JP4590205B2 - ミラー保持方法、光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれていて、前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されるようにし、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面に投影された前記光照射領域の中心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とするミラー保持方法である。
前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれていて、前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されるようにし、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面における前記光照射領域の重心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とするミラー保持方法である。
前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されていて、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面に投影された前記光照射領域の中心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とする光学装置である。
前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されていて、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面における前記光照射領域の重心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とする光学装置である。
2 レチクルステージ
3 ウエハステージ
4 ウエハ
5 鏡筒
6 投影光学系
10 ミラー
11 ミラー支持部材
12 ミラー保持部材
13 球
14 V溝
15 ミラー位置制御機構
20 露光光照射領域
21 ミラー保持点の対称軸
22 露光光照射領域の対称軸
L 露光光
Claims (8)
- ミラーをミラー保持機構で保持するミラー保持方法であって、
前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれていて、前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されるようにし、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面に投影された前記光照射領域の中心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とするミラー保持方法。 - ミラーをミラー保持機構で保持するミラー保持方法であって、
前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれていて、前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されるようにし、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面における前記光照射領域の重心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とするミラー保持方法。 - 前記ミラーは極紫外線を反射するミラーであることを特徴とする請求項1または2に記載のミラー保持方法。
- ミラーと、ミラー保持機構とを有し、前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれている光学装置であって、
前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されていて、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面に投影された前記光照射領域の中心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とする光学装置。 - ミラーと、ミラー保持機構とを有し、前記ミラーの光軸に直交する平面に投影された前記ミラーにおける光照射領域の中心が前記平面における前記ミラーの重心とずれている光学装置であって、
前記平面に投影された前記光照射領域の対称軸に関し、前記平面に投影された前記ミラー保持機構のミラー保持点が対称に配されていて、
前記ミラー保持点は、3点からなり、前記平面における前記光照射領域の重心と前記平面に投影された前記3点とを結ぶ方向は、互いにほぼ120度ずれている、
ことを特徴とする光学装置。 - 前記ミラーは極紫外線を反射するミラーであることを特徴とする請求項4または5に記載の光学装置。
- 請求項4乃至6のいずれか一項に記載の光学装置を有し、前記光学装置を介して基板を露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項7に記載の露光装置により基板を露光する段階と、前記段階で露光された基板を現像する段階とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004141240A JP4590205B2 (ja) | 2003-05-14 | 2004-05-11 | ミラー保持方法、光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003135931 | 2003-05-14 | ||
JP2004141240A JP4590205B2 (ja) | 2003-05-14 | 2004-05-11 | ミラー保持方法、光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004363571A JP2004363571A (ja) | 2004-12-24 |
JP2004363571A5 JP2004363571A5 (ja) | 2007-06-21 |
JP4590205B2 true JP4590205B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=34067226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004141240A Expired - Fee Related JP4590205B2 (ja) | 2003-05-14 | 2004-05-11 | ミラー保持方法、光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4590205B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006245374A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Nikon Corp | Euv露光装置の調整方法 |
WO2007010011A2 (en) * | 2005-07-19 | 2007-01-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical element module |
WO2007105406A1 (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP5116726B2 (ja) * | 2009-06-01 | 2013-01-09 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
KR101644213B1 (ko) | 2009-09-08 | 2016-07-29 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 낮은 표면 형상 변형을 갖는 광학 요소 |
CN115629462B (zh) * | 2022-12-07 | 2023-03-17 | 山西汉威激光科技股份有限公司 | 一种半自动化镜片安装调节结构及其方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003218023A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-31 | Nikon Corp | X線反射鏡、x線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2004031958A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 反射鏡の熱変形の制御システム及び露光装置 |
-
2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004031958A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Nikon Corp | 反射鏡の熱変形の制御システム及び露光装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004363571A (ja) | 2004-12-24 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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