JP4571335B2 - 光学成形品用着色マスターペレットおよび光ディスク基板 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学成形品用着色マスターペレットに関するものである。詳しくは、意匠性に優れ、且つその種類、用途などが瞬時に判断しうると共に、光ディスク基板等の光学成形品を連続的に成形した際に色ムラ等が少ない光学成形品用着色マスターペレットに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来光記録媒体に着色を行う方法としては、全着ペレットを用いた特開平1−102505号公報には、特定染料からなるオレンジ色の光記録媒体が、特開平2−33742号公報および特開平8−124212号公報には黒色の光記録媒体が提案されている。また、特開平7−262606号公報には、極低濃度の着色マスターペレットを用いた着色光ディスクが提案されている。
【0003】
一方、特公平6−18890号公報にはペレット中の微粉末量をコントロールすることで光ディスク製造時のシルバー発生を抑える方法が記載されている。また、特開平11−342510号公報には微粉末の少ないペレットを用いた光ディスクの電気特性が良好であることが記載されている。
【0004】
しかしながら、光学用成形品の着色濃度が比較的高い着色マスターペレットでは、透明ペレットと混合して使用するために、透明ペレット、全着ペレットや極低濃度の着色マスターペレットより着色ペレットの分級等の影響が大きく、成形機のホッパー内で着色マスターペレットが分級すると連続成形した時にショット毎に着色濃度が異なる問題が発生した。
【0005】
一方、上記公報記載の透明ペレット、全着ペレットや極低濃度の着色マスターペレットでは、着色マスター化による上記課題を解決するには十分なものではなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、上記問題を解決すべく検討した結果、着色マスターペレット中にある比較的大きな粉体がかかる問題の原因であることを究明した。この粉体量を特定の範囲以下にすることで上記問題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、芳香族ポリカーボネート樹脂(A成分)および着色剤(B成分)からなる光学成形品用着色マスターペレットと、芳香族ポリカーボネート樹脂との混合物より成形された光ディスク基板であって、該ペレットは、粒径2.0mm以下の粉末の含有量が5重量%以下であることを特徴とする光ディスク基板にかかるものである。
【0008】
本発明でいう光学成形品とは、レンズ、光カード、光ファイバー、光ディスク等であり、特に光ディスクが好適である。かかる光ディスクとは、いわゆるレーザ光の照射により情報の記録・再生をおこなう光ディスクである。具体的な例としては、デジタルオーディオディスク(いわゆるコンパクトディスク:CD)、CD−ROM、光学式ビデオディスク(いわゆるレーザディスク)やDVD−ROM、デジタルビデオディスク(DVD−video)、DVD−R、CD−R、MO、MD−MO、PD、DVD−RAM等の各種再生専用型ディスク、追記型ディスク、光磁気ディスク、相変化ディスク等が実用化されている。本発明の着色マスターペレトは、特にDVD−ROM、DVD−video、DVD−R、DVD−RAM等で代表される高密度光ディスクであるデジタルバーサタイルディスクの製造に有用である。
【0009】
本発明のA成分である熱可塑性樹脂としては、芳香族ポリカーボネート樹脂、非晶性ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、水添ポリスチレン樹脂、非晶性ポリエステル樹脂、非晶性ポリアリレート樹脂などから選択される熱可塑性樹脂を好ましく挙げることができ、より好ましくは芳香族ポリカーボネート樹脂、または非晶性ポリオレフィン樹脂である。非晶性ポリオレフィン樹脂としては、三井化学(株)製のAPO樹脂、JSR(株)製のアートン、日本ゼオン(株)製のゼオネックス、ダウ社のHPS樹脂等を挙げることができる。特に芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。尚、芳香族ポリカーボネート樹脂の詳細については後述する。
【0010】
本発明のB成分として使用される着色剤としては、ペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料、アンスラキノン系染料、チオキサントン系染料、紺青等のフェロシアン化物、ペリノン系染料、キノリン系染料、キナクリドン系染料、ジオキサジン系染料、イソインドリノン系染料、フタロシアニン系染料等の有機系色剤やカーボンブラックが挙げられ、これらの中でも透明性の有機系色剤が好ましい。更に好ましくは、アンスラキノン系染料、ペリノン系染料、キノリン系染料、ペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料をあげることができる。
【0011】
B成分の染料の具体例としては、CI Solvent Red 52、CISolvent Red 149、CI Solvent Red 150、CI Solvent Red 191、CI Solvent Red 151、CI Solvent Blue 94、CI Solvent 97、CI Solvent Violet 13、CI Solvent Violet 14、CI Solvent Green 3、CI Solvent Green 28として知られるアンスラキノン系染料、CI Vat Orange 9、CI Vat Orange 2、CI Vat Orange 4として知られるピランスロン類アンスラキノン系染料、イソジベンザンスロン類アンスラキノン系染料、CI Vat Orange 1、CI Vat Yellow 4として知られるジベンズピレンキノン類アンスラキノン系染料などを挙げることができる。チオインジゴ系染料としてはCI Vat Red 2、CI Vat Red 41、CI Vat Red 47などを挙げることができる。ペリレン系染料としては、CI Vat Red 15、CI Vat Orange 7、およびBASF社製LUMOGENシリーズとして FOrange240、F Red 300、305、F Yellow083、F Red339などを挙げることができる。クマリン系染料としては、バイエル社製MACROLEX Fluoresent Yellow 10GN(Solvent Yellow160:1)、MACROLEX Fluorescent Red G、キノリン系染料としては、CI Solvent Yellow 33、CI Solvent Yellow 157、CI Solvent Yellow 54、CI Disperse Yellow 160などを挙げることができる。ペリノン系染料といては、CI Solvent Red 135、CI Solvent Red 179、CI Solvent Orange 60、フタロシアニン系染料としてはCI Pigment Blue 15:3、CI Pigment Green 7、CI Pigment Green 36などを挙げることができる。これらは1種または2種以上を併用でき、目的に応じた着色を行うことが可能である。
