JP4564979B2

JP4564979B2 - Data processing apparatus, recording apparatus, and mask pattern manufacturing method

Info

Publication number: JP4564979B2
Application number: JP2007104268A
Authority: JP
Inventors: 江里野口; 義朋丸本
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2006-04-11
Filing date: 2007-04-11
Publication date: 2010-10-20
Anticipated expiration: 2027-04-11
Also published as: JP2007306551A

Description

本発明は、データ処理装置、記録装置およびマスクパターンの製造方法に関する。詳しくは、画像データをドット配置パターンを用いてドットデータに変換し、そのドットデータをマスクを用いて記録ヘッドの複数回の走査それぞれで用いるドットデータに分ける処理に関するものである。 The present invention relates to a data processing apparatus, a recording apparatus, and a mask pattern manufacturing method. More specifically, the present invention relates to a process of converting image data into dot data using a dot arrangement pattern and dividing the dot data into dot data used for each of a plurality of scans of a print head using a mask.

近年来のパーソナルコンピュータ等情報処理機器の普及に伴い、画像形成端末としての記録装置も急速に発展し、また、普及してきた。とりわけ、種々の記録装置の中でも、吐出口からインクを吐出させて紙、布、プラスチックシート、ＯＨＰ用シートなどの記録媒体に記録を行うインクジェット記録装置はパーソナルユースの主流となりつつある。これは、低騒音のノンインパクト型の記録方式であること、高密度かつ高速な記録動作が可能であること、カラー記録にも容易に対応できること、低廉であることなど、極めて優れた特長を有しているからである。 With the recent spread of information processing equipment such as personal computers, recording devices as image forming terminals have rapidly developed and become popular. In particular, among various recording apparatuses, an ink jet recording apparatus that performs recording on a recording medium such as paper, cloth, a plastic sheet, and an OHP sheet by ejecting ink from an ejection port is becoming a mainstream for personal use. This is a non-impact recording system with low noise, high-density and high-speed recording operation, easy compatibility with color recording, and low cost. Because it is.

インクジェット記録技術の進歩は記録の高画質化、高速化、低廉化を促進し、それによって、パーソナルユーザーにまで記録装置を普及させることに寄与している。また、パーソナルコンピュータやデジタルカメラの普及も記録装置の普及に寄与している。このデジタルカメラには、単体でその機能を果たすもののほか、その他の装置、例えば携帯型電話に一体化されるものも含まれている。しかし、そのような広範な普及により、パーソナルユーザーからも画質のより一層の向上が求められるようになってきている。特に近年では、家庭で手軽に写真をプリントできるようなプリントシステムおよび銀塩写真に見合う画像の品位が求められて来ている。 Advances in ink jet recording technology have promoted higher image quality, higher speed, and lower cost of recording, thereby contributing to the spread of recording devices to personal users. The spread of personal computers and digital cameras also contributes to the spread of recording devices. This digital camera includes not only a single camera that fulfills its function, but also a device that is integrated with another device, such as a mobile phone. However, with such widespread use, personal users are required to further improve image quality. In particular, in recent years, there has been a demand for a printing system that allows easy printing of photos at home and image quality suitable for silver halide photography.

銀塩写真と比べた場合、インクジェット記録装置では粒状感が従来問題視されていた。そして、この粒状感を低減するための様々な対策が提案されている。例えば、通常のシアン、マゼンタ、イエローおよびブラックの外に、より色材濃度の低いライトシアンやライトマゼンタを加えたインクシステムを備えたインクジェット記録装置が知られている。このような装置では、画像濃度の低い領域でライトシアンやライトマゼンタのインクを用いることによって粒状感を低減している。また、画像濃度の高い領域では通常のシアンインクやマゼンタインクを用いて記録を行うことにより、より広い色再現範囲や滑らかな階調性を実現することを可能としている。 When compared with a silver salt photograph, the graininess is conventionally regarded as a problem in the ink jet recording apparatus. Various measures for reducing the graininess have been proposed. For example, an ink jet recording apparatus is known that includes an ink system in which light cyan or light magenta having a lower colorant density is added to normal cyan, magenta, yellow, and black. In such an apparatus, the graininess is reduced by using light cyan or light magenta ink in a low image density region. Further, in a region where the image density is high, recording using ordinary cyan ink or magenta ink makes it possible to realize a wider color reproduction range and smooth gradation.

また、記録媒体に形成されるドットの大きさをより小さく設計して粒状感を低減する方法もある。これは、一般には、記録ヘッドの吐出口から吐出されるインク滴を少量化することによって実現するものである。この場合、インク滴の少量化のみならず、より多くの吐出口をより高い配列密度によって構成することにより、記録速度を低下させずに高解像度の画像を記録することが可能となっている。 There is also a method for reducing graininess by designing the size of dots formed on a recording medium to be smaller. This is generally realized by reducing the amount of ink droplets ejected from the ejection port of the recording head. In this case, it is possible not only to reduce the amount of ink droplets but also to form a higher resolution image without lowering the recording speed by configuring more ejection openings with a higher arrangement density.

ところで、記録する画像を表す多値データを、インク滴を吐出して記録媒体にドットを形成するか否かを示す２値データに変換する、いわゆる２値化処理については多くの手法が提案されている。これらのうち、例えば、先ず階調数のレベルを数段階まで低減する量子化処理を行い、その量子化データについて、最終的な２値化を行うといった、２段階の構成で２値化処理を行う記録装置が近年多く提供されている。この場合、ホスト装置が出力する１画素を、複数段階の濃度レベルによって階調表現することになるので、写真画質のような階調性を重視する用途には好適な方法といえる。また、これによって、データ処理の負担を２つの工程ないし処理に分けることができ、結果として、記録解像度やインク色の種類が増すことなどによって処理すべきデータ量が増しても、処理速度の低下を抑えることも可能となる。 By the way, many methods have been proposed for so-called binarization processing in which multi-value data representing an image to be recorded is converted into binary data indicating whether or not to form dots on a recording medium by ejecting ink droplets. ing. Among these, for example, the binarization process is first performed in a two-stage configuration in which a quantization process for reducing the level of the number of gradations to several stages is performed, and final quantization is performed on the quantized data. Many recording devices have been provided in recent years. In this case, since one pixel output from the host device is expressed by gradation using a plurality of levels of density, it can be said that this method is suitable for applications in which gradation is important, such as photographic image quality. This also allows the data processing burden to be divided into two steps or processes. As a result, even if the amount of data to be processed increases due to an increase in recording resolution and ink color type, the processing speed decreases. It is also possible to suppress this.

このような、一旦数段階レベルの多値データに量子化されたデータを２値データに変換する方法は、いくつか提案され、また、実施されている。例えば、特許文献１には、５段階の階調値を持ち得る１つの入力画素に対し、２×２の各エリアに対して４つのドットの記録・非記録を定めたドット配置パターンを用いることによって２値化する方法が記載されている。また、同文献には、２×２の各エリアに対するドット配置パターンを、同一の階調値に対して複数パターンを用意しておき、これら複数のドット配値パターンを、シーケンシャルにあるいはランダムに用いる方法も記載されている。これによれば、各階調に対するドット配置パターンが固定されず、擬似輪郭や画像のエッジ部に現れるいわゆる「はきよせ現象」などを低減することができる。また、記録ヘッドに設けられた複数の記録素子の使用を平均化することもできる。 Several methods for converting data once quantized into multilevel data at several levels into binary data have been proposed and implemented. For example, Patent Document 1 uses a dot arrangement pattern in which recording / non-recording of four dots is defined for each 2 × 2 area for one input pixel that can have five gradation values. Describes a method of binarization. In the same document, a plurality of dot arrangement patterns for each 2 × 2 area are prepared for the same gradation value, and the plurality of dot arrangement patterns are used sequentially or randomly. A method is also described. According to this, the dot arrangement pattern for each gradation is not fixed, and it is possible to reduce the so-called “break-off phenomenon” that appears in the pseudo contour or the edge portion of the image. Further, the use of a plurality of recording elements provided in the recording head can be averaged.

また、特許文献２には、同一色のインク滴を吐出しながらも互いに異なる特性を持つ２列の吐出口列を持つ記録ヘッドを用いること、また、この二列の吐出口列を用いて列ごとに記録／非記録を切り替える方法（カラム間引き）を採用することによって記録時間を短縮することが記載されている。さらには、同一の階調値に対してドット配置の異なる複数のドット配置パターンを、様々な弊害のそれぞれに対応して周期的に配列することも開示されている。 Patent Document 2 uses a recording head having two ejection port arrays having different characteristics while ejecting ink droplets of the same color, and uses these two ejection port arrays. It is described that the recording time is shortened by adopting a method (column thinning) for switching between recording / non-recording every time. Furthermore, it is also disclosed that a plurality of dot arrangement patterns having different dot arrangements for the same gradation value are periodically arranged corresponding to each of various harmful effects.

ところで、インクジェット記録装置、特に、パーソナルユーザー向けのシリアル型のインクジェット記録装置では、マルチパス記録という記録方法を採用することが多い。 By the way, in an inkjet recording apparatus, particularly a serial type inkjet recording apparatus for personal users, a recording method called multi-pass recording is often employed.

図１は、マルチパス記録を説明する図であり、記録ヘッドおよびその走査による記録パターンを模式的に示している。１００１は記録ヘッドを示し、ここでは説明の簡略化のため１６個のノズル（吐出口）を有するものとして示している。１６個のノズルは、第１〜第４の４つのノズル群に分割され、各ノズル群には４つずつのノズルが含まれる。１００２はマスクパターンを示し、パターンにおいて各ノズルが記録を行うことが可能な画素（記録許容画素；すなわち、吐出する旨のデータ“１”をマスクせずにそのデータを出力させるマスクデータのエリア）を黒塗りで示している。４つのノズル群に対応したパターンは互いに補完の関係にあり、これらを重ね合わせると４×４の画素に対応した領域の記録を完成することができる。 FIG. 1 is a diagram for explaining multi-pass printing, and schematically shows a print pattern by a print head and its scanning. Reference numeral 1001 denotes a recording head, which is shown here as having 16 nozzles (discharge ports) for the sake of simplicity. The 16 nozzles are divided into first to fourth nozzle groups, and each nozzle group includes four nozzles. Reference numeral 1002 denotes a mask pattern. Pixels that can be recorded by each nozzle in the pattern (printable pixels; that is, an area of mask data in which data “1” to be ejected is output without masking the data) Is shown in black. The patterns corresponding to the four nozzle groups are complementary to each other. When these patterns are overlapped, the recording of the area corresponding to the 4 × 4 pixels can be completed.

１００３〜１００６で示す各パターンは、記録走査を重ねていくことによって画像が完成されていく様子を示したものである。各記録走査が終了するたびに、記録媒体は図の矢印の方向にノズル群の幅分ずつ搬送される。このように、記録媒体の同一領域（各ノズル群の幅に対応する領域）は４回の記録走査によって画像の記録が完成する。 Each pattern indicated by reference numerals 1003 to 1006 indicates a state in which an image is completed by overlapping recording scans. When each recording scan is completed, the recording medium is conveyed by the width of the nozzle group in the direction of the arrow in the figure. In this way, the image recording is completed in the same area of the recording medium (area corresponding to the width of each nozzle group) by four recording scans.

