JP4580537B2 - Xyステージ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はスライダがXY軸方向に直線運動するXYステージに係り、特にステージ高を低く抑えたものに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の直交座標対応ステージ(以下、XYステージという)を図7に示す。Xステージ5はX軸ガイド1と、その上にX軸スライダ2をX軸方向に移動自在に設けて成る。Yステージ6は、X軸スライダ2と、それにY軸ガイド3を固着し、そのY軸ガイド3上にY軸スライダ4をY軸方向に移動自在に設けて成る。このように同様な構造のXステージ5およびYステージ6を縦方向に積み重ねて、Yステージ6上に載せた物体をXY軸方向に移動できるように構成している。なお、図8は図7の矢視図であり、(a)はA矢視図、(b)はB矢視図である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来のXYステージは、各ステージ5、6にガイド1、3及びスライダ2、4がそれぞれ別個に必要になっており、これらを縦方向ないし厚さ方向に積み重ねて構成してある。このためXYステージの高さは、各ステージの高さL1、L2をそのまま足した高さとなる。その結果、次のような問題があった。
【0004】
(1)高さ方向の寸法低減ができないため、XYステージを取り巻く装置やユニットがコンパクト化できず、材料、工数の削減ができない。
【0005】
(2)ステージの積み重ねによる精度誤差の発生原因が増加するため、安定した位置決め精度が保証できず、製品の歩留まりも減少する。
【0006】
(3)XYステージ上にさらに他のステージを取り付ける場合、さらにステージ高が高くなるため、外観上すっきりせず、メンテナンス性が悪化する。
【0007】
本発明の課題は、上述した従来技術の問題点を解消して、高さを抑え、安定した位置決め精度が保証でき、しかも他のステージ等をXYステージ内に収納することが可能なXYステージを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
第1の手段は、X軸方向に互いに対向して設けられた一対のガイドレールと、前記一対のガイドレールに係合され、前記ガイドレールに沿ったX軸方向の移動が許容されて、Y軸方向の移動が規制されるX軸スライダと、前記X軸スライダを囲むように装着されるとともに、前記X軸スライダの下面側に開口を形成するように折り返された折返し部を有し、前記一対のガイドレール間でX軸スライダに対するY軸方向の移動が許容され、前記X軸スライダにY軸ガイド機能をもたせて当該Y軸ガイド機能によりY軸方向に移動するとともに、前記X軸スライダに対するX軸方向の移動が規制されてX軸スライダがX軸方向に移動するとそれに伴ってX軸方向に移動するY軸スライダと、を主たる構成要素として構成されるXYステージであって、前記一対のガイドレールと前記X軸スライダとの間、及び前記X軸スライダとY軸スライダとの間にガスを供給して、ガス圧によって前記X軸スライダ及び前記Y軸スライダを支持する静圧ガス軸受を有し、前記X軸スライダに、該X軸スライダに対して前記Y軸スライダが往復移動する範囲に亘って凹溝ないし開口部を設け、前記Y軸スライダに、前記X軸スライダの凹溝ないし開口部と連通する開口部を設け、前記X軸スライダの凹溝ないし開口部と連通するY軸スライダの開口部及び前記X軸スライダの凹溝ないし開口部に、θ軸、Z軸などのステージ(X軸ステージおよびY軸ステージは除く)又はピックアップなどのユニットを収納可能としたことを特徴とするXYステージである。
【0009】
第1の手段によれば、X軸スライダにY軸スライダを囲むように装着するので、XステージにYステージを積み上げるものに比べて、XYステージの高さを抑えることができる。また、XYステージの積み上げによる精度誤差の発生原因も減少するため、安定した位置決め精度が保証できる。また、X軸スライダ及びY軸スライダを支持する軸受を静圧ガス軸受としたので、ボールベアリングで接触支持するものと異なり、支持が非接触となるのでより安定した位置決め精度が保証できる。また、Y軸スライダ、又はY軸スライダ及びX軸スライダに開口部を設けたので、この開口部に他のステージまたはユニットを積み上げることなく収納することができる。