【0012】
尚、着色剤は十分に均一な分散を達成するため粒径の細かいものが好ましく、より好ましくは50μm以下の粒径を有するものであり、かかる着色剤は各種フィルターによる選別により得ることができる。
【0013】
本発明のA成分およびB成分の割合としては、好ましくはA成分100重量部に対して、B成分が0.005〜10重量部である。かかる範囲においては、光記録媒体にした場合に十分な彩度を有し、意匠性に富んだ着色が可能であると共に、光ディスク基板等の光学成形品を成形した際に電気特性の良好な光学成形品が得られる。B成分の割合としてより好ましくはA成分100重量部に対して0.01〜10重量部であり、特に好ましく0.05〜5重量部である。
【0014】
本発明の着色マスターペレットはその製造については各種の方法を取ることができる。例えば着色剤同士を予め混合しておき、(1)熱可塑性樹脂に均一に混合した後溶融混練する方法、(2)単独または複数の着色剤を樹脂に高濃度に添加し、ヘンシェルミキサーなどの混合機を使用してドライブレンドしたマスター剤を得たのち、残りの熱可塑性樹脂などに更に予備混合して溶融混練する方法、(3)着色剤を独立して押出機などの溶融混練機に供給し溶融混練する方法、(4)着色剤を有機溶媒に溶解した後、溶融混練機に直接供給する方法(着色剤溶液はフィルター濾過するのが好ましい)、(5)前記(4)の着色剤溶液を高濃度に樹脂に添加してヘンシェルミキサーなどの混合機によりマスター剤を作成後、残りの成分と溶融混練する方法、(6)前記(5)のマスター剤を独立して押出機などの溶融混練機に供給し溶融混練する方法、(7)着色剤溶液と熱可塑性樹脂溶液を混合して(溶液はフィルター濾過するのが好ましい)、スプレードライヤーなどで溶媒を除去した粉末を溶融押出しする方法、(8)かかる着色剤溶液と熱可塑性樹脂溶液の混合溶液を直接押出機などの溶融混練機に供給する方法などを挙げることができる。かかる溶融混練でペレットを得た後透明ペレットで所望の濃度に希釈して光学成形品を成形する。希釈倍率は2〜30倍が好ましく、3〜20倍がより好ましく、最も好ましくは3〜10倍である。
【0015】
尚、上記光学成形品用着色マスターペレットの製造は、かかる着色マスターペレットが通常高度な光学的特性を要求されるため、かかる光学特性を阻害する異物の存在を極力少なくすることが好ましい。かかる好ましい着色マスターペレットを得るためには、原料として異物量の少ないものを使用するとともに、押出機やペレタイザー等の製造装置をフィルターなどを通して得られた清浄な空気の雰囲気内に設置すると共に、冷却バス用の冷却水についてもイオン交換樹脂などを通して得られた金属イオンなどの異物量の少ないものを使用し、更に原料の供給ホッパー、供給流路や、得られたペレットの貯蔵タンク等についてもより清浄な空気等で満たすことが好ましい。
【0016】
また溶融混練に使用する装置としては、単軸押出機、2軸押出機、加圧ニーダーなど一般に使用されているものが使用可能であり、特に好ましくはベント付きの2軸押出機であり、ベントから真空排気できるものが好ましい。使用する原料は、タンブラー、ブレンダー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練ロールなどで予め混合する方法、計量器を用いて独立に供給する方法のいずれも使用可能であり、組合わせて使用することも可能である。
【0017】
本発明の着色マスターペレットから成形品を得る方法としては従来公知の種々の方法が使用でき、例えば射出成形、押出成形、圧縮成形などの方法で所望の形状に成形することができる。本発明の光学成形品用着色マスターペレットはDVDに代表されるディスク形状の光記録媒体の他、光カードなどの板状成形体にも好適なものであり、その他光記録媒体機能を有する貼り合わせ型記録媒体各種の態様において好適なものである。すなわち、本発明の光学成形品用着色マスターペレットは、流動性、耐熱性、特定の光線透過性に優れ、更に意匠性や識別性に優れるため、特に各種ビデオソフト用、コンピューターソフト用、ゲーム機ソフト用の光記録媒体基板用として好適なものである。
【0018】
以下に本発明のA成分として好適な芳香族ポリカーボネート樹脂の詳細について説明する。本発明で使用する芳香族ポリカーボネート樹脂とは、通常二価フェノールとカーボネート前駆体とを界面重縮合法、溶融エステル交換法で反応させて得られたものの他、カーボネートプレポリマーを固相エステル交換法により重合させたもの、または環状カーボネート化合物の開環重合法により重合させて得られるものである。
【0019】
ここで使用される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、4,4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス{(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(3−イソプロピル−4−ヒドロキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−フェニル)フェニル}プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルブタン、2,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}フルオレン、α,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−o−ジイソプロピルベンゼン、α,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、α,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5,7−ジメチルアダマンタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテルおよび4,4’−ジヒドロキシジフェニルエステル等があげられ、これらは単独または2種以上を混合して使用できる。