インクジェット記録ヘッドでは、その製造上、複数のノズル間でインクを吐出する方向や量に僅かなばらつきが生じることが避けがたい。また、シリアル型の記録装置では、各記録走査の間に行われる紙送り量に、構成上の誤差を含むこともある。このようなばらつきや誤差は、記録媒体にインクを吐出し記録したときに、スジや濃度ムラのような画像弊害の原因になる。しかし、上述したようなマルチパス記録を採用することによって、この画像弊害を低減させることができる。各ノズルの吐出特性や搬送量にばらつきがあったとしても、これらのばらつきが複数回の走査に分散され、スジや濃度ムラが目立たなくなる。図１は、同一の画像領域に対して４回の記録走査を行う４パス記録の例を示しているが、マルチパス記録は、これに限定されるものではない。２回の記録走査で画像を完成させる２パス記録であっても、また、５回以上の記録走査で画像を完成させる構成であってもよい。 In an inkjet recording head, it is difficult to avoid slight variations in the direction and amount of ink ejected between a plurality of nozzles due to the manufacture thereof. Further, in a serial type recording apparatus, the paper feed amount performed between each recording scan may include a structural error. Such variations and errors cause image defects such as streaks and density unevenness when ink is ejected onto a recording medium. However, by adopting multi-pass printing as described above, this image adverse effect can be reduced. Even if there is a variation in the ejection characteristics and the transport amount of each nozzle, these variations are distributed over a plurality of scans, and streaks and density unevenness are not noticeable. FIG. 1 shows an example of 4-pass printing in which the same image area is scanned four times, but multi-pass printing is not limited to this. Two-pass printing in which an image is completed by two recording scans or an image may be completed by five or more recording scans.

また、マルチパス記録では、マスクパターンの配列を工夫することによって、各記録走査で記録するドット数を調整したり、問題の発生しやすいノズルの記録頻度を低減したりすることができる。すなわち、上記スジや濃度ムラの解消以外にも、様々な目的に応じた形態を採用することができる。例えば、特許文献３には、マスクにおける記録許容画素の配置パターンを分散性に優れたものが記載されている。マルチパス記録では、ある走査の記録位置が他の走査の記録位置に関して定まる正規の位置からずれると、適用しているマスクパターンの記録許容画素の模様（テクスチャー）が視認されることが知られている。特許文献３に記載のマスクパターンによれば、このような場合でも、分散性に優れ視覚的に好ましいパターンを用いるので、マスクパターンと同じテクスチャーは視覚的に目障りになり難く、すなわち目立ち難くすることができ、画像品位への影響が抑制される。 In multi-pass printing, by devising the arrangement of the mask pattern, the number of dots printed in each printing scan can be adjusted, and the frequency of nozzles that are likely to cause problems can be reduced. That is, in addition to eliminating the streaks and density unevenness, it is possible to adopt forms according to various purposes. For example, Patent Document 3 describes an arrangement pattern of print permitting pixels in a mask having excellent dispersibility. In multi-pass printing, it is known that when the printing position of one scan deviates from the normal position determined with respect to the printing position of another scan, the pattern (texture) of the printable pixel of the applied mask pattern is visible. Yes. According to the mask pattern described in Patent Document 3, even in such a case, a visually preferable pattern having excellent dispersibility is used. Therefore, the same texture as the mask pattern is not visually obstructive, that is, is not easily noticeable. And the influence on the image quality is suppressed.

ところで、特許文献１や特許文献２に記載のドット配置パターンによって２値化されたドットデータを用いてマルチパス記録を実施すると、記録画像によっては濃度ムラが発生したり、マスクパターンの模様がテクスチャーとなって現れたりするという問題がある。 By the way, when multi-pass printing is performed using dot data binarized by the dot arrangement pattern described in Patent Document 1 or Patent Document 2, density unevenness may occur depending on the recorded image, or the pattern of the mask pattern may be textured. There is a problem of appearing.

図２は、ドット配置パターンによって２値化した画像データを、マスクを用いて２回の走査それぞれのドットデータを作成する処理を示している。図において、パターン（ａ）は、ドット配置パターンによって２値化された４つの入力画素を、その２値化に用いたドット配置パターンそのもので示している。４×２の画素で構成される１つのドット配置パターンは、その配置されるドットの数によって１つの階調値を表している。図に示す例では、（ドットが５つの）同じ階調値の４つのドット配置パターンが示されており、それらが２種類のドット配置パターン４０１、４０２によって構成されることが示されている。 FIG. 2 shows a process for creating dot data for each of two scans using image data binarized by a dot arrangement pattern using a mask. In the figure, the pattern (a) shows four input pixels binarized by the dot arrangement pattern by the dot arrangement pattern itself used for the binarization. One dot arrangement pattern composed of 4 × 2 pixels represents one gradation value depending on the number of arranged dots. In the example shown in the figure, four dot arrangement patterns having the same gradation value (five dots) are shown, and it is shown that these are constituted by two types of dot arrangement patterns 401 and 402.

このドット配置パターンで示される記録画像に対して、２パスのマルチパス用のマスク（ｂ）および（ｃ）を用いてマスク処理を行うと、それぞれの走査で形成されるドットのパターンは、それぞれパターン（ｄ）、（ｅ）のようになる。この図からわかるように、形成されるドットが一方の走査に偏ってしまい、完成した画像に濃度ムラを生じることがある。これは記録画像を構成するドット配置パターンとマスクパターンが同期ないし干渉するからである。また、このような干渉があると、マルチパス記録によるばらつきやスジを低減する効果も十分に発揮できないことにもなる。 When mask processing is performed on the recorded image indicated by this dot arrangement pattern using the two-pass multi-pass masks (b) and (c), the dot patterns formed in the respective scans are respectively Patterns (d) and (e) are obtained. As can be seen from this figure, the formed dots are biased toward one scan, and density unevenness may occur in the completed image. This is because the dot arrangement pattern and the mask pattern constituting the recording image are synchronized or interfere with each other. Further, if there is such interference, the effect of reducing variations and streaks due to multi-pass recording cannot be fully exhibited.

特許文献４には、同じような問題に対する一つの対処法が開示されている。同文献には、画像を完成する複数回の走査それぞれにほぼ均等にドットを配分するため、面積階調法によって得られる２値画像としてのドット配列の特定の階調値の配列と同期しない同じデューティーの間引きパターンを用いてドット間引くことが記載されている。これにより、画像を構成するドット配置パターンとマスクパターンの干渉を抑制して、一定の走査にドットが偏って配分されることを防止している。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228561 discloses one countermeasure for the same problem. In this document, in order to distribute dots almost evenly for each of a plurality of scans that complete an image, the same that does not synchronize with the arrangement of specific gradation values of a dot arrangement as a binary image obtained by the area gradation method It describes that dots are thinned out using a duty thinning pattern. This suppresses interference between the dot arrangement pattern constituting the image and the mask pattern, thereby preventing the dots from being distributed unevenly in a certain scan.

特開平９−４６５２２号公報JP-A-9-46522 特開２００２−２９０９７号公報JP 2002-29097 A 特開２００２−１４４５５２号公報JP 2002-144552 A 特開平５−０３１９２２号公報JP-A-5-031922

しかしながら、特許文献４に記載の干渉抑制のための構成は、複数回の走査それぞれにおいて形成されるドットの数が均等になるようにすることは可能であるが、それら複数回の走査それぞれで形成されるドットの配置相互の関係を考慮したものではない。このため、例えば、形成されるドットのパターンがある種の幾何学的形状を持ったものとなり、それによって、スジなどが目立ち易くなることがある。 However, although the configuration for suppressing interference described in Patent Document 4 can make the number of dots formed in each of a plurality of scans equal, it is formed in each of the plurality of scans. It does not consider the relationship between the arrangement of dots. For this reason, for example, the pattern of dots to be formed has a certain geometric shape, which may cause lines or the like to be noticeable.

これに関して、特許文献３には、上述したように、マスク処理によるドット配置の分散性が高くなるマスクパターンが開示されている。すなわち、上記のようなスジなどが目立たないようにしたマスクパターンが開示されている。しかし、この特許文献３に記載のマスクパターンは、そのマスクで処理する画像データのドット配置を考慮したものではない。すなわち、そのマスクにおける記録許容画素間の分散のみを考慮したものである。このため、マスク処理する画像が、特に、特許文献１や特許文献２に記載されるような一定のドット配置パターンを有したものであるときは、そのドット配置パターンの影響が複数回の走査に現れてしまうことがある。その場合、それぞれの走査ではマスクに従った分散したドット配置を得ることができるものの、走査間でのドット数の均等配置が実現し難くなる。 In this regard, as described above, Patent Document 3 discloses a mask pattern that increases the dispersibility of dot arrangement by mask processing. That is, a mask pattern in which the above-described streaks are not conspicuous is disclosed. However, the mask pattern described in Patent Document 3 does not consider the dot arrangement of image data processed by the mask. That is, only the dispersion between the print permitting pixels in the mask is considered. For this reason, particularly when the image to be masked has a certain dot arrangement pattern as described in Patent Document 1 or Patent Document 2, the influence of the dot arrangement pattern is affected by a plurality of scans. It may appear. In that case, although it is possible to obtain a dispersed dot arrangement according to the mask in each scan, it is difficult to realize an even arrangement of the number of dots between scans.

さらに、特許文献４の構成では、画像のドット配列が単純な、例えば、４×４画素など比較的少ない画素数の単位で階調を表現している場合は画像のドット配列と非同期のマスクパターンを形成し易い。しかし、比較的多い画素数の単位で階調を表現している場合は、それに応じてドット配列の種類も多くなり、非同期のマスクパターンを形成するのが困難になる。また、同じデューティーを表現するのに複数種類のパターンを持っている場合は特許文献４に記載の方法では対応が困難となる。 Furthermore, in the configuration of Patent Document 4, when the gradation of the image is expressed in a simple unit of pixels, for example, 4 × 4 pixels, the mask pattern is asynchronous with the dot arrangement of the image. Is easy to form. However, when gradations are expressed in units of a relatively large number of pixels, the types of dot arrangements increase accordingly, making it difficult to form an asynchronous mask pattern. Further, when there are a plurality of types of patterns for expressing the same duty, it is difficult to cope with the method described in Patent Document 4.

本発明の目的は、ドット配置パターンとそれを処理するマスクパターンとの干渉を低減するとともに、そのマスクによるドット配置の分散性を良好にするデータ処理装置、記録装置およびマスク製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a data processing apparatus, a recording apparatus, and a mask manufacturing method that reduce the interference between a dot arrangement pattern and a mask pattern that processes the dot arrangement pattern and improve the dispersibility of the dot arrangement using the mask. It is in.

そのために本発明では、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とする。ここで、（ａ）は、前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない、という特性、（ｂ）は、前記低周波数領域の半分より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない、という特性である。 Therefore, in the present invention, mask processing is performed on binary image data representing an image to be recorded in the same area of the recording medium using a plurality of mask patterns corresponding to a plurality of scans of the recording head for the same area. the row Ukoto, wherein a plurality of data processing apparatus for generating a thinned-out binary image data representing a thinned image to be recorded by scanning each, one other than the last scan of the plurality of scans Obtained by the logical product of the data indicating the print allowable pixels in the mask pattern corresponding to the scan of the image and the data indicating the print dots in the dot arrangement pattern used in the binarization process for generating the binary image data. The characteristic of the logical product pattern satisfies the following (a) and (b). Here, (a) represents the frequency components in the low frequency range in the logical product pattern is less than the frequency components of the high frequency range, that characteristic, (b) is from the low frequency half of the low frequency range area This is a characteristic that there is no frequency component peak.

他の形態では、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とする。ここで、（ａ）は、前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない、という特性、（ｂ）は、前記低周波数領域の１／４より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない、という特性である。 In another embodiment, the binary image data representing an image to be recorded in the same area of the recording medium is subjected to mask processing using a plurality of mask patterns corresponding to a plurality of scans of the recording head for the same area. Thus , a data processing device for generating binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in each of the plurality of scans, wherein the data processing device performs one time other than the last scan of the plurality of scans. Logic obtained by logical product of data indicating print allowable pixels in a mask pattern corresponding to scanning and data indicating print dots in a dot arrangement pattern used in the binarization processing for generating the binary image data The characteristics of the product pattern satisfy the following (a) and (b). Here, (a) represents the frequency components in the low frequency range in the logical product pattern is less than the frequency components of the high frequency range, that characteristic, (b) is to a lower frequency than 1/4 of the low frequency range This is a characteristic that there is no frequency component peak in a certain region.

