、物体面側絞り８２の開口径φ１が像面側絞り８３の開口径φ２よりわずかに小さくなるように設定されている。

図８（ｂ）は、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３の斜行ベアリング５６が、それぞれ物体面側斜行溝４９ｏ及び像面側斜行溝４９ｉにおける最大開口数側と最小開口数側との中間部４９ｂに配置された状態での開口絞り８１の状態を示している。

この状態では、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３の絞り羽根６１ｏ，６１ｉが、投影光学系ＰＬの光軸側に突出されており、最大開口数よりも小さな開口数に設定されている。また、物体面側絞り８２の開口径φ１と像面側絞り８３の開口径φ２との差が、最大開口数に設定された状態での開口数φ１とφ２との差に比べて大きくなっている。この開口径φ１と開口径φ２との差は、物体面側回転角制御溝４８ｏと像面側回転角制御溝４８ｉとの形状の差により、物体面側絞り８２の矢車３３ｏの回転角と像面側絞り８３の矢車３３ｉの回転角とに差を生じさせることにより設定するようになっている。

また、物体面側絞り８２の複数の絞り羽根６１ｏと像面側絞り８３の複数の絞り羽根６１ｉとの間隔Ｌ２が、最大開口数に設定された状態で両絞り羽根６１ｏ，６１ｉの間隔Ｌ１より小さくなっている。このように、この開口絞り８１では、物体面側絞り８２と像面側絞り８３とが投影光学系ＰＬの光軸方向に移動されるのに伴って、物体面側絞り８２の複数の絞り羽根６１ｏと像面側絞り８３の複数の絞り羽根６１ｉとの間隔も調整されるようになっている。この両絞り羽根６１ｏ，６１ｉの間隔の調整は、可動枠体３２の各回転位置における物体面側斜行溝４９ｏと像面側斜行溝４９ｉとの間隔によって調整される。

従って、本実施形態によれば、前記第１実施形態における（ア）〜（キ）に記載の効果に加えて、以下のような効果を得ることができる。
（ケ） この開口絞り８１では、複数の絞り羽根６１ｏ，６１ｉを有する矢車３３ｏ，３３ｉが投影光学系ＰＬの光軸方向に所定間隔をおいて複数配列され、可動枠体３２が複数の矢車３３ｏ，３３ｉの側面にそれぞれ係合するようになっている。

このため、投影光学系ＰＬ内に、開口径を変更可能な物体面側絞り８２と像面側絞り８３とが設けられており、投影光学系ＰＬの結像特性を、１つの可変絞りを設けた場合に比べてより細かく調整することができる。これにより、例えば投影光学系ＰＬの像面における線幅異常をより好適に補正することができる。従って、投影光学系ＰＬの解像力を、さらに向上させることができる。

また、この開口絞り８１は、複数の可変絞り、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３を有しているにも関わらず、その構成が簡単であり、可変絞りの数を増やしたことによる開口絞り８１の大型化もほとんどない。その上、この開口絞り８１では、可変絞りの数をさらに増やそうとする場合、矢車３３とベースプレート３４との数を増やして、それら矢車３３とベースプレート３４との数に対応して、可動枠体３２に回転角制御溝４８及び斜行溝４９を形成するのみでよい。従って、この開口絞り８１は、投影光学系ＰＬ内に複数の可変絞りを設ける必要がある場合に、特に好適である。

しかも、露光装置２１の投影光学系ＰＬにこの開口絞り８１を装備することで、投影光学系ＰＬの大型化、ひいては露光装置２１の大型化を抑制しつつ、露光装置２１の露光精度を向上させることができる。

（コ） この開口絞り８１では、複数の矢車３３ｏ，３３ｉが、複数の絞り羽根６１ｏ，６１ｉにより形成される開口の大きさを互いに異なる大きさに調整するようになっている。

このため、投影光学系ＰＬの結像特性を一層細かく調整することができ、投影光学系ＰＬの解像力をさらに向上させることができる。
（サ） この開口絞り８１では、複数の矢車３３ｏ，３３ｉが、単一の可動枠体３２に係合するように設けられている。このため、複数の可変絞り、つまり物体面側絞り８２及び像面側絞り８３を有する開口絞り８１を、さらに小型化することができる。また、物体面側絞り８２及び像面側絞り８３を、１つのユニットとして取り扱うことができて、投影光学系ＰＬの製造時に便利である。

（シ） この開口絞り８１では、可動枠体３２に、物体面側絞り８２における複数の絞り羽根６１ｏと像面側絞り８３における複数の絞り羽根６１ｉとの光軸方向の相対位置を調整可能なように物体面側斜行溝４９ｏと像面側斜行溝４９ｉとが形成されている。このため、投影光学系ＰＬの残存収差に応じて、物体面側絞り８２における複数の絞り羽根６１ｏと像面側絞り８３における複数の絞り羽根６１ｉとの相対位置を細かく調整することで、投影光学系ＰＬの結像特性をさらに高精度に補正することができる。