【0020】
なかでもビスフェノールA、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンおよびα,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンからなる群より選ばれた少なくとも1種のビスフェノールより得られる単独重合体または共重合体が好ましく、特に、ビスフェノールAの単独重合体および1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンとビスフェノールA、2,2−ビス{(4−ヒドロキシ−3−メチル)フェニル}プロパンまたはα,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンとの共重合体が好ましく使用され、特にビスフェノールAの単独重合体、または1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンとα,α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼンとの共重合体が好ましい。
【0021】
カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。
【0022】
上記二価フェノールとカーボネート前駆体を界面重縮合法または溶融エステル交換法によって反応させてポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。またポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、得られたポリカーボネート樹脂の2種以上を混合した混合物であってもよい。
【0023】
三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、フロログルシン、フロログルシド、または4,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキジフェニル)ヘプテン−2、2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1,1−トリス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノール、4−{4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン}−α,α−ジメチルベンジルフェノール等のトリスフェノール、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)ケトン、1,4−ビス(4,4−ジヒドロキシトリフェニルメチル)ベンゼン、またはトリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびこれらの酸クロライド等が挙げられ、中でも1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1,1−トリス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタンが好ましく、特に1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタンが好ましい。
【0024】
かかる分岐ポリカーボネート樹脂を生ずる多官能性化合物を含む場合、かかる割合は、芳香族ポリカーボネート全量中、0.001〜1モル%、好ましくは0.005〜0.5モル%、特に好ましくは0.01〜0.3モル%である。また特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造が生ずる場合があるが、かかる分岐構造量についても、芳香族ポリカーボネート全量中、0.001〜1モル%、好ましくは0.005〜0.5モル%、特に好ましくは0.01〜0.3モル%であるものが好ましい。尚、かかる割合については1H−NMR測定により算出することが可能である。
【0025】
界面重縮合法による反応は、通常二価フェノールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例えばトリエチルアミン、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド等の第三級アミン、第四級アンモニウム化合物、第四級ホスホニウム化合物等の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常0〜40℃、反応時間は10分〜5時間程度、反応中のpHは9以上に保つのが好ましい。
【0026】
また、かかる重合反応において、通常末端停止剤が使用される。かかる末端停止剤として単官能フェノール類を使用することができる。単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られたポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類としては、一般にはフェノールまたは低級アルキル置換フェノールであって、下記一般式(1)で表される単官能フェノール類を示すことができる。
【0027】
【化1】
【0028】
(式中、Aは水素原子または炭素数1〜9の直鎖または分岐のアルキル基あるいはフェニル基置換アルキル基であり、rは1〜5、好ましくは1〜3の整数である。)
【0029】
上記単官能フェノール類の具体例としては、例えばフェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げられる。
【0030】
また、他の単官能フェノール類としては、長鎖のアルキル基あるいは脂肪族ポリエステル基を置換基として有するフェノール類または安息香酸クロライド類、もしくは長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類も示すことができる。これらのなかでは、下記一般式(2)および(3)で表される長鎖のアルキル基を置換基として有するフェノール類が好ましく使用される。
【0031】
【化2】
【0032】
【化3】
【0033】
(式中、Xは−R−O−、−R−CO−O−または−R−O−CO−である、ここでRは単結合または炭素数1〜10、好ましくは1〜5の二価の脂肪族炭化水素基を示し、nは10〜50の整数を示す。)