さらに他の形態では、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とする。ここで、（ａ）は、前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない、という特性、（ｂ）は、前記低周波数領域において周波数成分のピークが存在しない、という特性である。 In still another embodiment, mask processing is performed on binary image data representing an image to be recorded in the same area of the recording medium using a plurality of mask patterns corresponding to a plurality of scans of the recording head for the same area. the row Ukoto, wherein a plurality of data processing apparatus for generating a thinned-out binary image data representing a thinned image to be recorded by scanning each, one other than the last scan of the plurality of scans Obtained by the logical product of the data indicating the print allowable pixels in the mask pattern corresponding to the scan of the image and the data indicating the print dots in the dot arrangement pattern used in the binarization process for generating the binary image data. The characteristic of the logical product pattern satisfies the following (a) and (b). Here, (a) represents the frequency components in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency components of the high frequency range, that characteristic, (b) does not exist peak frequency components in the low frequency range, It is a characteristic.

さらに他の形態では、階調値を有する多値の画像データを２値の画像データに変換する２値化処理を行うための２値化手段と、前記２値化手段により得られた２値の画像データから記録ヘッドの複数回の走査夫々で使用される２値の間引き画像データを生成するために、前記２値の画像データに対して前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うためのマスク処理手段と、を有し、前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの１つの階調値に対応したドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、の論理積によって得られる論理積パターンの特性が下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とする。ここで、（ａ）は、前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない、という特性、（ｂ）は、前記低周波数領域の１／４より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない、という特性である。 In still another embodiment, binarization means for performing binarization processing for converting multivalued image data having gradation values into binary image data, and the binary obtained by the binarization means In order to generate binary thinned-out image data used for each of the plurality of scans of the recording head from the image data, a plurality of mask patterns corresponding to the plurality of scans are applied to the binary image data. using a mask processing unit for performing mask processing and, the data representing the print permitting pixels in a mask pattern corresponding to the first scan of the plurality of scans, can be used in the binarization logical product patterns obtained by the logical product of the data indicating the recording dots in the dot arrangement pattern corresponding to one gradation values of a plurality of dot arrangement patterns corresponding respectively such a plurality of gradation values Properties and satisfies the following (a) and (b). Here, (a) represents the frequency components in the low frequency range in the logical product pattern is less than the frequency components of the high frequency range, that characteristic, (b) is to a lower frequency than 1/4 of the low frequency range This is a characteristic that there is no frequency component peak in a certain region.

また、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データから前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査のうちの１回の走査で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するために用いられるマスクパターンの製造方法であって、前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、前記決定工程は、前記マスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調レベルに対応した複数のドット配置パターンに基づき定められるドットの配置を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のドット配置パターンに基づいて前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる変化工程を含むことを特徴とする。 Further, binary thinning representing a thinned image to be recorded in one scan of a plurality of scans of the recording head for the same region from binary image data representing an image to be recorded in the same region of the recording medium. a method of manufacturing a mask pattern used to generate the image data has a determination step of determining an arrangement of print permitting pixels in the mask pattern, said determining step, data indicating the print permitting pixels in the mask pattern And data indicating dot arrangement determined based on a plurality of dot arrangement patterns corresponding to a plurality of gradation levels usable in the binarization processing for generating the binary image data. as the low frequency components of the resulting logical product pattern is reduced, the serial in the mask pattern based on the plurality of dot arrangement patterns Characterized in that it comprises a change step of Ru by changing the arrangement of the permitted pixels.

他の形態では、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データから前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査のうちの１回の走査で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するために用いられるマスクパターンの製造方法であって、前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調レベルに対応した複数のドット配置パターンに基づいて、前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、前記決定工程は、前記記録許容画素の配置を第１の配置に定める第１工程と、前記記録許容画素の配置パターンにおける低周波数成分が少なくなるように、前記複数のドット配置パターンに基づいて前記記録許容画素の配置を前記第１の配置から第２の配置に変化させる第２工程と、を含むことを特徴とする。 In another embodiment, 2 representing a thinned image to be recorded in one scan of a plurality of scans of the recording head for the same region from binary image data representing an image to be recorded in the same region of the recording medium. A mask pattern manufacturing method used for generating thinned-out image data, and a plurality of gradation levels corresponding to a plurality of gradation levels usable in binarization processing for generating the binary image data A determination step of determining an arrangement of print-allowable pixels in the mask pattern based on a dot arrangement pattern, wherein the determination step includes a first step of setting the arrangement of the print-allowable pixels as a first arrangement; Based on the plurality of dot arrangement patterns, the arrangement of the print permitting pixels is changed from the first arrangement to the second arrangement so that low frequency components in the pixel arrangement pattern are reduced. Characterized in that it comprises a second step of reduction.

さらに、マスクパターンの製造方法であって、第１の色のインクを吐出するための第１のノズル群によって記録媒体の同一領域に記録されるべき画像を表す第１の２値画像データから前記同一領域に対する第１のノズル群の複数回の走査のうちの１回の走査で記録されるべき間引き画像を表す２値間引き画像データを生成するために用いられる第１のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める第１決定工程と、前記第１の色とは異なる第２の色のインクを吐出するための第２のノズル群によって記録媒体の同一領域に記録されるべき画像を表す第２の２値画像データから前記同一領域に対する前記第２のノズル群の複数回の走査のうちの１回の走査で記録されるべき間引き画像を表す２値間引き画像データを生成するために用いられる第２のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める第２決定工程とを有し、前記第１決定工程は、前記第１の２値画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの１つの階調値に対応した第１のドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、前記第１のマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記第１のドット配置パターンおよび前記第２のマスクパターンに基づいて前記第１のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含み、前記第２決定工程は、前記第２の２値画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの第２のドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、前記第２のマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記第２のドット配置パターンおよび前記第１のマスクパターンに基づいて前記第２のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むことを特徴とする。 Further, in the mask pattern manufacturing method, the first binary image data representing an image to be recorded in the same area of the recording medium by the first nozzle group for ejecting the first color ink is used. Print-allowable pixels in the first mask pattern used to generate binary thinned-out image data representing a thinned image to be printed in one scan of a plurality of scans of the first nozzle group for the same region A first determination step for determining the arrangement of the second and second images representing an image to be recorded in the same area of the recording medium by a second nozzle group for ejecting ink of a second color different from the first color. Used to generate binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in one of a plurality of scans of the second nozzle group with respect to the same region. A second determining step for determining the arrangement of the print permitting pixels in the second mask pattern, and the first determining step can be used in a binarization process for generating the first binary image data. Data indicating recording dots in the first dot arrangement pattern corresponding to one gradation value among a plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to a plurality of gradation values, and recording allowable pixels in the first mask pattern Print permitting in the first mask pattern based on the first dot arrangement pattern and the second mask pattern so that the low frequency component of the logical product pattern obtained by the logical product of A step of changing a pixel arrangement, wherein the second determination step includes a plurality of levels usable in the binarization processing for generating the second binary image data. A logical product obtained by a logical product of data indicating a recording dot in the second dot arrangement pattern among a plurality of dot arrangement patterns corresponding to each value and data indicating a print allowable pixel in the second mask pattern Including a step of changing the arrangement of print permitting pixels in the second mask pattern based on the second dot arrangement pattern and the first mask pattern so that the low frequency component of the pattern is reduced. To do.

本発明のマスク処理で用いるマスクパターンの記録許容画素の配置は、ドットパターンとの重なり（論理積）を考慮して製造されたものである。すなわち、ドットパターンと重ねた場合の、マスクパターンの記録許容画素の分布は、低周波成分が少なく良好に分散したものとなる。従って、マスク処理により生成される走査毎のドットデータは、その数が特定の走査に偏ることなく、また、一定領域内で良好に分散したものとなる。そして、この良好な分散性によって、種々の要因によって生じ得るテクスチャーが視覚的に目障りになり難く画像品位への影響が抑制される。 The arrangement of the print-allowable pixels of the mask pattern used in the mask processing of the present invention is manufactured in consideration of the overlap (logical product) with the dot pattern. That is, the distribution of the print-allowable pixels in the mask pattern when overlapped with the dot pattern is well dispersed with few low frequency components. Therefore, the dot data for each scan generated by the mask process is well distributed within a certain area without the number of the scan being biased to a specific scan. The good dispersibility suppresses the influence on the image quality because the texture that may be caused by various factors is hardly visually disturbed.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図３は、本発明の実施形態に係る画像処理装置としてのパーソナルコンピュータ（以下、単にＰＣとも言う）のハードウェアおよびソフトウェアの構成を主に示すブロック図である。 FIG. 3 is a block diagram mainly showing hardware and software configurations of a personal computer (hereinafter also simply referred to as a PC) as an image processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

図３において、ホストコンピュータであるＰＣ３０００は、オペレーティングシステム（ＯＳ）３００２によって、アプリケーションソフトウェア３００１、プリンタドライバ３００３、モニタドライバ３００５の各ソフトウェアを動作させる。アプリケーションソフトウェア３００１は、ワープロ、表計算、インターネットブラウザなどに関する処理を行う。モニタドライバ３００５は、モニタ３００６に表示する画像データを作成するなどの処理を実行する。 In FIG. 3, a PC 3000 that is a host computer operates application software 3001, a printer driver 3003, and a monitor driver 3005 by an operating system (OS) 3002. The application software 3001 performs processing related to a word processor, spreadsheet, Internet browser, and the like. The monitor driver 3005 executes processing such as creating image data to be displayed on the monitor 3006.

プリンタドライバ３００３は、アプリケーションソフトウェア３００１からＯＳ３００２へ発行される各種描画命令群（イメージ描画命令、テキスト描画命令グラフィクス描画命令など）を描画処理して、最終的にプリンタ３００４で用いる画像データを生成する。詳しくは、図４以降で後述される画像処理を実行することにより、プリンタ３００４で用いるインクのシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）およびブラック（Ｋ）それぞれの色成分について５値のインデックスデータを生成する。プリンタ３００４では、このインデックスデータに基づき、その５値のそれぞれの値（レベル）に応じたドット配置パターンを出力する。 The printer driver 3003 draws various drawing command groups (image drawing command, text drawing command, graphics drawing command, etc.) issued from the application software 3001 to the OS 3002, and finally generates image data used by the printer 3004. Specifically, by executing image processing described later in FIG. 4 and later, five values are obtained for each of the cyan (C), magenta (M), yellow (Y), and black (K) color components of the ink used in the printer 3004. Generate index data for. The printer 3004 outputs a dot arrangement pattern corresponding to each of the five values (levels) based on the index data.

ホストコンピュータ３０００は、以上のソフトウェアを動作させるための各種ハードウェアとして、ＣＰＵ３００８、ハードディスク（ＨＤ）３００７、ＲＡＭ３００９、ＲＯＭ３０１０などを備える。すなわち、ＣＰＵ３００８は、ハードディスク３００７やＲＯＭ３０１０に格納されている上記のソフトウェアプログラムに従ってその処理を実行し、ＲＡＭ３００９はその処理実行の際にワークエリアとして用いられる。 The host computer 3000 includes a CPU 3008, a hard disk (HD) 3007, a RAM 3009, a ROM 3010, and the like as various hardware for operating the above software. That is, the CPU 3008 executes the process in accordance with the software program stored in the hard disk 3007 or the ROM 3010, and the RAM 3009 is used as a work area when the process is executed.

記録装置としてのプリンタ３００４は、インクを吐出する記録ヘッドを記録媒体に対して走査し、その間にインクを吐出して記録を行ういわゆるシリアル方式のプリンタである。記録ヘッドは、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋそれぞれのインクに対応して用意され、これらがキャリッジに装着されることにより、記録用紙などの記録媒体に対して走査することができる。それぞれの記録ヘッドは、吐出口の配列密度が１２００ｄｐｉであり、それぞれの吐出口から２ピコリットル（ｐｌ）のインク滴を吐出する。また、それぞれの記録ヘッドの吐出口の数は５１２個である。本実施形態のマルチパス記録方式は、後述される各実施形態に応じたパス数の記録を行う。 A printer 3004 as a recording apparatus is a so-called serial type printer that performs recording by scanning a recording medium for ejecting ink with respect to a recording medium and ejecting ink during that time. The recording head is prepared corresponding to each of the C, M, Y, and K inks, and can be scanned with respect to a recording medium such as a recording sheet by being mounted on the carriage. Each recording head has an ejection port array density of 1200 dpi, and ejects 2 picoliter (pl) of ink droplets from each ejection port. Further, the number of ejection ports of each recording head is 512. The multi-pass recording method of this embodiment performs recording of the number of passes according to each embodiment described later.