【0010】
第2の手段は、第1の手段にかかるXYステージにおいて、前記静圧ガス軸受に代えて磁気軸受を備えたXYステージである。これによれば、軸受を磁気軸受としたので、静圧ガス軸受と異なり真空中でも機能する。
【0011】
第3の手段は、前記X軸スライダ及び前記Y軸スライダを移動させる駆動源を備え、該駆動源をリニアモータとした第1または第2の手段にかかるXYステージである。これによれば、X軸スライダ及び前記Y軸スライダを移動させる駆動源としたので、ボールネジ機構と比べて、一層安定した位置決め精度が保証できる。
【0013】
第4の手段は、前記開口部に前記θ軸、Z軸などのステージ又はピックアップなどのユニットが収納されている第1乃至第3の手段にかかるXYステージである。これによれば、Y軸スライダ、又はY軸スライダ及びX軸スライダの開口部にθ軸、Z軸などのステージまたはユニットが収納されているので、ステージ高を抑えることができ、外観上もすっきりした状態になり、装置のメンテナンス性も向上する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を説明する。図1は本実施の形態によるXYステージの基本構成を示す斜視図である。XYステージは、一対のガイドレール10と、X軸スライダ20と、Y軸スライダ30とから主に構成される。これらに使用する材料は、例えば、アルミニウム、鉄、グラナイト(御影石)、セラミックス等である。
【0015】
一対のガイドレール10は互いに対向するガイド溝11を持ち、X軸方向に延在して平行に設けられる。一対のガイドレール10は図示しない定盤に固定される。
【0016】
一対のガイドレール10の間にX軸スライダ20が係合される。X軸スライダ20は矩形平板状をしており、その両端部がそれぞれ対向するガイド溝11に嵌め込まれて係合され、ガイド溝11に沿ってX軸方向の移動は許容されるが、Y軸方向の動きは規制されるようになっている。したがってX軸スライダ20は一対のガイドレール10に沿ってX軸方向に往復運動できる。
【0017】
なお、ガイドレール10に設けたガイド溝11をX軸スライダ20側に設け、ガイドレール10側にX軸スライダ20に設けたガイド溝に嵌まる凸条を設けるようにしてもよい。ガイドレール10とX軸スライダ20との係合部は、後述する3つの面で支持されていればよく、ガイド溝の形状は問わない。
【0018】
前記X軸スライダ20を囲むようにY軸スライダ30が装着されている。Y軸スライダ30は、矩形平板状のX軸スライダ20の断面形状に合致するように、断面略コ字型をしている。その略コ字型をしたY軸スライダ30の開口部32が内側に折り返されて折返し部31が形成されている。X軸スライダ20への装着は、略コ字型の開口部32を下にして、その折返し部31でX軸スライダ20の下面を支える格好になっている。なお、Y軸スライダ30は上部が開口していてもよく、さらには全く開口していない断面略ロ字型をしたものでもよい。
【0019】
これによりガイド溝11に係合するX軸スライダ20の幅方向の両端部は、Y軸スライダ30によって上面、側面、下面の3面が支持される。そしてY軸スライダ30はX軸スライダ20に装着されることにより、X軸スライダ20に対してX軸方向の動きが規制されて、X軸スライダ20がX軸方向に移動するとそれに伴ってX軸方向に移動する。また、X軸スライダ20に対してY軸方向の動きが許容されて、X軸スライダ20に対してY軸方向に移動できるようになっている。X軸スライダ20はスライドするだけでなく、X軸スライダ20に対してY軸スライダ30をY軸方向に移動させるガイドも兼ねている。また、Y軸スライダ30の上部が、XY軸運動をさせる対象を載せるトッププレートとなる。
【0020】
この実施の形態では、X軸スライダ20及びY軸スライダ30を支持するのに静圧ガス軸受を用いている。これを図2で説明する。
【0021】