【0034】
かかる一般式(2)の置換フェノール類としてはnが10〜30、特に10〜26のものが好ましく、その具体例としては例えばデシルフェノール、ドデシルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノール等を挙げることができる。
【0035】
また、一般式(3)の置換フェノール類としてはXが−R−CO−O−であり、Rが単結合である化合物が適当であり、nが10〜30、特に10〜26のものが好適であって、その具体例としては例えばヒドロキシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシル、ヒドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒドロキシ安息香酸ドコシルおよびヒドロキシ安息香酸トリアコンチルが挙げられる。
【0036】
末端停止剤は、得られたポリカーボネート樹脂の全末端に対して少くとも5モル%、好ましくは少くとも10モル%末端に導入されることが望ましい。より好ましくは全末端に対して末端停止剤が80モル%以上導入されること、すなわち二価フェノールに由来する末端の水酸基(OH基)が20モル%以下であることがより好ましく、特に好ましくは全末端に対して末端停止剤が90モル%以上導入されること、すなわちOH基が10モル%以下の場合である。また、末端停止剤は単独でまたは2種以上混合して使用してもよい。
【0037】
溶融エステル交換法による反応は、通常二価フェノールとカーボネートエステルとのエステル交換反応であり、不活性ガスの存在下に二価フェノールとカーボネートエステルとを加熱しながら混合して、生成するアルコールまたはフェノールを留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノールの沸点等により異なるが、通常120〜350℃の範囲である。反応後期には系を1.33×103〜13.3Pa程度に減圧して生成するアルコールまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応時間は通常1〜4時間程度である。
【0038】
カーボネートエステルとしては、置換されていてもよい炭素数6〜10のアリール基、アラルキル基あるいは炭素数1〜4のアルキル基などのエステルが挙げられる。具体的にはジフェニルカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネートなどが挙げられ、なかでもジフェニルカーボネートが好ましい。
【0039】
また、重合速度を速めるために重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、二価フェノールのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属化合物、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の含窒素塩基性化合物、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド類、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩類、亜鉛化合物類、ホウ素化合物類、アルミニウム化合物類、珪素化合物類、ゲルマニウム化合物類、有機スズ化合物類、鉛化合物類、オスミウム化合物類、アンチモン化合物類マンガン化合物類、チタン化合物類、ジルコニウム化合物類などの通常エステル化反応、エステル交換反応に使用される触媒を用いることができる。触媒は単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの重合触媒の使用量は、原料の二価フェノール1モルに対し、好ましくは1×10-8〜1×10-3当量、より好ましくは1×10-7〜5×10-4当量の範囲で選ばれる。
【0040】
また、かかる重合反応において、フェノール性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるいは終了後に、例えばビス(クロロフェニル)カーボネート、ビス(ブロモフェニル)カーボネート、ビス(ニトロフェニル)カーボネート、ビス(フェニルフェニル)カーボネート、クロロフェニルフェニルカーボネート、ブロモフェニルフェニルカーボネート、ニトロフェニルフェニルカーボネート、フェニルフェニルカーボネート、メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよびエトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネート等の化合物を加えることが好ましい。なかでも2−クロロフェニルフェニルカーボネート、2−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよび2−エトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく、特に2−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく使用される。
【0041】
さらにかかる重合反応において触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好ましい。この失活剤の具体例としては、例えばベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、p−トルエンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエンスルホン酸ブチル、p−トルエンスルホン酸オクチル、p−トルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステル;さらに、トリフルオロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、アクリル酸メチル‐スルホン化スチレン共重合体、ドデシルベンゼンスルホン酸−2−フェニル−2−プロピル、ドデシルベンゼンスルホン酸−2−フェニル−2−ブチル、オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルアンモニウムブチルサルフェート、デシルアンモニウムデシルサルフェート、ドデシルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、テトラメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、デシルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、テトラブチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート、テトラメチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェート等の化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。これらの化合物を二種以上併用することもできる。