（変形例）
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
・ 前記第１及び第２実施形態では、可動枠体３２に１つの回転角制御溝４８を設ける構成としたが、２つ以上の回転角制御溝４８を設ける構成としてもよい。

・ 前記第１及び第２実施形態では、可動枠体３２に３つの斜行溝４９，７１を設ける構成としたが、１つ、２つまたは４つ以上の斜行溝４９，７１を設ける構成としてもよい。

・ 前記第３実施形態では、可動枠体３２内に二組の可変絞り、つまり物体面側絞り８２と像面側絞り８３とを設ける構成としたが、可動枠体３２内に三組以上の可変絞りを設ける構成としてもよい。この場合、可変絞りの組数に応じて、可動枠体３２に形成する回転角制御溝４８、斜行溝４９の数を調整する必要がある。

・ 前記各実施形態において、開口絞り２５，８１内に、固定絞りを設けてもよい。
・ 回転角制御溝４８，４８ｏ，４８ｉ及び斜行溝４９，４９ｏ，４９ｉ，７１の形状は、前記各実施形態に記載のものに限定されるものではなく、投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳ，ＩＳ’の形状及び投影光学系ＰＬの瞳面ＩＳ，ＩＳ’と投影光学系ＰＬの光学素子との干渉状態に応じて適宜変更してもよい。

・ 前記各実施形態においては、本発明の開口絞り２５，８１を、露光装置２１の投影光学系ＰＬ内に配置するものとしたが、例えば露光装置２１の他の光学系、例えば照明光学系２３、ＢＭＵ内のリレー光学系等の内部に配置するようにしてもよい。また、本発明の開口絞り２５，８１は、露光装置２１の光学系に限らず、例えばカメラ、ビデオカメラ、望遠鏡、顕微鏡、光学センサ、測長機、各種光源装置、レーザ干渉計、映写機、プロジェクタ等の他の光学機械の光学系に装着することができる。

・ また、露光装置２１の光源２２としては、前記実施形態に記載のＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）の他、例えばＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ_２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ_２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ_２レーザ（１２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバーレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。

・ 前記各実施形態では、本発明を半導体素子製造用の走査露光型の露光装置に具体化したが、例えばステップ・アンド・リピート方式により一括露光を行う露光装置に具体化してもよい。

また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。

もちろん、半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置にも、本発明を適用することができる。また、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などにも本発明を適用することができる。

露光装置として、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に液体（例えば純水など）が満たされる液浸型露光装置にも適用できる。
なお、本発明の露光装置２１は、例えば以下の方法で製造することができる。すなわち、複数のレンズ、ミラー等の光学素子から構成される照明光学系２３、投影光学系ＰＬを露光装置本体に組み込み光学調整する。また、多数の機械部品からなるレチクルステージＲＳＴやウエハステージＷＳＴを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、さらに総合調整（電気調整、動作確認等）を行う。また、露光装置２１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

前記実施形態における照明光学系２３の各レンズ及び投影光学系ＰＬの各レンズエレメントの硝材としては、蛍石、石英などの他、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、リチウム−カルシウム−アルミニウム−フロオライド、及びリチウム−ストロンチウム−アルミニウム−フロオライド等の結晶や、ジルコニウム−バリウム−ランタン−アルミニウムからなるフッ化ガラスや、フッ素をドープした石英ガラス、フッ素に加えて水素もドープされた石英ガラス、ＯＨ基を含有させた石英ガラス、フッ素に加えてＯＨ基を含有した石英ガラス等の改良石英等も適用することができる。

次に、上述した露光装置２１をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイス（以下、単に「デバイス」という）の製造方法の実施形態について説明する。
図１０は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。図１０に示すように、まず、ステップＳ２０１（設計ステップ）において、デバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ２０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レクチルＲ等）を製作する。一方、ステップＳ２０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。

次に、ステップＳ２０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ２０１〜Ｓ２０３で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ２０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ２０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ２０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入等）等の工程が必要に応じて含まれる。

最後に、ステップＳ２０６（検査ステップ）において、ステップＳ２０５で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。

図１１は、半導体デバイスの場合における、図１０のステップＳ２０４の詳細なフローの一例を示す図である。図１１において、ステップＳ２１１（酸化ステップ）では、ウエハＷの表面を酸化させる。ステップＳ２１２（ＣＶＤステップ）では、ウエハＷ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ２１３（電極形成ステップ）では、ウエハＷ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ２１４（イオン打込みステップ）では、ウエハＷにイオンを打ち込む。以上のステップＳ２１１〜Ｓ２１４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。

ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ２１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハＷに感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ２１６（露光ステップ）において、先に説明したリソグラフィシステム（露光装置）によってマスク（レチクルＲ）の回路パターンをウエハＷ上に転写する。次に、ステップＳ２１７（現像ステップ）では露光されたウエハＷを現像し、ステップＳ２１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ２１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。

これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハＷ上に多重に回路パターンが形成される。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップＳ２１６）において上記の露光装置が用いられ、真空紫外域の露光光により解像力の向上が可能となり、しかも露光量制御を高精度に行うことができる。従って、結果的に最小線幅が０．１μｍ程度の高集積度のデバイスを歩留まりよく生産することができる。