図2(a)は図1のA矢視図である。一対のガイドレール10のガイド溝11とX軸スライダ20との間に静圧ガス軸受40が設けられる。静圧ガス軸受40は3面支持としている。X軸スライダ20両端部の上面、側面、下面にガス噴出口41が設けられ、ガイドレール10のガイド溝11の前記三面に対応する溝の上面、側面、下面でガス噴出口41から噴出されるガスを受け止めるようになっている。下面でX軸スライダ20、Y軸スライダ30及びY軸スライダ30上に載るユニット等の総重量を支え、上面でX軸スライダ20のZ軸方向の移動を拘束し、側面でX軸スライダ20のY軸方向の移動を拘束する。これにより、X軸スライダ20を一対のガイドレール10に沿ってY軸方向に非接触で往復移動自在としている。
【0022】
また、図2(b)は図1のB矢視図である。同様にして、X軸スライダ20とY軸スライダ30との間にも静圧ガス軸受53が設けられる。静圧ガス軸受53は3面支持としている。Y軸スライダ30の両端内側の上面、側面、下面にガス噴出口51が設けられ、X軸スライダ20の前記3面に対応する両端の上面、側面、下面でガス噴出口51から噴出されるガスを受け止めるようになっている。
上面でY軸スライダ30及びY軸スライダ30上に載るユニット等の総重量を支え、下面でY軸スライダ30のZ軸方向の移動を拘束し、側面でY軸スライダ30のX軸方向の移動を拘束する。これによりY軸スライダ30をX軸スライダ20に沿ってY軸方向に非接触で往復移動自在としている。
【0023】
ガス噴出口41、51は、X軸スライダ20またはY軸スライダ30の移動方向に沿って多数設けられる。また、ガスとしては空気がよい。空気などのガスを一定の圧力でガス噴出口41、51から吹き出すことにより、X軸スライダ20及びY軸スライダい30のバランスをとり非接触の往復運動を可能とする。
【0024】
上記実施の形態によれば、X軸スライダ20に略コ字型のY軸スライダ30を囲むように装着するので、XステージにYステージを積み上げるものに比べて、装置の高さを低く抑えることができる。Y軸スライダ30の上面34がトッププレートになるが、その上面34と一対のガイドレール10の上面12を面一にして、さらにXYステージの高さを低くすることもできる。図示例の場合には、トッププレートに載るユニットが一対のガイドレール10に跨がることを考慮して、両者の高差を数mmから数十mm程度とってある。また、Y軸スライダ30と定盤50とが接触して、定盤50がY軸スライダ30の移動を損なわないように、Y軸スライダ30は定盤50の上面から浮かして支持している。なお、定盤50の上面を削り取ったり、定盤50に開口部を設けるようにしてもよい。
【0025】
また、X軸スライダ20の外周にY軸スライダ30を装着し、Xステージ内にYステージを組み込むようにして、X軸スライダにY軸ガイドの機能をもたせて、専用のY軸ガイドを排するようにした。そのため、XYステージの積み上げによる精度誤差の発生原因も減少するため、XYステージとして安定した位置決め精度が保証できる。また、X軸スライダ20及びY軸スライダ30を移動させる駆動源を静圧ガス軸受40、50としたので、ボールベアリングで接触支持するものと異なり、支持が非接触となるのでより安定した位置決め精度が保証できる。特に、ガスに空気を使用すれば実施化が容易であり、経済的である。
【0026】
また、定盤50に対するY軸スライダ30の上面34の高さは、一対のガイドレール10の上面12の高さよりも若干高いか、同一高さとする。Y軸スライダ30の高さをガイドレール10よりも低くすると、Y軸スライダ30の上面の静圧ガス軸受の形成が困難になるからである。
【0027】
図3は、図1の基本構成に、X軸スライダ20及びY軸スライダ30の駆動源を組込んだ、より具体的なXYステージの斜視図である。駆動源として、より高精度なリニアモータを使用している。なおリニアモータに代えてボールネジ機構としてもよい。X軸スライダ20を移動させるX軸リニアモータ60は一対のガイドレール10間に設けてある。ロッド状の固定子61に装着されたX軸リニアモータ60の可動子62をX軸スライダ20の下部に固着することで、X軸スライダ20を往復動自在としている。また、Y軸スライダ30を往復移動させるY軸リニアモータ70は、X軸スライダ20に凹み21を設けて、その凹み21にY軸リニアモータ70を収納することで、ステージ高を抑えるようにしてある。
【0028】