【0042】
失活剤の中でもホスホニウム塩もしくはアンモニウム塩型のものが好ましい。
かかる失活剤の量としては、残存する触媒1モルに対して0.5〜50モルの割合で用いるのが好ましく、また重合後のポリカーボネート樹脂に対し、0.01〜500ppmの割合、より好ましくは0.01〜300ppm、特に好ましくは0.01〜100ppmの割合で使用する。
【0043】
ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平均分子量(M)で10,000〜22,000が好ましく、12,000〜20,000がより好ましく、13,000〜18,000が更に好ましく、13,500〜16,500が特に好ましい。かかる粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂は光学用材料として十分な強度が得られ、また成形時の溶融流動が良好であり、成形歪みが発生せず好ましい。また、芳香族ポリカーボネート樹脂の2種以上を混合しても差し支えない。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン100mlにポリカーボネート樹脂0.7gを20℃で溶解した溶液から求めた比粘度(ηSP)を次式に挿入して求める。
ηSP/c=[η]+0.45×[η]2c(但し[η]は極限粘度)
[η]=1.23×10-4M0.83
c=0.7
【0044】
本発明の光学成形品用着色マスターペレットには、本発明の目的を損なわない範囲で各種の熱安定剤、離型剤、帯電防止剤、光安定剤などを更に配合することが可能である。
【0045】
離型剤としては、ポリカーボネート樹脂に使用される各種の離型剤が使用可能であるが、好ましくは高級脂肪酸エステルである。かかる高級脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜34の脂肪族飽和一価カルボン酸と一価または二価以上の多価アルコールとのエステルを挙げることができる。かかる脂肪族飽和一価カルボン酸としては、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキシン酸、ベヘン酸、およびモンタン酸などが挙げられる。
【0046】
更に、好ましくは、炭素数10〜24、更に好ましくは炭素数16〜22の脂肪族飽和一価カルボン酸と二価以上の多価アルコールとの部分エステルを挙げることができる。DVDでは極めて高温での成形が必要とされるが、かかる部分エステルは高温時の成形における蛍光染料の特性の低下を抑制することが可能となる。二価以上の多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールなどを挙げることができる。特に好ましくはステアリン酸とグリセリンの部分エステルであり、これらは例えば理研ビタミン(株)よりリケマールS−100Aという商品名で市販されており、市場から容易に入手できる。かかる離型剤の組成割合としては、A成分100重量部に対して、0.005〜0.5重量部が好ましく、より好ましくは0.01〜0.2重量部である。
【0047】
また本発明の着色マスターペレットには熱安定剤を含むことが好ましく、特により好ましくはリン系の安定剤を含有する場合である。かかるリン系安定剤としては、ホスファイト系、ホスホナイト系、およびホスフェート系のいずれも使用可能である。
【0048】
本発明におけるホスファイト系安定剤としては、さまざまなものを用いることができる。具体的には例えば一般式(4)
【0049】
【化4】
【0050】
[式中R1は、水素または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基ないしアルカリール基、炭素数7〜30のアラルキル基、またはこれらのハロ、アルキルチオ(アルキル基は炭素数1〜30)またはヒドロキシ置換基を示し、3個のR1は互いに同一または互いに異なるのいずれの場合も選択でき、また2価フェノール類から誘導されることにより環状構造も選択できる。]で表わされるホスファイト化合物である。
また、一般式(4)においてより好ましい態様としては、以下の一般式(5)
【0051】
【化5】
【0052】
[式中R2およびR3は、水素または炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基ないしアルキルアリール基、炭素数7〜30のアラルキル基を示し、R2およびR3は同時に水素ではなく、互いに同一または互いに異なるのいずれの場合も選択できる。]で表わされるホスファイト化合物を挙げることができる。
【0053】
また、一般式(6)
【0054】
【化6】
【0055】
[式中R4、R5はそれぞれ水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基ないしアルキルアリール基、炭素数7〜30のアラルキル基、炭素数4〜20のシクロアルキル基、炭素数15〜25の2−(4−オキシフェニル)プロピル置換アリール基を示す。尚、シクロアルキル基およびアリール基は、アルキル基で置換されていないもの、またはアルキル基で置換されているもののいずれも選択できる。]で表わされるホスファイト化合物を挙げることができる。
また、一般式(7)
【0056】
【化7】
【0057】
[式中R6、R7は炭素数12〜15のアルキル基である。尚、R6およびR7は互いに同一または互いに異なるのいずれの場合も選択できる。]で表わされるホスファイト化合物を挙げることができる。
【0058】
ホスホナイト系安定剤としては下記一般式(8)で表わされるホスホナイト化合物、および下記一般式(9)で表わされるホスホナイト化合物を挙げることができる。
【0059】
【化8】
【0060】
【化9】
【0061】