図４は、本実施形態の記録システムにおける、画像データの変換処理の流れを説明するブロック図である。図３にて上述したように、本実施形態のプリンタ（記録装置）は、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの４色のインクを吐出するためのそれぞれの記録ヘッドＪ００１０を備える。また、図４に示す各処理は、プリンタとホスト装置としてのパーソナルコンピュータ（ＰＣ）において実行される。 FIG. 4 is a block diagram illustrating the flow of image data conversion processing in the recording system of the present embodiment. As described above with reference to FIG. 3, the printer (recording apparatus) according to the present embodiment includes the respective recording heads J0010 for ejecting four colors of C, M, Y, and K. Each process shown in FIG. 4 is executed by a printer and a personal computer (PC) as a host device.

アプリケーションＪ０００１はプリンタで記録する画像データを作成する処理を実行する。そして、記録の際にはアプリケーションで作成された画像データがプリンタドライバに渡される。プリンタドライバはその処理として、前段処理Ｊ０００２、後段処理Ｊ０００３、γ補正Ｊ０００４、ハーフトーニングＪ０００５、および印刷データ作成Ｊ０００６を有する。以下に、各処理を簡単に説明する。 The application J0001 executes processing for creating image data to be recorded by the printer. When recording, image data created by the application is passed to the printer driver. The printer driver includes pre-processing J0002, post-processing J0003, γ correction J0004, halftoning J0005, and print data creation J0006 as processing. Below, each process is demonstrated easily.

前段処理Ｊ０００２は色域（Ｇａｍｕｔ）のマッピングを行う。この処理は、ｓＲＧＢ規格の画像データＲ、Ｇ、Ｂによって再現される色域を、プリンタによって再現される色域内に写像するためのデータ変換を行う。具体的には、Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれが８ｂｉｔで表現された２５６階調のデータを、３次元のＬＵＴ（ルックアップテーブル）を用いることにより、色域が異なるそれぞれ８ｂｉｔのＲ、Ｇ、Ｂデータに変換する。 The pre-stage process J0002 performs color gamut mapping. This process performs data conversion for mapping the color gamut reproduced by the image data R, G, B of the sRGB standard into the color gamut reproduced by the printer. Specifically, by using a three-dimensional LUT (look-up table), data of 256 gradations in which each of R, G, and B is represented by 8 bits is used, so that each of R, G, Convert to B data.

後段処理Ｊ０００３は、上記色域のマッピングがなされたＲ、Ｇ、Ｂデータに基づき、このデータが表す色を再現するインクの組み合わせであるそれぞれ８ｂｉｔの色分解データＹ、Ｍ、Ｃを求める。ここでは前段処理と同様に、３次元ＬＵＴに補間演算を併用して変換を行う。 The post-stage processing J0003 obtains 8-bit color separation data Y, M, and C, which are combinations of inks that reproduce the colors represented by the data, based on the R, G, and B data on which the color gamut is mapped. Here, as in the previous process, conversion is performed using a three-dimensional LUT together with an interpolation operation.

γ補正Ｊ０００４は、後段処理Ｊ０００３によって求められた色分解データの色成分ごとに、その濃度値（階調値）変換を行う。具体的には、１次元ＬＵＴを用い上記色分解データをプリンタの階調特性に線形的に対応づけられるような変換を行う。 The γ correction J0004 performs density value (gradation value) conversion for each color component of the color separation data obtained by the post-processing J0003. Specifically, conversion is performed using a one-dimensional LUT so that the color separation data is linearly associated with the gradation characteristics of the printer.

ハーフトーニングＪ０００５は、８ビットの色分解データＹ、Ｍ、Ｃのそれぞれについて、量子化処理を行い４ビットのデータに量子化する。本実施形態では、多値誤差拡散法を用いて、２５６階調の８ビットデータを、５階調を表す４ビットデータに変換する。この４ビットデータは、プリンタにおける２値化処理であるドット配置パターンへの変換処理のインデックスとなる階調値情報である。 Halftoning J0005 performs quantization on each of the 8-bit color separation data Y, M, and C, and quantizes the data into 4-bit data. In the present embodiment, 256-bit 8-bit data is converted into 4-bit data representing 5 gradations using a multi-level error diffusion method. The 4-bit data is gradation value information that serves as an index for conversion processing to a dot arrangement pattern, which is binarization processing in the printer.

印刷データ作成処理Ｊ０００６は、上記４ビットのインデックスデータを内容とする印刷イメージ情報に印刷制御情報を加え印刷データを作成する。 The print data creation process J0006 creates print data by adding print control information to the print image information containing the 4-bit index data.

以上のホスト装置による処理によって印刷データがプリンタに送られると、プリンタは、入力した印刷データに対して、ドット配置パターン化処理Ｊ０００７およびマスクデータ変換処理Ｊ０００８を行う。 When the print data is sent to the printer by the above processing by the host device, the printer performs dot arrangement patterning processing J0007 and mask data conversion processing J0008 on the input print data.

ドット配置パターン化処理Ｊ０００７は、５値のインデックスデータに基づいてドット配置パターンを出力することにより２値化処理を行う。これにより、プリンタが記録の際に用いる、インクを吐出するか否かの２値情報を得ることができる。 The dot arrangement patterning process J0007 performs a binarization process by outputting a dot arrangement pattern based on five-valued index data. As a result, binary information indicating whether or not to eject ink, which is used when the printer performs recording, can be obtained.

図５は、５値のインデックスデータに応じた本実施形態のドット配置パターンを示す図である。Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋそれぞれのインデックスデータが示す階調レベル０〜階調レベル４の５値のそれぞれについてドットの配置パターンが定められている。 FIG. 5 is a diagram showing a dot arrangement pattern according to the present embodiment corresponding to five-value index data. The dot arrangement pattern is determined for each of the five values of gradation level 0 to gradation level 4 indicated by the index data of C, M, Y, and K.

同図に示す縦２画素、横２画素で構成される２×２の出力画素は、ハーフトーン処理で出力された１つの入力画素に対応するものであり、この入力画素は縦横ともに６００ｄｐｉ（ドット／インチ）の画素密度に対応する大きさである。１つの入力画素を構成する複数の画素夫々は、ドットの記録・非記録（インクの吐出・非吐出）が定義される領域である。「黒」で塗りつぶした領域がドットの記録が許容される画素（記録許容画素）を示し、「白」の領域がドットの記録が許容されない画素（非録許容画素）を示している。そして、インデックスデータが示すレベル０〜レベル４のいずれかの値に応じて、ドット記録が定義される記録許容画素の数が定まっている。 The 2 × 2 output pixel composed of two vertical pixels and two horizontal pixels shown in the figure corresponds to one input pixel output by halftone processing, and this input pixel is 600 dpi (dots in both vertical and horizontal directions). / Inch) is a size corresponding to the pixel density. Each of the plurality of pixels constituting one input pixel is an area where dot recording / non-recording (ink ejection / non-ejection) is defined. An area filled with “black” indicates a pixel in which dot recording is allowed (recording allowable pixel), and a “white” area indicates a pixel in which dot recording is not allowed (non-recording allowable pixel). Then, the number of print permitting pixels in which dot printing is defined is determined according to any value of level 0 to level 4 indicated by the index data.

これらのドット配置パターンの１つの画素は、本実施形態のプリンタにおける縦が１２００ｄｐｉ、横が１２００ｄｐｉの記録密度の大きさに対応している。すなわち、本実施形態のプリンタは、縦が約２０μｍ、横が約１０μｍの１つの画素に対して、各色の記録ヘッドから２ｐｌのインク滴を１つずつ吐出して１つのドット形成する仕様となっている。ドット配置パターン化処理Ｊ０００７は、以上のドット配置パターンを用いて５値データを２値化する処理を行い、各エリアに対応する吐出口や記録するカラムについての「１」または「０」の１ビットの吐出データを生成する。 One pixel of these dot arrangement patterns corresponds to a recording density of 1200 dpi in the vertical direction and 1200 dpi in the horizontal direction in the printer of this embodiment. That is, the printer according to the present embodiment has a specification in which one dot is formed by ejecting 2 pl of ink droplets one by one from the recording head of each color to one pixel of about 20 μm in length and about 10 μm in width. ing. The dot arrangement patterning process J0007 performs a process of binarizing the quinary data using the above dot arrangement pattern, and “1” or “0” 1 for the ejection port corresponding to each area and the recording column. Bit discharge data is generated.

なお、実際のドット配置パターン化処理を行うときは、図１１などにて後述されるように、図５に示す各階調レベルのドット配置パターンにおける「黒」エリアの位置を異ならせた２×２のパターンが、入力画素の位置およびレベルに応じて適用される。 When actual dot arrangement patterning processing is performed, as will be described later with reference to FIG. 11 and the like, 2 × 2 in which the positions of the “black” areas in the dot arrangement patterns at the respective gradation levels shown in FIG. This pattern is applied according to the position and level of the input pixel.

次に、マスクデータ変換処理Ｊ０００８は、ドット配置パターン化処理Ｊ０００７により決定された各色のドット配列に対して、互いに補完の関係にある複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行う。これにより、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色についてマルチパスを構成する走査ごとの吐出データを生成する。この処理で用いられるマスクのパターンは、図６以降で詳細を後述するように、ドット配置パターン化処理Ｊ０００７で用いるドット配置パターンとの干渉を低減したものであり、また、マスク自体の記録許容画素パターンの分散性を高くしたものである。さらに、後述される本発明の第２の実施形態のマスクは、上記の点に加えて、マスク間のパターンの干渉性を低減したものである。 Next, the mask data conversion process J0008 performs a mask process on the dot arrangement of each color determined by the dot arrangement patterning process J0007 using a plurality of mask patterns that are complementary to each other. Thereby, ejection data for each scan constituting a multi-pass is generated for each color of C, M, Y, and K. The mask pattern used in this process has reduced interference with the dot arrangement pattern used in the dot arrangement patterning process J0007, as will be described in detail later with reference to FIG. The pattern has high dispersibility. Furthermore, the mask of the second embodiment of the present invention to be described later has a reduced pattern coherence between the masks in addition to the above points.

マスク処理によって得られた吐出データは、マルチパス記録における複数回の走査夫々で、適切なタイミングでヘッド駆動回路Ｊ０００９に供給される。そして、駆動回路Ｊ０００９に入力した各色の１ｂｉｔデータは、記録ヘッドＪ００１０の駆動パルスに変換され、各色の記録ヘッドＪ００１０から所定のタイミングでインクが吐出される。これにより、吐出データに応じたインク吐出が行われて記録媒体に画像の記録が行われる。なお、本実施形態では、複数の記録モードに対応した複数のマスクデータがプリンタのメモリに格納してある。また、プリンタにおける上述のドット配置パターン化処理やマスクデータ変換処理は、それらに専用のハードウェア回路を用い、記録装置の制御部を構成するＣＰＵの制御の下に実行されているものとする。以上のプリンタにおける主にマスクデータ変換処理を行うプリンタは、データ処理装置を構成する。 The ejection data obtained by the mask process is supplied to the head drive circuit J0009 at an appropriate timing in each of a plurality of scans in multipass printing. The 1-bit data of each color input to the driving circuit J0009 is converted into a driving pulse for the recording head J0010, and ink is ejected from the recording head J0010 for each color at a predetermined timing. Thus, ink is ejected according to the ejection data, and an image is recorded on the recording medium. In the present embodiment, a plurality of mask data corresponding to a plurality of recording modes are stored in the memory of the printer. Further, it is assumed that the above-described dot arrangement patterning process and mask data conversion process in the printer are executed under the control of the CPU constituting the control unit of the printing apparatus using dedicated hardware circuits for them. A printer that mainly performs mask data conversion processing in the above-described printer constitutes a data processing apparatus.