本発明の露光装置を示す概略構成図。 第１実施形態の開口絞りを、開口数が最大の状態で示す斜視図。 図２の開口絞りを、開口数が最小の状態で示す斜視図。 図２の開口絞りの主要部を示す部分断面図。 図２の矢車と、複数の絞り羽根のうち１枚の動きを示す平面図。 第２実施形態の開口絞りの可動枠体の外周面の一部を示す部分展開図。 投影光学系の瞳面の最大開口数側部分が投影光学系の光学素子に干渉している状態を示す説明図。 第３実施形態の開口絞りにおいて、（ａ）は最大開口数側に配置された状態を、（ｂ）は最大開口数側と最小開口数側との中間位置に配置された状態を、それぞれ示す部分断面図。 図８の可動枠体の外周面の一部を示す部分展開図。 マイクロデバイスの製造例のフローチャート。 半導体素子の場合における図１０の基板処理に関する詳細なフローチャート。

符号の説明

２１…露光装置、２５，８１…絞り装置としての開口絞り、３１…枠部材としての固定枠体、３２…係合部材としての可動枠体、３３，３３ｉ，３３ｏ…第１プレート部材としての矢車、３４，３４ｉ，３４ｏ…第２プレート部材としてのベースプレート、３７…駆動機構の駆動源としてのモータ、４８…第１のカム機構の一部を構成する第１のカム溝としての回転角制御溝、４８ｉ…第１のカム機構の一部を構成する第１のカム溝としての像面側回転角制御溝、４８ｏ…第１のカム機構の一部を構成する第１のカム溝としての物体面側回転角制御溝、４９…第２のカム機構の一部を構成する第２のカム溝としての斜行溝、４９ｉ…第２のカム機構の一部を構成する第２のカム溝としての像面側斜行溝、４９ｏ…第２のカム機構の一部を構成する第２のカム溝としての物体面側斜行溝、５６…第２のカム機構の一部を構成する斜行ベアリング、６１，６１ｉ，６１ｏ…絞り羽根、６５…第１のカム機構の一部を構成する回転伝達ベアリング、ＩＳ，ＩＳ’…瞳面、ＰＬ…光学系としての投影光学系、Ｒ…マスクとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。

Claims (12)

1. マスクに形成された所定のパターンの像を基板に投影する投影光学系において、
   開口の大きさを調整可能な複数の絞り羽根のそれぞれを移動可能に保持する第１プレート部材と、
   前記第１プレート部材を相対移動可能に支持し、かつ前記第１プレート部材を当該投影光学系の光軸方向に移動可能な第２プレート部材と、
   前記第１プレート部材の側面に係合するとともに、前記第２プレート部材の側面に係合する係合部材と、
   前記係合部材に連結し、前記係合部材を介して、前記第１プレート部材を駆動するとともに前記第２プレート部材を駆動する駆動機構とを備えることを特徴とする投影光学系。
2. 前記第１プレート部材は、前記第２プレート部材の前記光軸方向への移動に伴い、前記複数の絞り羽根を移動させて前記開口の大きさを調整することを特徴とする請求項１に記載の投影光学系。
3. 前記第１プレート部材は、前記第２プレート部材の前記光軸方向への移動に伴い、前記光軸を中心として前記第２プレート部材に対して回転することを特徴とする請求項１または２に記載の投影光学系。
4. 前記駆動機構の駆動源が取り付けられる枠部材を有し、前記係合部材は、枠状に形成されるとともに、前記枠部材の内側に配置され、前記光軸を中心として、前記枠部材に対して回転することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の投影光学系。
5. 前記係合部材は、前記開口の大きさを調整するための第１のカム機構の少なくとも一部と、前記第２プレート部材を前記光軸方向に移動させるための第２のカム機構の少なくとも一部とを有することを特徴とする請求項４に記載の投影光学系。
6. 前記第１のカム機構は第１のカム溝を有し、前記第２のカム機構は第２のカム溝を有することを特徴とする請求項５に記載の投影光学系。
7. 前記第１プレート部材は、前記光軸方向に所定間隔をおいて複数配列され、前記係合部材は、前記複数の第１プレート部材の側面にそれぞれ係合することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の投影光学系。
8. 前記複数の第１プレート部材は、前記開口の大きさを互いに異なる大きさに調整することを特徴とする請求項７に記載の投影光学系。
9. マスクに形成された所定のパターンの像を基板に投影する投影光学系を備える露光装置において、
   前記投影光学系として、請求項１〜８のいずれか一項に記載の投影光学系が用いられることを特徴とする露光装置。
10. 前記複数の絞り羽根は、前記投影光学系の瞳面に沿って移動することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
11. 前記瞳面は、湾曲した瞳面であり、前記複数の絞り羽根は、前記湾曲した瞳面に沿って、前記開口の大きさを調整しつつ、前記投影光学系の光軸方向に移動することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
12. リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
    前記リソグラフィ工程は、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。

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