[式中、Ar1、Ar2は炭素数6〜20のアリール基ないしアルキルアリール基、または炭素数15〜25の2−(4−オキシフェニル)プロピル置換アリール基を示し、4つのAr1は互いに同一、または互いに異なるのいずれも選択できる。または2つのAr2は互いに同一、または互いに異なるのいずれも選択できる。]
【0062】
本発明においては、上記ホスファイト化合物およびホスホナイト化合物のうち、より好ましいリン系の安定剤として、上記一般式(5)で示されるホスファイト化合物(E1成分)、および上記一般式(8)(E2成分)および上記一般式(9)(E3成分)で示されるホスホナイト化合物を挙げることができ、これらは1種もしくは2種以上を併用することができ、より好ましくは上記一般式(1)で示されるホスファイト化合物をかかるE成分100重量%中、少なくとも5重量%含む場合である。
【0063】
上記一般式(4)に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、ジフェニルイソオクチルホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ(トリデシル)ホスファイトが挙げられる。より好ましい上記一般式(5)に対応する好ましい具体例としては、トリフェニルホスファイト、トリス(ジメチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジエチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−iso−プロピルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−n−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト等があげられ、トリス(ジアルキル置換フェニル)ホスファイトが好ましく、トリス(ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイトがより好ましく、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイトが特に好ましい。上記ホスファイト化合物は1種、または2種以上を併用することができる。
【0064】
上記一般式(6)に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられ、好ましくはジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトを挙げることができる。かかるホスファイト化合物は1種、または2種以上を併用することができる。
【0065】
上記一般式(7)に対応するホスファイト化合物における好ましい具体例としては、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジトリデシルホスファイトを挙げることができる。
【0066】
上記一般式(8)に対応するホスホナイト化合物における好ましい具体例としては、テトラキス(2,4−ジ−iso−プロピルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−n−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−iso−プロピルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト等があげられ、テトラキス(ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェニレンジホスホナイトが好ましく、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェニレンジホスホナイトがより好ましい。このテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−ビフェニレンジホスホナイトは、2種以上の混合物が好ましく、具体的にはテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(E2−1成分)、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト(E2−2成分)および、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト(E2−3成分)の1種もしくは2種以上を併用して使用可能であるが、好ましくはかかる3種の混合物である。また、3種の混合物の場合その混合比は、E2−1成分、E2−2成分およびE2−3成分を重量比で100:37〜64:4〜14の範囲が好ましく、100:40〜60:5〜11の範囲がより好ましい。
【0067】
上記一般式(9)に対応するホスホナイト化合物の好ましい具体例としては、ビス(2,4−ジ−iso−プロピルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイトビス(2,6−ジ−iso−プロピルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト等があげられ、ビス(ジ−tert−ブチルフェニル)−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。このビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−フェニル−フェニルホスホナイトは、2種以上の混合物が好ましく、具体的にはビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト(E3−1成分)および、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイトの1種もしくは2種を併用して使用可能であるが、好ましくはかかる2種の混合物である。また、2種の混合物の場合その混合比は、重量比で5:1〜4の範囲が好ましく、5:2〜3の範囲がより好ましい。
【0068】
一方ホスフェート系安定剤としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリメチルホスフェートである。
【0069】
上記熱安定剤は、A成分100重量部あたり、0.0001〜0.1重量部で含まれることが好ましく、より好ましくは0.0005〜0.05重量部、更に好ましくは0.001〜0.03重量部である。
【0070】
本発明においては以下の方法により着色マスターペレットの粉末量の測定を実施する。着色マスターペレット5kgを秤量した後、ペレットを円形振動篩機(特寿工作所製・TM−70−2S)にかけ、2.0mmの粉末および1.0mm以下の粉末を分離する。