以下では、上述の記録システムにおいて用いられあるいは製造される、マスクパターンの製造方法およびそれによるマスクパターンのいくつかの実施形態を説明するが、その前に、マスクパターン製造の基本的な方法やそこで用いる斥力計算などの概念を説明する。 In the following, some embodiments of a mask pattern manufacturing method and a mask pattern used by or used in the above-described recording system will be described. Before that, a basic method of mask pattern manufacturing and a method therefor will be described. The concept of repulsive force calculation to be used will be described.

（マスクの製法）
以下の基本的なマスク製造方法の説明では、説明の簡略化のため、記録許容画素が配置されているマスクや、ドットが配置されている、上記マスクと同じサイズのドット配置パターンを、共通に「プレーン」と称する。また、それらパターンに配置されている記録許容画素やドットを単に「ドット」と称する。 (Mask manufacturing method)
In the following description of the basic mask manufacturing method, for simplification of description, a mask in which printing allowable pixels are arranged and a dot arrangement pattern having the same size as the mask in which dots are arranged are commonly used. This is called “plane”. Also, the print permitting pixels and dots arranged in these patterns are simply referred to as “dots”.

本発明の実施形態に係るマスクの製造方法は、このようなドット配置パターンやマスクのプレーンについて、例えば、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、先ず、プレーンＡ１、Ａ２、Ａ３の３つのプレーンを規定する。そして、同じプレーン内のドット間や異なるプレーン間に斥力を作用させるとともに、異なるプレーンのドットの重なりを認め、そのような重なり同士の間にも斥力を作用させて、それぞれのプレーン内のドットの配置を定める。 In the mask manufacturing method according to the embodiment of the present invention, for such a dot arrangement pattern and a mask plane, first, as shown in FIGS. 6A to 6D, for example, the planes A1, A2, and A3 Three planes are defined. In addition, a repulsive force is applied between dots in the same plane or between different planes, and overlapping of dots in different planes is recognized, and a repulsive force is also applied between such overlaps so that dots in each plane Determine the placement.

プレーンにおけるドットの配置を定める方法は、大別して、複数のプレーンの配置を同時に定める方法（同時生成）と、プレーンごとに順次定める方法（プレーンごとの生成）の２つの方法のいずれかである。さらに、上記２つの生成方法それぞれについて、具体的にドットの配置を定める仕方として、プレーンの総てのドットを予め所定の配置としこれらを移動させながら、生成されるプレーン全体で分散性を上げて行く方法（以下、「配置移動法」）がある。また、その他に、生成されるプレーン全体で分散性を上げながらドットを１つずつ配置して行く方法（以下、「順次配置法」）も実行することができる。 The method for determining the arrangement of dots in a plane is roughly divided into one of two methods: a method for determining the arrangement of a plurality of planes simultaneously (simultaneous generation) and a method for sequentially determining each plane (generation for each plane). Furthermore, for each of the above two generation methods, as a way of specifically determining the dot arrangement, all the dots on the plane are pre-arranged in advance and moved while increasing the dispersibility over the entire generated plane. There is a way to go (hereinafter referred to as “placement movement method”). In addition, a method of arranging dots one by one while increasing dispersibility over the entire generated plane (hereinafter referred to as “sequential arrangement method”) can also be executed.

配置移動法
配置移動法によるドットの配置決定処理の概略は次のとおりである。 Summary of arrangement determination processing of a dot by the arrangement moving method arrangement moving method is as follows.

例えばドット配置率が５０％プレーンのドット配置を定める場合、プレーンＡ１、Ａ２、Ａ３それぞれについて、１ビットのデータが“１”であるドットがドット配置可能位置の５０％に配された初期配置を、例えば、誤差拡散法などの２値化処理によって得る。なお、この２値化の手法を用いてドットの初期配置を得るのは、用いる２値化の手法に応じてある程度、初期状態で分散性のよい配置を得ることができるからであり、これにより、その後の最終的な配置決定までの演算時間ないし収束時間を短くできるからである。換言すれば、本発明を適用する上で初期配置を得る方法は本質ではなく、例えば、プレーンにおいて、１ビットのデータが“１”であるドットをランダムに配置した初期配置であってもよい。 For example, when a dot arrangement rate of 50% plane is determined, for each of the planes A1, A2, and A3, an initial arrangement in which dots with 1-bit data of “1” are arranged at 50% of the dot arrangement possible positions. For example, it is obtained by a binarization process such as an error diffusion method. The reason why the initial arrangement of dots is obtained by using this binarization technique is that an arrangement with good dispersibility in the initial state can be obtained to some extent according to the binarization technique used. This is because the calculation time or convergence time until the final placement determination can be shortened. In other words, the method for obtaining the initial arrangement is not essential in applying the present invention. For example, the initial arrangement may be such that dots whose 1-bit data is “1” are randomly arranged in the plane.

次に、上記のようにして得たそれぞれのプレーンＡ１、Ａ２、Ａ３の総てのドットについて斥力ポテンシャルを計算する。具体的には、
（ｉ）同一プレーン内のドット間に距離に応じた斥力を与える。
（ii）さらに、異なるプレーン間のドットにも斥力を与える。
（iii）同一プレーンと異なるプレーン間に異なる斥力を与える。
（iv）異なるプレーンのドットの重なりを認め、ドットの重なり（２つのドット重なり、３つのドット重なり、…）同士も組み合わせに応じた斥力を与える。 Next, the repulsive potential is calculated for all the dots of the planes A1, A2, and A3 obtained as described above. In particular,
(I) A repulsive force corresponding to the distance is applied between dots in the same plane.
(Ii) Furthermore, a repulsive force is also applied to dots between different planes.
(Iii) Apply different repulsive forces between the same plane and different planes.
(Iv) Recognizing the overlap of dots in different planes, the dot overlap (two dot overlaps, three dot overlaps,...) Also gives a repulsive force according to the combination.

図７は、本実施形態に係る基本斥力ポテンシャルＥ（ｒ）の関数を模式的に示す図である。 FIG. 7 is a diagram schematically showing a function of the basic repulsive potential E (r) according to the present embodiment.

同図に示すように、本実施形態で規定する斥力関数は、その斥力が及ぶ範囲をｒ＝１６（１６個分のドットが配置される位置）までとする。このような距離とともに減衰するポテンシャルを用いることにより、基本的に、ドットが接近して配置されるとエネルギーが高い状態、すなわち不安定な状態となり、収束計算の結果、接近した配置はできるだけ選択されないようにすることができる。なお、この斥力の形状は、マスク画素全体に対するドットの割合により決定することがより望ましい。 As shown in the figure, the repulsive force function defined in the present embodiment has a repulsive force range up to r = 16 (position where 16 dots are arranged). By using a potential that decays with such a distance, basically, when dots are placed close to each other, the energy is high, that is, an unstable state. As a result of convergence calculation, the close placement is not selected as much as possible. Can be. It is more desirable to determine the shape of this repulsive force based on the ratio of dots to the entire mask pixel.

また、複数のドットが重なるドット配置を考えるとき、ドットを配置できる位置（解像度１２００場合の場合は、１インチ四方に１２００×１２００個の可能位置がある）以上に重ねてドットを配置する。このため、各ドットについて斥力ポテンシャルを計算する際には、ドットの上にドットが重なることを考慮する。このため、ｒ＝０において有限の斥力ポテンシャルを持つように関数を定義する。これにより、ドットの重なりをも考慮した分散が可能となる。 Further, when considering a dot arrangement in which a plurality of dots overlap, the dots are arranged so as to overlap more than positions where dots can be arranged (in the case of resolution 1200, there are 1200 × 1200 possible positions in one inch square). For this reason, when calculating the repulsive potential for each dot, it is considered that the dot overlaps on the dot. For this reason, a function is defined so as to have a finite repulsive potential at r = 0. Thereby, dispersion in consideration of dot overlap is possible.

本実施形態では、同一プレーンのドット同士に関してαＥ（ｒ）、異なるプレーン間のドット同士に関してβＥ（ｒ）、重なるドット同士に関してγｓ（ｎ）Ｅ（ｒ）の斥力ポテンシャルを与えて計算を行う。つまり、あるドットが存在することによるポテンシャルは、距離ｒ以内の範囲にある、同プレーンのドット、異なるプレーンのドット、さらには異なるプレーンの重なるドットについての斥力ポテンシャルが加算される。 In this embodiment, calculation is performed by giving a repulsive potential of αE (r) for dots in the same plane, βE (r) for dots between different planes, and γs (n) E (r) for overlapping dots. In other words, the potential due to the presence of a certain dot is added to the repulsive potential of dots in the same plane, dots in different planes, and even overlapping dots in different planes within the distance r.

上記の斥力ポテンシャルにおいて、係数α、β、γは重み付け係数であり、例えば、α＝３、β＝１、γ＝３の値を用いる。このα、β、γの値によってドットの分散性が影響を受ける。このα、β、γの値は、例えば、実際には実験を行い、マスクを用いて記録される記録画像を参照した最適化により求めることができる。 In the above repulsive potential, coefficients α, β, and γ are weighting coefficients, and for example, values of α = 3, β = 1, and γ = 3 are used. The dispersion of dots is affected by the values of α, β, and γ. The values of α, β, and γ can be obtained, for example, by performing an experiment in practice and optimizing with reference to a recorded image recorded using a mask.

また、係数ｓ（ｎ）は、重なるドットを分散させるためにγに加えてさらに積算する係数である。この係数ｓ（ｎ）は、重なりが多いほどそれらのドットをより分散させるべく重なりの数に応じた値とするものである。本願発明者等の実験によれば、次の２つの式いずれかによって求められるｓ（ｎ）を用いることにより、分散に関してよい結果を得ることができる。 The coefficient s (n) is a coefficient that is further integrated in addition to γ in order to disperse overlapping dots. This coefficient s (n) is set to a value corresponding to the number of overlaps so that the more overlaps, the more the dots are dispersed. According to experiments by the inventors of the present application, good results regarding dispersion can be obtained by using s (n) obtained by either of the following two expressions.

すなわち、ｎを重なりの数とするとき、組合せの数の和をｓ（ｎ）とするものである。詳細には、斥力を計算する注目ドットに対して重なる（同じプレーンまたは異なるプレーンにおける同じ位置の）ドットを調べるとともに、注目ドットから距離ｒに位置するドットを調べる。この場合に、注目ドットおよびその画素と同じ位置で重なる他のプレーンのドットと、距離ｒにある各プレーンのその位置で同じように重なるドットの共通する重なりの数をｎとする。そして、これら２つの位置間の重なったドット同士による斥力を考える。 That is, when n is the number of overlaps, the sum of the number of combinations is s (n). Specifically, a dot that overlaps with the target dot for calculating repulsive force (at the same position in the same plane or in a different plane) and a dot located at a distance r from the target dot are checked. In this case, the number of overlaps in common between the dot of interest and the dot of another plane that overlaps at the same position as the pixel and the dot that overlaps at the same position of each plane at the distance r is n. Consider the repulsive force caused by the overlapping dots between these two positions.