図3では、便宜上、XY軸にリニアモータを1個づつ配置しているが、実際には図4(a)、(b)にそれぞれ示すように、XY軸にそれぞれ一対のリニアモータ60、70を配置して、安定移動を図っている。
【0029】
図4(a)に示すように、X軸スライダ20を移動させるX軸リニアモータ60は、一対のガイドレール10間であって、X軸スライダ20の幅方向の両側に配置される。一対のガイドレール10を固定した定盤50の表面の一部に凹溝54設け、その凹溝54にX軸リニアモータ60を沈めることで、Xステージ高を抑えている。
【0030】
また図4(b)に示すように、Y軸スライダ30を移動させるY軸リニアモータ70は、X軸スライダ20の上面部に凹部21を設け、その凹部21にY軸リニアモータ70を沈めることで、Yステージ高を抑えている。ロッド状の固定子71に装着されたY軸リニアモータ70の可動子72をY軸スライダ30の上部に固着することで、Y軸スライダ30を往復動自在としている。
【0031】
図4(b)からわかるように、X軸リニアモータ60の可動子62を断面コ字型のY軸スライダ30の中空部に挿通されたX軸スライダ20に固定するために、Y軸スライダ30の断面形状を底部が閉じたロ字型とはせずに、底部が開口したコ字型としている。そして可動子62は、開口部32から覗いているX軸スライダ20の底部に連結部材で固着してある。
【0032】
このようにX軸スライダ20及びY軸スライダ30を移動させる駆動源をリニアモータ60、70としたので、μmオーダの移動距離精度しか発揮し得ないボールネジ機構と比べて、nmオーダの精度を発揮して、一層安定した位置決め精度が保証できる。また、XY軸双方とも一対のリニアモータ60、70で2軸駆動するようにしたので、安定走行を保証できる。
【0033】
図5〜図6は変形例を示す構成図であり、XYステージにさらに第3のユニットを組込んだ複合ステージを示す。図5は複合ステージの斜視図、図6は図5のA矢視中央断面図を示し、(a)は第3のユニット等を搭載する前の図、(b)は第3のユニットを搭載した後の図である。
【0034】
第3のユニットを組込むために、少なくともY軸スライダ30の上部に第3のユニット80を収納するための幅W2をもつ凹溝ないし開口部33を開ける。第3のユニット80の高さが高い場合には、必要に応じて、X軸スライダ20にもY軸スライダ30の開口部33と連通する凹溝ないし開口部22を開ける。X軸スライダ20に開ける凹溝ないし開口部22は、その幅W1を、X軸スライダ20に対してY軸スライダ30が往復移動する関係からY軸スライダ30の往復移動範囲に亘って開ける必要がある。このようにして開けたY軸スライダ30、及びX軸スライダ20の開口部33、22に、θ軸、Z軸などのステージ又はピックアップなどのユニット80を収容する。
【0035】
この実施の形態によれば、Y軸スライダ30に開けた開口部33と連通する開口部22をX軸スライダ20に設けたので、この開口部33及びこれと連通する開口部22に他のステージまたはユニット80を、積み上げることなく収納することができる。その結果、X軸スライダ20の開口部22及びY軸スライダ30の開口部33に前記θ軸、Z軸などのステージまたはユニット80を収納できて高さを抑えることができ、外観上すっきりした状態になり、装置のメンテナンス性も向上する。
【0036】
以上述べたように本実施の形態によれば、X軸スライダとY軸ガイドを1つの部材で共用しXステージにYステージを組みこむようにしたので、X軸スライダとY軸ガイドを別部材としてXステージ上にYステージを積み上げるものと比べて、高さ方向の寸法を低減できる。このためXYステージを取り巻く装置やユニットのコンパクト化が図れ、材料、工数の削減ができる。
【0037】
また、本実施の形態によれば、従来のようなステージの積み重ねがないので、ステージの積み重ねに起因する精度誤差の発生原因が減少する。したがって安定した位置決め精度が保証でき、製品の歩留まりが増加する。また、スライダの支持手段に非接触型の静圧ガス軸受を採用し、スライダの駆動源にリニアモータを使用したので、上記構成と相俟ってステージの位置決め精度を向上できる。
【0038】