【0071】
かかる2.0mm以下の粉末の含有量は、本発明では5重量%以下である。この範囲であると光ディスク基板等の光学成形品を連続成形した際に色ムラ等が殆ど起らず外観が良好な光学成形品が得られる。好ましくは3重量%以下、より好ましくは1重量%以下、最も好ましくは0.5重量%以下である。
【0072】
また1.0mm以下の粉末の含有量は、本発明では500ppm以下が好ましい。この範囲であると光ディスク基板等の光学成形品を成形した際に色ムラ、色スジ等が少なく、また電気特性の良好な光学成形品が得られる。更に好ましくは300ppm以下、最も好ましくは100ppm以下である。
【0073】
本発明の着色マスターペレットでは着色剤を含有しているために更に粉末の影響が大きく、0.5mm以下の粉末の含有量が200ppm以下が好ましく、より好ましくは100ppm以下、最も好ましくは50ppm以下である。
【0074】
本発明の粉末含有量の少ない着色マスターペレットを製造するには、ストランドのカッティング条件を調整して粉末の発生量を極力抑える。例えば樹脂を押出機で押出してストランドとし、これをカッターで切断してペレットを得る場合に、ペレットの断面形状は円形で凹凸が少ないものであることが望まれる。この断面形状の凹凸を減少させるためにストランドの冷却はストランドの周囲をできる限り均一な温度で冷却するのが望ましく、その際カッター切断時のストランドの温度が好ましくは110〜140℃、より好ましくは120〜130℃となるように冷却することが望ましい。かくしてストランドのねじれを僅少化することができ、表面の凹凸を少なくすることが可能となる。
【0075】
また、一旦発生した粉末を篩いを用いて分離除去したり、風力を用いた重力分級機で粉末を分離除去する。
【0076】
本発明における着色マスターペレットの形状は、成形用の着色マスターペレット、特に光学用成形材料用の着色マスターペレットとして使用されているものであればよく、大きさや形は特に制限されない。一般的には内径が2.0〜3.3mmで長さが2.5〜3.5mmのものが適当である。
【0077】
【発明の実施の形態】
以下に、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。また、実施例中の「部」は特に断りのない限り重量部を意味する。光ディスク共通の評価項目および方法は以下の通りである。
(1)粉末量の測定
着色マスターペレット5kgを秤量した後、ペレットを円形振動篩機(特寿工作所製・TM−70−2S)に20分間かけ、2.0mmおよび1.0mm以下の粉末を分離する。この粉末の重量を測定し、重量%およびppm単位で表わした。
(2)色ムラの測定
表2記載のブレンドペレットを用い射出成形機[住友重機(株)S480/150]でシリンダー温度350℃、金型温度120℃で長さ50mm×幅90mm×厚さ0.6mmの色ムラ評価成形板を連続成形で100枚作成した。
【0078】
この100枚の成形板を分光光度計(datacolor社 SF500)を用いて、D65光源(相関色温度6504K)下での、L*(明度)、a*(赤味から緑味にかけての色度)、b*(黄味から青味にかけての色度)を測定し、その最大値と最小値より求められた値を(i)式に挿入して、その色差(△E*)を求め、3段階評価した。△E*(色差)の値が0に近いほど色相が安定していることになる。
○:△E*≦0.5
△:0.5<△E*<1.0
×:△E*≧1.0
【0079】
【数1】
【0080】
(3)色スジの測定
色ムラ評価成形板100枚の中から成形1ショット目〜10ショット目までの10枚について、その外観を目視にて観察し、3段階評価した。
○:色スジが全くないもの
△:色スジが1個所あるもの
×:色スジが2個所以上あるもの
(4)光ディスクの外観観察
上記で得られた光ディスクについて、その外観観察を目視にて行った。
(5)BLERの測定
下記のブレンドペレットを用い射出成形機(住友重機(株)製DISK3MIII)で厚み1.2mm、120mmφのAl付基板に成形し、この基板のBLERをBLER測定機(SONY製・CDplayer cotrol unit CDS−3000)により測定した。なお、表4のC1AVEとはC1エラー(C1コードで訂正出来るランダムエラー)の1秒間あたりの平均値である。
(6)光線透過特性
光線透過率測定用試験片は、得られたペレットを射出成形機[住友重機械工業S480/150]でシリンダー温度350℃、金型温度120℃で長さ50mm×幅90mm×厚さ0.6mmの透過率評価用成形板を作成した。
【0081】
この成形板を日立製作所(株)製自記分光光度計U−3200型を用いて、光線透過特性を測定し、▲1▼350nm〜400nmの各波長における最大光線透過率、▲2▼400nm〜650nmにおける最小光線透過率、▲3▼650nmにおける光線透過率を求めた。
(7)基板貼合せ試験
紫外線硬化型接着剤をスピンコート塗布、紫外線照射により硬化させ、データ基板2枚を貼合せてたDVDディスクを得た。次いでその接着性を以下の手法により評価した。
○:手ではがすことはできず、十分な接着力を有する
×:手ではがすことができる
【0082】
[実施例A〜R、1〜25および比較例A、B、1〜3]
<着色剤マスター組成物および添加剤マスター組成物の製造>
まず表1記載の着色剤成分、添加剤成分を10重量%の割合となるよう、A成分の熱可塑性樹脂組成物で希釈し、ヘンシェルミキサーで均一に混合し着色剤マスター組成物および添加剤マスター組成物を得た。この着色剤マスター組成物および添加剤マスター組成物を表1記載組成になる様にブレンドした。
【0083】
【表1】
【0084】
<着色剤マスターペレットおよび透明ペレットの製造>
これらのマスター組成物を表1の組成割合となるよう残りの成分と混合し、タンブラーで均一に混合した。その後、径30mmφのベント付き2軸押出機[(株)神戸製鋼所KTX−30]でベントから真空排気させながらシリンダー温度280℃で溶融混練し、押出しペレット化(ペレット形状:径2.7mm×長さ3.0mm)した。押出機のダイス部分には、フィルターを設置し、5μm以上の異物が1gあたり20個以下となるようにした。また上記の機器はすべてフィルターを通した清浄な空気が循環する101.8kPa(1.005気圧)の雰囲気下に置き、冷却用の水はイオン交換水を使用した。
【0085】