この場合、例えば、ある２つの位置間で第１のプレーン、第２のプレーンおよび第３のプレーンにそれぞれ共通にドットが存在する例を考えると、ｎ＝３となる。そして、それらの位置間には３つのドットの重なりに起因する斥力を作用させる。ここで、３つのドットの重なりによる斥力を考えるとき、３つのドットの重なりとともに、２つのドットの重なり同士や１つのドット同士の斥力が多重的に作用すると考える。換言すれば、第３プレーンを考えなければ、第１プレーンと第２プレーンの２つのドットの重なりと考えることができ、また、第２プレーンを考えなければ第１プレーンと第３プレーンの２つのドットの重なりとも考えられる。第１プレーンを考えなければ第２プレーンと第３プレーンの重なりと考えられる。このようなドットが重なることの多重的な効果を計算するために、重なりの組合せによる斥力を定義し上記のようなｓ（ｎ）を用いる。これによれば、分散性のよいドット配置を得ることができることが実験上確認されている。 In this case, for example, n = 3 when considering an example in which dots commonly exist in the first plane, the second plane, and the third plane between two certain positions. A repulsive force resulting from the overlap of three dots is applied between these positions. Here, when the repulsive force due to the overlap of three dots is considered, it is considered that the overlap of two dots and the repulsive force of one dot act in a multiplexed manner together with the overlap of three dots. In other words, if the third plane is not considered, it can be considered that two dots of the first plane and the second plane overlap, and if the second plane is not considered, the two of the first plane and the third plane are considered. It can also be thought of as overlapping dots. If the first plane is not considered, it is considered that the second plane and the third plane overlap. In order to calculate the multiple effect of overlapping such dots, the repulsive force due to the combination of overlaps is defined and s (n) as described above is used. According to this, it has been experimentally confirmed that a dot arrangement with good dispersibility can be obtained.

上記のようにして、総てのドットの斥力ポテンシャルを合計した総エネルギーが求まると、この総エネルギーを減衰させる処理を行う。 When the total energy obtained by summing up the repulsive potentials of all dots is obtained as described above, a process for attenuating the total energy is performed.

この処理では、総てのドットについて、順に距離ｒが４以内のドット配置可能位置の中で斥力ポテンシャルが最も下がる画素にドットを移す。このような処理を繰り返していくことによって、総てのドットの斥力ポテンシャルの合計値である総エネルギーを低下させて行く。すなわち、この総エネルギーが順次減少して行く過程は、ドットの配置が順次分散性を高める過程、つまりドット配置の低周波数成分が順次少なくなって行く過程である。 In this process, for all the dots, the dots are sequentially transferred to the pixel where the repulsive potential is the lowest among the positions where the distance r is 4 or less. By repeating such processing, the total energy, which is the total value of the repulsive potential of all dots, is reduced. That is, the process in which the total energy decreases sequentially is a process in which the dot arrangement sequentially increases the dispersibility, that is, a process in which the low frequency components of the dot arrangement decrease in sequence.

そして、総エネルギーの低下率を計算し、それが所定値以下であると判断すると、エネルギー減衰処理を終了する。なお、この所定値は、例えば、実際に印刷を行った結果をもとに、低周波数成分が適切に抑えられた画像を記録できる低下率として求めることができる。最後に、上記のように総エネルギーの低下率が所定値以下となった状態の各プレーンのドット配置を最終的なドットの配置として設定する。 Then, the rate of reduction of the total energy is calculated, and if it is determined that it is equal to or less than a predetermined value, the energy attenuation process is terminated. The predetermined value can be obtained as a reduction rate at which an image in which low frequency components are appropriately suppressed can be recorded based on the result of actual printing. Finally, the dot arrangement of each plane in a state where the reduction rate of the total energy is equal to or less than a predetermined value as described above is set as the final dot arrangement.

図６（ａ）〜（ｄ）は、上述した斥力ポテンシャルの計算と総エネルギーの減衰処理を模式的に示している。詳しくは、３プレーンＡ１、Ａ２、Ａ３を斜視図で示し、また、特にドットの移動を平面図で示す図である。ここで、最小の正方形はドット配置可能位置を示し、３プレーンの重なりにおいて重なる位置がプレーン間で同じ配置可能位置に対応する。 FIGS. 6A to 6D schematically show the above-described repulsive potential calculation and total energy attenuation processing. Specifically, the three planes A1, A2, and A3 are shown in a perspective view, and in particular, the movement of dots is shown in a plan view. Here, the smallest square indicates the dot arrangement possible position, and the overlapping position in the overlap of the three planes corresponds to the same arrangement possible position between the planes.

図６（ａ）は、同一プレーンにドットが存在する場合にそれらドット間の斥力によってポテンシャルが加えられる（増す）ことを説明する図である。図に示す例では、プレーンＡ１の注目位置のドットＤｏと同じプレーンで距離ｒ離れた位置にドットが１個存在する例であり、この場合、α＝３が適用され、ドットＤｏのポテンシャルとして１×αＥ（ｒ）のポテンシャルが加えられる。 FIG. 6A is a diagram for explaining that potential is added (increased) by repulsive force between dots when dots exist in the same plane. The example shown in the figure is an example in which one dot exists at a position separated by a distance r on the same plane as the dot Do at the target position of the plane A1, and in this case, α = 3 is applied and the potential of the dot Do is 1 A potential of × αE (r) is added.

図６（ｂ）は、注目ドットＤｏとは異なるプレーン（プレーンＡ２、Ａ３）にドットが存在する場合に、それら２個のドットとの関係で加えられる斥力ポテンシャルを説明する図である。異なるプレーン間のドットとの関係であるから、β＝１が適用されドットＤｏのポテンシャルとしてドット２個分の２×βＥ（ｒ）のポテンシャルが加えられる。 FIG. 6B is a diagram for explaining the repulsive potential applied in relation to these two dots when dots exist on a plane (planes A2 and A3) different from the target dot Do. Because of the relationship with dots between different planes, β = 1 is applied and a potential of 2 × βE (r) corresponding to two dots is added as the potential of the dot Do.

図６（ｃ）は、上記の２つの場合に加え、異なるプレーンの同一位置にドットが存在してドットの重なりが存在する場合に、それらのドットとの関係で加えられる斥力ポテンシャルを説明する図である。この場合は、図６（ａ）および（ｂ）の場合に加え、注目ドットＤｏのプレーンＡ１と異なるプレーンＡ３の同じ位置にドットが存在する。これによって、同プレーンの斥力ポテンシャル1×αE(r)と、同じ位置の異なるプレーンの１個のドットによる斥力ポテンシャル１×βＥ（０）と、異なるプレーンの２個のドットによる斥力ポテンシャル２×βＥ（ｒ）と、重なる数ｎ＝２でγ＝３が適用される、重なりによる斥力ポテンシャルγｓ（２）×Ｅ（ｒ）のポテンシャルが加えられる。この結果、図６（ｃ）に示すドット配置において注目ドットＤｏが存在することによる斥力ポテンシャルの合計は、１×βＥ（０）＋１×αＥ（ｒ）＋２×βＥ（ｒ）＋γｓ（２）×Ｅ（ｒ）となる。 FIG. 6C is a diagram for explaining the repulsive potential applied in relation to the dots in the case where dots exist at the same position on different planes and there are overlapping dots in addition to the above two cases. It is. In this case, in addition to the cases of FIGS. 6A and 6B, dots exist at the same position on the plane A3 different from the plane A1 of the target dot Do. As a result, the repulsive potential 1 × αE (r) of the same plane, the repulsive potential 1 × βE (0) due to one dot in a different plane at the same position, and the repulsive potential 2 × βE due to two dots in a different plane (R) and a potential of repulsive force γs (2) × E (r) due to the overlap, where the overlapping number n = 2 and γ = 3 are applied. As a result, the total repulsive potential due to the presence of the dot of interest Do in the dot arrangement shown in FIG. 6C is 1 × βE (0) + 1 × αE (r) + 2 × βE (r) + γs (2) × E (r).

図６（ｄ）は、図６（ｃ）に示すドット配置において、ドットＤｏを移動させることにより、そのドットの斥力ポテンシャルの合計が変化することを説明する図である。図６（ｄ）に示すように、ドットＤｏ（プレーンＡ１のドット）が同じプレーンの隣の画素に移ると、そのドットＤｏが存在することによる斥力ポテンシャルの合計は次のようになる。すなわち、距離がｒ２、重なり同士の数ｎが０となることなどにより、斥力ポテンシャルの合計はβＥ（１）＋１×αＥ（ｒ２）＋２×βＥ（ｒ２）に変化する。そして、図６（ｃ）に示すドット配置の場合の斥力ポテンシャルの合計１×βＥ（０）＋２×βＥ（ｒ）＋１×αＥ（ｒ）＋γｓ（２）×Ｅ（ｒ）と、図６（ｄ）のドットＤｏが移動したことによる斥力の合計とを比較し、この移動前後の斥力ポテンシャルの合計の変化を知ることができる。 FIG. 6D is a diagram illustrating that in the dot arrangement shown in FIG. 6C, when the dot Do is moved, the total repulsive potential of the dot changes. As shown in FIG. 6D, when the dot Do (dot of the plane A1) moves to the adjacent pixel of the same plane, the total repulsive potential due to the presence of the dot Do is as follows. That is, the total repulsive potential changes to βE (1) + 1 × αE (r2) + 2 × βE (r2) because the distance is r2 and the number n of overlaps is 0. The total repulsive potential in the case of the dot arrangement shown in FIG. 6C is 1 × βE (0) + 2 × βE (r) + 1 × αE (r) + γs (2) × E (r), and FIG. It is possible to know the change in the total repulsive potential before and after the movement by comparing the total repulsive force due to the movement of the dots Do in d).

なお、この斥力ポテンシャルの合計は、上記の説明では、２つの位置またはドット移動させたときは３つの位置のドットによるエネルギーの合計を求めるものとしている。しかし、これは説明を簡易にするためであり、実際は、これらのドット以外に存在し得る他の位置のドットを含めたドットとの関係に基づく斥力ポテンシャルの積分として求められるものであることはもちろんである。 In the above description, the sum of the repulsive potentials is the sum of the energy of the dots at three positions or when the dots are moved. However, this is for simplifying the explanation, and in fact, it is obtained as an integral of the repulsive potential based on the relationship with dots including dots at other positions that may exist in addition to these dots. It is.

図６（ａ）〜（ｃ）に示したように斥力ポテンシャルの合計が計算される各ドットの中で、例えば、ドットＤｏが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、図６（ｄ）で説明したようにその移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求める。そして、移動の前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる位置にドットＤｏを移動させる。このような処理を繰り返すことによって３つのプレーン全体の総エネルギーを下げることができる。すなわち、３つのプレーンの重なりにおいてドット分布が、低周波数成分が少なく良好に分散された配置となる。 As shown in FIGS. 6A to 6C, among the dots for which the total repulsive potential is calculated, for example, when the dot Do has the largest total repulsive potential, the description has been given with reference to FIG. Thus, the change in repulsive potential before and after the movement is obtained. Then, the dot Do is moved to a position where the total repulsive potential becomes the lowest before and after the movement. By repeating such processing, the total energy of all three planes can be reduced. That is, in the overlap of the three planes, the dot distribution has a low frequency component and is well distributed.

そして、このように３つのプレーンＡ１〜Ａ３の重なりにおいてドットが良好に分散されることによって、例えば、これら３つのプレーンがそれぞれ２パスのマスクであるとき、これらのマスクとそれぞれ補完関係にあるマスクもドットが良好に分散したものとなる。また、それらの６つのプレーンのうち任意の数（２、３、４または５）のプレーンの重なりにおけるドットの分布も、低周波数成分が少ない良好に分散されたものとなる。 Then, since the dots are dispersed well in the overlap of the three planes A1 to A3 in this way, for example, when these three planes are two-pass masks, respectively, these masks are complementary to each other. Also, the dots are well dispersed. In addition, the dot distribution in the overlap of an arbitrary number (2, 3, 4, or 5) of these six planes is also well distributed with few low frequency components.