また、スライダの中央部に孔を開け、そこに他のユニット(リニアモータ、スケール、等)や他の軸(θ軸、Z軸、等)を入れ込むようにしたので、その分の高さの積み上げもキャンセルすることができる。従って、第3の要素が入る複合ステージにしても、ステージ高が高くならず、外観上すっきし、メンテナンス性が良好になる。
【0039】
なお、上述した実施の形態では、X軸スライダおよびY軸スライダの支持方法に静圧ガス軸受を用いたが、これに代えてNS極の反発を利用した磁気軸受を備えるようにしてもよい。磁気軸受を構成する磁石は永久磁石でも、偏平コイル等を使った電磁石でもよい。特に、軸受を磁気軸受とすると、真空中では機能しない静圧ガス軸受と異なり、真空中でも機能するという利点がある。したがって、露光装置、半導体製造装置などを収容するクリーンルーム等での使用に最適である。
【0040】
【発明の効果】
本発明によれば、X軸スライダにY軸スライダ装着してX軸スライダにY軸スライダのガイドを兼用させるようにしたので、兼用させない従来の積み上げタイプのものに比べて、高さ方向への寸法を抑えることができる。また、スライダの支持手段に静圧ガス軸受を使用したので、安定した位置決め精度が保証できる。
さらに、Y軸スライダやX軸スライダに開口部を設けて、そこに他のステージ等を収納できるようにしたので、この場合にもステージ高を低く抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態によるXYステージの基本構成を示す斜視図である。
【図2】図1の矢視図を示し、(a)はA矢視図、(b)はB矢視図である。
【図3】実施の形態によるXYステージの具体的な構成を示す斜視図である。
【図4】図3の矢視図を示し、(a)はA矢視中央断面図、(b)はB矢視中央断面図である。
【図5】実施の形態によるXYステージの応用例の構成を示す斜視図である。
【図6】図5のA矢視図を示し、(a)はユニットを装着する前、(b)はユニットを装着した中央断面図である。
【図7】従来例によるXYステージの構成を示す斜視図である。
【図8】図7の矢視図を示し、(a)はA矢視図、(b)はB矢視図である。
【符号の説明】
11 ガイド溝
10 ガイドレール
20 X軸スライダ
30 Y軸スライダ
40 静圧ガス軸受
50 静圧ガス軸受
Claims (4)
- X軸方向に互いに対向して設けられた一対のガイドレールと、
前記一対のガイドレールに係合され、前記ガイドレールに沿ったX軸方向の移動が許容されて、Y軸方向の移動が規制されるX軸スライダと、
前記X軸スライダを囲むように装着されるとともに、前記X軸スライダの下面側に開口を形成するように折り返された折返し部を有し、前記一対のガイドレール間でX軸スライダに対するY軸方向の移動が許容され、前記X軸スライダにY軸ガイド機能をもたせて当該Y軸ガイド機能によりY軸方向に移動するとともに、前記X軸スライダに対するX軸方向の移動が規制されてX軸スライダがX軸方向に移動するとそれに伴ってX軸方向に移動するY軸スライダと、
を主たる構成要素として構成されるXYステージであって、
前記一対のガイドレールと前記X軸スライダとの間、及び前記X軸スライダとY軸スライダとの間にガスを供給して、ガス圧によって前記X軸スライダ及び前記Y軸スライダを支持する静圧ガス軸受を有し、
前記X軸スライダに、該X軸スライダに対して前記Y軸スライダが往復移動する範囲に亘って凹溝ないし開口部を設け、
前記Y軸スライダに、前記X軸スライダの凹溝ないし開口部と連通する開口部を設け、
前記X軸スライダの凹溝ないし開口部と連通するY軸スライダの開口部及び前記X軸スライダの凹溝ないし開口部に、θ軸、Z軸などのステージ(X軸ステージおよびY軸ステージは除く)又はピックアップなどのユニットを収納可能としたことを特徴とするXYステージ。 - 請求項1記載のXYステージにおいて、前記静圧ガス軸受に代えて磁気軸受を備えたXYステージ。
- 前記X軸スライダ及び前記Y軸スライダを移動させる駆動源を備え、該駆動源をリニアモータとした請求項1または2に記載のXYステージ。
- 前記開口部に前記θ軸、Z軸などのステージ又はピックアップなどのユニットが収納されている請求項1乃至3のいずれかに記載のXYステージ。
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