尚、着色剤マスターペレットA〜Qは、冷却方法としてストランドを冷却水を流した波板の上に通して冷却する方法(波板冷却方法)を用い、カッターで切断した直後のペレット温度は132℃とした。このペレットを矩形の導管中に落下させながらイオン化空気を向流に流してペレットに付着している微粉末を分離除去した。一方、着色剤マスターペレットXは、表1記載の着色剤成分、添加剤成分、A成分の熱可塑成樹脂を表1の組成割合となるよう直接タンブラーのみで混合した。また、冷却方法としてストランドを27℃の水浴に5秒間通して冷却する方法を用い、カッターで切断した直後のペレット温度は83℃とし、イオン化空気による微粉末除去を行わなかった。
【0086】
また、別に希釈用の着色剤成分を含まない透明ペレット(ペレット形状:径2.7mm×長さ3.0mm)を上記着色剤マスターペレットA〜Qと同様な条件で製造した。
【0087】
【表2】
【0088】
<CDディスクの製造>
表2記載の着色マスターペレットと透明ペレットを用いて射出成形機、住友重機械工業製DISK3 M IIIにCD専用の金型を取り付け、この金型にピットの入ったニッケル製のCD用スタンパーを装着し、成形材料を自動搬送にて成形機のホッパーに投入し、シリンダー温度340℃、金型温度75℃、射出速度100mm/sec、保持圧力3920kPaの条件で直径120mm、肉厚1.2mmの基板を成形し、この基板を用いてCDディスクを得た。これらのCDディスクの評価結果を表3に示す。
【0089】
【表3】
【0090】
<CD−Rディスクの製造>
表2記載の着色マスターペレットと透明ペレットを用いてディスク基板を成形し、これに色素系記録層を形成してCD−Rディスクを作成した。これらのCD−Rディスクの評価結果を表4に示す。
【0091】
【表4】
【0092】
更に、CD−Rディスクの記録面にガラスを通して日光が当たる様にし、書込み・読出しに異常が起る日数を調べる耐候性試験を行った結果、比較例に対して実施例は倍以上の耐候性を有していた。
【0093】
<DVDディスクの製造>
表2記載の着色マスターペレットと透明ペレットを用いて、射出成形機、住友重機械工業製DISK3 M IIIにDVD専用の金型を取り付け、この金型にアドレス信号などの情報の入ったニッケル製のDVD用スタンパーを装着し、成形材料を自動搬送にて成形機のホッパーに投入し、シリンダー温度380℃、金型温度115℃、射出速度300mm/sec、保持圧力3920kPaの条件で直径120mm、肉厚0.6mmのDVD基板を成形し、この基板を用いてDVDディスクを得た。これらのDVDディスクの評価結果を表5に示す。
【0094】
【表5】
【0095】
なお表1記載の各成分を示す記号および項目は下記の通りである。
(A成分)
PC−1
粘度平均分子量が15,200のアミン触媒を用いないホスゲン法により得られたビスフェノールAポリカーボネート樹脂パウダー(末端停止剤としてp−tert−ブチルフェノールを使用)
PC−2
粘度平均分子量が14,800のアミン触媒を用いてホスゲン法により得られた、全芳香族ジヒドロキシ成分のうち、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン[ビスフェノールTMC]が45モル%、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール[ビスフェノールM]が55モル%である芳香族ポリカーボネート共重合体パウダー(末端停止剤としてp−tert−ブチルフェノールを使用)
PC−3
末端水酸基濃度34モル%、粘度平均分子量が15,300のエステル交換触媒として原料ビスフェノールA1モルに対してビスフェノールAの2ナトリウム塩を2×10-7モルを用いた溶融エステル交換法により得られたビスフェノールAポリカーボネート樹脂ペレット
【0096】
(B成分)
赤染料−1:ペリノン系赤染料、有本化学(株)製 Plast Red 8370
赤染料−2:ペリレン系蛍光赤染料、BASF社製 Lumogen F Red 305
赤染料−3:クマリン系蛍光赤染料、バイエル社製 Macrolex Fluorescent Red G
赤染料−4:チオインジゴ系蛍光赤染料、有本化学(株)製 Plast Red D54
赤染料−5:ペリノン系赤染料、紀和化学(株)製 Kp Plast RedHG
赤染料−6:ペリノン系赤染料、紀和化学(株)製 Kp Plast RedH2G
黄染料−1:キノリン系黄染料、有本化学(株)製 Plast Yellow8010
黄染料−2:クマリン系蛍光黄染料、バイエル社製 Macrolex Fluorescent Yellow 10GN
黄染料−3:キノリン系黄染料、有本化学(株)製 Plast Yellow8050
緑染料:アンスラキノン系緑染料、有本化学(株)製 Oil Green 5602
青染料:アンスラキノン系青染料、バイエル社製 Macrolex BlueRR
【0097】
(添加剤成分)
ST:トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニルホスファイト)、日本チバガイギー(株)製Irgafos168
L1:グリセリンモノステアレート、理研ビタミン(株)製リケマールS−100A
【0098】
【発明の効果】
意匠性に優れ、且つその種類、用途などが瞬時に判断しうると共に、光ディスク基板を成形した際に退色現象、色ムラ、色スジ等が少なく、また電気特性の良好な光学成形品用着色マスターペレットおよび光ディスク基板であり、本発明の奏する工業的効果は格別なものである。
Claims (6)
- 芳香族ポリカーボネート樹脂(A成分)および着色剤(B成分)からなる光学成形品用着色マスターペレットと、芳香族ポリカーボネート樹脂との混合物より成形された光ディスク基板であって、該ペレットは、粒径2.0mm以下の粉末の含有量が5重量%以下であることを特徴とする光ディスク基板。
- 該ペレットが、その長さの平均値は2.0〜3.3mm、断面楕円の長径の平均値は2.5〜3.5mmの範囲である請求項1記載の光ディスク基板。
- A成分が、粘度平均分子量が10,000〜22,000の芳香族ポリカーボネート樹脂である請求項1記載の光ディスク基板。
- A成分90〜99.995重量%およびB成分0.005〜10重量%である請求項1記載の光ディスク基板。
- B成分がアンスラキノン系染料、ペリノン系染料、キノリン系染料、ペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料である請求項1〜4のいずれか1項に記載の光ディスク基板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光ディスク基板から形成された光ディスク。
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