なお、上述の配置移動法は、３つのプレーンが２パスのマスクに該当する場合、これら２パスのマスクのうち１パス目に用いる３つのプレーンのマスクについて適用する場合に関するものである。しかし、この方法はこの態様に限られず、総てのプレーンに適用してドットの配置を決定してもよい。例えば、２パス分の６つのプレーンのマスクに配置移動法を適用してもよい。この場合は、ドットを移動させる範囲を近傍位置に限定せずに、他のプレーンのドットとの関係で配置画素を入れ替える移動を許すものとする。具体的には、例えば、あるプレーンのドットを同じプレーンのドットが配置されていない画素に移動させる。これとともに、その移動した画素に対応する他のプレーンの画素に配置されるドットをその同じプレーンの、前者のドットがあった画素に対応する画素に移動させる、といった入れ替えを行う。これにより、斥力ポテンシャルの計算に係わるプレーン総てにおけるドットの配置関係が変化し、ポテンシャルエネルギーが最小となる入れ替え移動が可能となる。 Note that the above-described arrangement movement method relates to a case where three planes correspond to a two-pass mask and are applied to a mask of three planes used for the first pass among these two-pass masks. However, this method is not limited to this mode, and may be applied to all planes to determine dot arrangement. For example, the arrangement movement method may be applied to a mask of six planes for two passes. In this case, it is assumed that the movement of exchanging the arranged pixels in relation to the dots of other planes is allowed without limiting the range in which the dots are moved to the vicinity position. Specifically, for example, a dot on a certain plane is moved to a pixel on which no dot on the same plane is arranged. At the same time, replacement is performed such that a dot arranged in a pixel of another plane corresponding to the moved pixel is moved to a pixel corresponding to the pixel having the former dot in the same plane. Thereby, the arrangement relationship of dots in all the planes related to the calculation of the repulsive potential is changed, and the replacement movement that minimizes the potential energy becomes possible.

順次配置法
この方法は、上述したように、マスクのプレーンのドットが未だ配置されていない部分に順次ドットを配置して行く方法である。例えば、図６（ａ）〜（ｃ）に示した３つのプレーンに対して、順次１つずつドットを配置し、それを繰り返すことによってそれぞれのプレーンで、そのプレーンのドット配置率に応じたドット配置を行う。この場合、先ず、ドットを配置しようとするときに、その位置のドットとプレーンＡ１、Ａ２、Ａ３において既に配置されているドットとの間に発生する斥力ポテンシャルを計算する。斥力ポテンシャルの計算自体は、上述の配置移動法で説明したものと同じである。異なるのは、図６（ａ）〜（ｃ）に示す例では、ドットＤｏが同図の位置に既に置いてあるのではなく、ドットＤｏを新たに置くと仮定したときに既に配置され同じプレーンＡ１や異なるプレーンＡ２、Ａ３のドットとの間で斥力ポテンシャルを計算する点である。以上からも明らかなように、未だドットが１つも配置されていない最初の段階では、ドットをどこにおいても斥力ポテンシャルは同じ値となる。 Sequential Arrangement Method As described above, this method is a method in which dots are sequentially arranged in a portion of the mask plane where dots are not yet arranged. For example, for each of the three planes shown in FIGS. 6A to 6C, dots are sequentially arranged one by one, and each dot is repeated according to the dot arrangement rate of that plane. Perform placement. In this case, first, when a dot is to be arranged, the repulsive potential generated between the dot at that position and the dots already arranged in the planes A1, A2, and A3 is calculated. The calculation of the repulsive potential itself is the same as that described in the above-described arrangement movement method. The difference is that in the example shown in FIGS. 6A to 6C, the dot Do is not already placed at the position shown in FIG. 6 but is already arranged when the dot Do is newly placed. This is a point where the repulsive potential is calculated between A1 and dots of different planes A2 and A3. As is clear from the above, the repulsive potential has the same value everywhere in the dot at the first stage where no dot is arranged yet.

次に、それぞれのプレーン位置に置いたとしたときに計算される斥力ポテンシャルの中で、最小のポテンシャルエネルギーとなる位置を決定する。そして、その最小のエネルギーとなる位置が複数ある場合は、例えば、乱数を用いてその複数の位置の中から１つの位置を決定する。なお、本実施形態では、同じプレーンでは既にドットが配置されている位置には重ねて配置しないという条件の下で、最小エネルギーの位置を決定する。これは、重み付け係数や斥力ポテンシャル関数などのパラメータによっては、斥力ポテンシャルの計算において同じプレーンで重ねた場合の方が他のプレーンのドットとの関係などでエネルギーが最小となることがある。そして、その場合に、プレーンは１つの位置に１つのドットのみが許されるので重なりを禁ずるようにするためである。決定した最小ポテンシャルエネルギーの位置にドットを配置する。すなわち、その画素のマスクデータを“１”とする。そして、３つのプレーンＡ１、Ａ２、Ａ３について各１つずつドットが配置されたか否かを判定する。配置されていない場合には、上記の処理を繰返す。 Next, the position where the lowest potential energy is determined among the repulsive potentials calculated when placed at each plane position is determined. Then, when there are a plurality of positions having the minimum energy, for example, one position is determined from the plurality of positions using a random number. In the present embodiment, the position of the minimum energy is determined under the condition that the dots are not overlapped at the positions where dots are already arranged in the same plane. Depending on parameters such as a weighting coefficient and a repulsive potential function, energy may be minimized when overlapping on the same plane when calculating repulsive potential due to the relationship with dots of other planes. In this case, the plane is forbidden to overlap because only one dot is allowed at one position. A dot is placed at the position of the determined minimum potential energy. That is, the mask data of the pixel is set to “1”. Then, it is determined whether one dot is arranged for each of the three planes A1, A2, A3. If not, the above process is repeated.

プレーンＡ１、Ａ２、Ａ３とこの順で１つずつドットを配置すると、３つのプレーンそれぞれの全配置可能位置に対して５０パーセントまでドットが配置されるまで上記処理を繰り返し、５０パーセントまで配置されると本処理を終了する。 When the dots are arranged one by one in this order in the planes A1, A2, and A3, the above process is repeated until 50% of the dots are arranged with respect to all possible arrangement positions of the three planes, and 50% is arranged. And this processing is terminated.

以上説明した順次配置法によっても上述した配置移動法と同様の特性を持つプレーンを得ることができる。すなわち、順次配置法による３プレーンは、それらの重なりにおいてもドットが良好に分散されたものとなる。 A plane having characteristics similar to those of the above-described placement movement method can also be obtained by the sequential placement method described above. That is, in the three planes by the sequential arrangement method, dots are well dispersed even when they overlap.

なお、上述したプレーン製法の他の特徴として、ドットの配置が規則的に繰り返されるような周期パターンが生成されることはない、ということがある。例えば、千鳥パターンやベイヤー型の配置が繰り返されるような周期性を持ったパターンは生成されない。万が一生成されたとしても、斥力ポテンシャルのパラメータを設定し直すことで周期パターンを避ける状態に収束させることができる。このように本実施形態のマスク製法によって生成されるプレーンは非周期のパターンとなる。 Another feature of the above-described plane manufacturing method is that a periodic pattern in which the arrangement of dots is regularly repeated is not generated. For example, a pattern having periodicity that repeats a staggered pattern or a Bayer pattern is not generated. Even if it is generated, it can be converged to avoid the periodic pattern by resetting the repulsive potential parameter. Thus, the plane generated by the mask manufacturing method of the present embodiment is an aperiodic pattern.

以上の説明では、説明の簡略化のため、ドット配置パターンのプレーンとマスクのプレーンを区別しないものとして説明した。しかし、以下の各実施形態で説明するように、斥力の計算では、上記プレーンのうち、ドット配置パターンに該当するプレーンもしくはそのプレーン内のドットは、ドット配置パターンとして予め定められたものである。つまり、ドット配置パターンに該当するプレーンのドットは、固定したものとして扱い、斥力ポテンシャルのエネルギーに応じたドット配置の移動またはドットの配置によって定めるものではない。すなわち、本発明の実施形態は、ドット配置を定める対象はマスクに該当するプレーンであり、その際に、ドット配置パターンに該当するプレーンないしそのドットは斥力計算の対象となる。具体的には、マスクに該当するプレーンのドット配置を定めるに当たり、斥力ポテンシャル計算の重み付け係数αの項はそのマスクに該当するプレーンに適用される。また、係数βおよびγの項は、そのマスクに該当するプレーンと、他のマスクに該当するプレーンやドット配置パターンに該当するプレーンとの間で適用される。 In the above description, in order to simplify the description, it has been described that the dot arrangement pattern plane and the mask plane are not distinguished. However, as will be described in the following embodiments, in the calculation of repulsive force, the plane corresponding to the dot arrangement pattern or the dots in the plane out of the planes are predetermined as the dot arrangement pattern. In other words, the dots of the plane corresponding to the dot arrangement pattern are treated as fixed, and are not determined by the movement of the dot arrangement or the dot arrangement according to the energy of the repulsive potential. That is, in the embodiment of the present invention, the target for determining the dot arrangement is a plane corresponding to the mask, and at that time, the plane corresponding to the dot arrangement pattern or the dot is the target of repulsive force calculation. Specifically, in determining the dot arrangement of the plane corresponding to the mask, the term of the weighting coefficient α in the repulsive potential calculation is applied to the plane corresponding to the mask. The terms of coefficients β and γ are applied between a plane corresponding to the mask and a plane corresponding to another mask or a plane corresponding to a dot arrangement pattern.

これにより、製造されるマスクにおける記録許容画素の配置は、ドット配置パターンとの相互の干渉を軽減したものになるとともに、マスクの記録許容画素の配置パターン自体も分散性の高いものとなる。 As a result, the arrangement of the print permitting pixels in the manufactured mask reduces the mutual interference with the dot arrangement pattern, and the mask print permitting pixel arrangement pattern itself has high dispersibility.

以上説明した、基本的なマスク製法を用いた、本発明のいくつかの実施形態にかかるマスク製造方法を次に説明する。 Next, a mask manufacturing method according to some embodiments of the present invention using the basic mask manufacturing method described above will be described.

＜実施形態１：２パス記録用１００％均等マスク＞
本実施形態の概要
本実施形態は、記録素子として、シアン（Ｃ）インクを吐出するノズル列を備えた１つの記録ヘッドを用いて、２回の走査で画像を完成させる２パスのマルチパス記録に関する。そして、この２パス記録に用いるマスクは、ドット配置パターンとの干渉が低減されたものであり、また、そのマスクパターン自体が良好に分散したものである。これにより、２回の走査それぞれで記録されるドットはそのドット数に偏りがないものとなる。また、各走査でドットが分散して形成されることから、例えば、記録位置のずれなどがあっても、それによって生じ得るテクスチャーが視覚的に目障りになり難く画像品位への影響が抑制される。 <Embodiment 1: 100% uniform mask for 2-pass printing>
Outline of the present embodiment In this embodiment, a single print head having a nozzle array that discharges cyan (C) ink is used as a printing element, and two-pass multi-pass printing is performed in which an image is completed in two scans. About. The mask used for the two-pass printing has reduced interference with the dot arrangement pattern, and the mask pattern itself is well dispersed. As a result, the dots recorded in each of the two scans have no deviation in the number of dots. In addition, since dots are formed in a dispersed manner in each scan, for example, even if there is a shift in the recording position, the texture that can be caused by it is less likely to be visually obstructive, and the influence on the image quality is suppressed. .

図８は、２パス記録を説明するために、記録ヘッド、マスクパターンおよび記録媒体の主に位置関係を模式的に示す図である。記録ヘッド８０１はシアンのノズル列を備え、ノズル列は１２００ｄｐｉの間隔で配列された５１２個のノズルを含んでいる。２パス記録の場合、それぞれ２５６個のノズルを含む第１グループおよび第２グループに分割される。各グループには、その製法が後述されるマスク８０２（２つのマスクＣ１、Ｃ２）が対応付けられており、それぞれのマスクＣ１、Ｃ２の副走査方向（搬送方向）の大きさは各グループのノズル個数と同じ２５６画素分である。マスクＣ１とマスクＣ２は補完関係にあり、これらを重ね合わせると２５６（横）画素×２５６（縦）画素に対応した領域の記録を完成することができる。図８に示すように、第１走査において、記録媒体８０３の領域Ａに対してマスクＣ１を用いて記録を行い、記録媒体が２５６画素分送られた後、領域Ａに対してマスクＣ２を用いて記録を行う。この２回のパスによって画像の記録が完成する。 FIG. 8 is a diagram schematically showing mainly the positional relationship between the recording head, the mask pattern, and the recording medium in order to explain the two-pass recording. The recording head 801 includes a cyan nozzle row, and the nozzle row includes 512 nozzles arranged at an interval of 1200 dpi. In the case of two-pass printing, the print data is divided into a first group and a second group each including 256 nozzles. Each group is associated with a mask 802 (two masks C1, C2) whose manufacturing method will be described later, and the size of each mask C1, C2 in the sub-scanning direction (conveyance direction) is the nozzle of each group. This is the same 256 pixels as the number. The mask C1 and the mask C2 have a complementary relationship, and when they are overlapped, recording of an area corresponding to 256 (horizontal) pixels × 256 (vertical) pixels can be completed. As shown in FIG. 8, in the first scan, recording is performed on the area A of the recording medium 803 using the mask C1, and after the recording medium is fed by 256 pixels, the mask C2 is used for the area A. To record. The image recording is completed by these two passes.

マスクの製法
本実施形態にかかるマスクの製造方法を、上述した順次配置法を用いて製造する場合について説明する。 Mask Manufacturing Method A mask manufacturing method according to this embodiment will be described using the sequential arrangement method described above.

図９は、本実施形態の順次配置法による記録許容画素の配置決定処理を示すフローチャートである。 FIG. 9 is a flowchart showing the arrangement determination process of the print permission pixels by the sequential arrangement method of the present embodiment.

図９に示す処理は、１つのプレーンに順次記録許容画素を配置して行き、５０％の配置率の記録許容画素の配置を行うものである。先ず、ステップＳ７０１で、記録許容画素を配置しようとするマスクＣのプレーンとドット配置パターンのプレーンを規定し、それらのプレーンにおいて記録許容画素の配置について斥力ポテンシャルを計算する。その際、前述したように、ドット配置パターンに該当するプレーンには、既にドットが配置されており、それらのドットを固定したままそれらのドットとマスクＣのプレーンにおいて配置しようとする記録許容画素との間で斥力を計算する。 In the process shown in FIG. 9, the print permitting pixels are sequentially arranged on one plane, and the print permitting pixels having an arrangement ratio of 50% are arranged. First, in step S701, the plane of the mask C and the dot arrangement pattern plane where the print permitting pixels are to be arranged are defined, and the repulsive potential is calculated for the arrangement of the print allowance pixels in these planes. At this time, as described above, dots are already arranged in the plane corresponding to the dot arrangement pattern, and the print-allowed pixels to be arranged in the plane of the dots and the mask C with the dots fixed. Calculate repulsive force between.

図１０は、マスクＣの記録許容画素の配置に関する斥力を計算するための概念を示す図である。斥力の計算において、考慮するドット配置パターン夫々のプレーンＰ１〜Ｐ４は固定パターンである。これらのプレーンＰ１〜Ｐ４のドット配置パターンは、インデックスデータが示すレベルごとに予め定められたものである。マスクＣの記録許容画素の配置を定める処理では、マスクパターンＣにおける記録許容画素同士の斥力ポテンシャルや、マスクパターンＣにおける記録許容画素とプレーンＰ１〜Ｐ４におけるドットの間の斥力ポテンシャルを計算する。そして、前述したように斥力ポテンシャル計算の結果に基づき、マスクＣの記録許容画素の配置を定める。 FIG. 10 is a diagram showing a concept for calculating a repulsive force related to the arrangement of the print allowable pixels of the mask C. In calculating the repulsive force, each of the planes P1 to P4 of the dot arrangement pattern to be considered is a fixed pattern. The dot arrangement patterns of these planes P1 to P4 are predetermined for each level indicated by the index data. In the process of determining the arrangement of the print permitting pixels of the mask C, the repulsive potential between the print permitting pixels in the mask pattern C and the repulsive potential between the print permitting pixels in the mask pattern C and the dots in the planes P1 to P4 are calculated. Then, as described above, the arrangement of the print permitting pixels of the mask C is determined based on the result of the repulsive potential calculation.

図１１は、本実施形態にかかるドット配置パターンを示す図である。この図１１に示されるドット配置パターンは、図５にて前述した２画素×２画素の最小単位パターンを縦方向に４個、横方向に４個集めてなるものである。詳しくは、同図に示すパターンは、インデックスデータのレベルごとに（レベル０は図示を省略；総ての画素が「白」）、図５に示す最小単位パターンを回転または反転した関係のパターンを所定の規則で配置したものである。ドット配置パターン化処理Ｊ０００７では、この８画素×８画素の配置パターンを、記録ヘッドのノズルの数に対応させて縦方向に６４回、横方向も同様に６４回繰返して得られる５１２画素×５１２画素（２５６最小単位パターン×２５６最小単位パターン）のサイズのパターンを用いる。このパターンはインデックスデータの階調レベル（０〜４）ごとにメモリに格納されており、パターン化処理に際して、インデックスデータが示す階調レベルに応じて、２画素×２画素の最小単位パターンを読み出す。この際、その読み出す最小単位パターンはそのインデックスデータの位置に応じたものである。そして、この読み出された最小単位のパターンは、次のマスクデータ変換処理Ｊ０００８（図４）でマスク処理が行われることになる。 FIG. 11 is a diagram showing a dot arrangement pattern according to the present embodiment. The dot arrangement pattern shown in FIG. 11 is a collection of four minimum unit patterns of 2 pixels × 2 pixels described above in FIG. 5 in the vertical direction and four in the horizontal direction. Specifically, the pattern shown in FIG. 5 is a pattern having a relationship obtained by rotating or inverting the minimum unit pattern shown in FIG. 5 for each level of index data (level 0 is not shown; all pixels are “white”). They are arranged according to predetermined rules. In the dot arrangement patterning process J0007, this 8 pixel × 8 pixel arrangement pattern is obtained by repeating 64 times in the vertical direction and 64 times in the horizontal direction corresponding to the number of nozzles of the recording head, and 512 pixels × 512 are obtained. A pattern having a size of a pixel (256 minimum unit pattern × 256 minimum unit pattern) is used. This pattern is stored in the memory for each gradation level (0 to 4) of the index data, and at the time of patterning processing, a minimum unit pattern of 2 pixels × 2 pixels is read according to the gradation level indicated by the index data. . At this time, the minimum unit pattern to be read corresponds to the position of the index data. Then, the read pattern of the minimum unit is subjected to mask processing in the next mask data conversion processing J0008 (FIG. 4).

上述したインデックスデータが示すレベルごとのドット配置パターンのうち、２５６画素×２５６画素のサイズ分のドット配置パターンは、マスクＣの２５６画素×２５６画素に対応している。そして、マスクＣの記録許容画素の配置は、階調レベルごとのドット配置パターンのプレーンＰ１〜Ｐ４を考慮して定められる。具体的には、上述の斥力ポテンシャルの計算を用いて記録許容画素の配置が定められる。但し、考慮するドット配置パターンは、図１１に示した８画素×８画素のパターンを繰り返したものではない。これは、詳細が後述されるように斥力ポテンシャルの偏りを予め除くためである。 Of the dot arrangement patterns for each level indicated by the index data described above, the dot arrangement pattern for a size of 256 pixels × 256 pixels corresponds to 256 pixels × 256 pixels of the mask C. The arrangement of the print permitting pixels of the mask C is determined in consideration of the planes P1 to P4 of the dot arrangement pattern for each gradation level. Specifically, the arrangement of the print permitting pixels is determined using the calculation of the repulsive potential described above. However, the dot arrangement pattern to be considered is not a repetition of the 8 × 8 pixel pattern shown in FIG. This is to remove the bias of repulsive potential in advance as will be described in detail later.

図１２は、マスクＣの記録許容画素の配置を定める際の斥力ポテンシャルの計算の対象となるプレーンＰ１〜Ｐ４のドット配置を示す図である。プレーンＰ１〜Ｐ４のドット配置パターンは、図１１に示したドット配置パターンを互いに排他的になるように分解したパターンである。具体的には、図１１に示す元のドット配置パターン、つまり、図４の処理Ｊ０００７で用いられるドット配置パターンについて、各階調レベルのドット配置パターンの差分をとったパターン（計算用ドットパターン）である。プレーンＰ１は、階調レベル１のドット配置パターンのドット（Ｌ１）から階調レベル０のドット配置パターンのドット（Ｌ０）を除いたパターン（Ｌ１−Ｌ０）である。同様に、プレーンＰ２は階調レベル２のパターン（Ｌ２）と階調レベル１のパターン（Ｌ１）の差分のドットパターンである。また、プレーンＰ３は階調レベル３のパターン（Ｌ３）と階調レベル２のパターン（Ｌ２）の差分のドットパターンである。さらに、プレーン４は階調レベル４のパターン（Ｌ４）と階調レベル３のパターン（Ｌ３）の差分のドットパターンである。プレーンＰ１〜Ｐ４は排他のパターンであることから、総てを重ねると階調レベル４と同じ１００％の配置率でドットが配置されたものとになる。ここで、斥力ポテンシャルを計算する際にドット配置パターンを排他的にしたのは、斥力ポテンシャルの値がある領域に偏り、それによって配置される記録許容画素数の偏りおよび分散性の低下を防ぐためである。すなわち、図１１に示すドット配置パターンは、レベルが増すときにその前のレベルのドット配置を保存している。このため、斥力ポテンシャルの計算にドット配置パターンそのものを用いる場合は、保存されるドットが異なるプレーン間の重なるドットとしてポテンシャルが計算されることになる。しかし、マスク処理でマスクが適用されるドット配置パターンのドットは、複数のレベルのうちの１つのドットであり、上記のように多重的にマスクと関係もしくは干渉することはない。従って、斥力ポテンシャルの計算においてドット配置パターンそのものを用いる場合は、計算される斥力ポテンシャルの値が実際の関係に対して偏ったものとなり、返って、配置される記録許容画素数の偏りおよび分散性の低下を招くことになる。 FIG. 12 is a diagram showing the dot arrangement of the planes P1 to P4 that are targets of calculation of the repulsive potential when determining the arrangement of the print allowable pixels of the mask C. The dot arrangement patterns of the planes P1 to P4 are patterns obtained by disassembling the dot arrangement patterns shown in FIG. 11 so as to be mutually exclusive. Specifically, the original dot arrangement pattern shown in FIG. 11, that is, the dot arrangement pattern used in the process J0007 of FIG. is there. The plane P1 is a pattern (L1-L0) obtained by excluding the dot (L0) of the dot arrangement pattern of gradation level 0 from the dot (L1) of the dot arrangement pattern of gradation level 1. Similarly, the plane P2 is a dot pattern of a difference between the gradation level 2 pattern (L2) and the gradation level 1 pattern (L1). The plane P3 is a dot pattern that is the difference between the gradation level 3 pattern (L3) and the gradation level 2 pattern (L2). Further, the plane 4 is a dot pattern of a difference between the gradation level 4 pattern (L4) and the gradation level 3 pattern (L3). Since the planes P1 to P4 are exclusive patterns, when all of them are overlapped, dots are arranged at the same 100% arrangement rate as that of the gradation level 4. Here, when calculating the repulsive potential, the dot arrangement pattern is exclusively used in order to prevent the repulsive potential value from being biased to a certain region, thereby preventing the deviation of the allowable number of recording pixels arranged and the deterioration of the dispersibility. It is. That is, the dot arrangement pattern shown in FIG. 11 preserves the dot arrangement of the previous level when the level increases. For this reason, when the dot arrangement pattern itself is used for calculation of the repulsive potential, the potential is calculated as overlapping dots between different planes in which the stored dots are different. However, the dot of the dot arrangement pattern to which the mask is applied in the mask processing is one dot among a plurality of levels, and does not have multiple relations or interference with the mask as described above. Therefore, when the dot arrangement pattern itself is used in the calculation of the repulsive potential, the calculated repulsive potential value is biased with respect to the actual relationship, and in return, the bias and dispersibility of the allowable number of recording pixels to be arranged are returned. Will be reduced.

なお、上記の例では、階調レベルが増すときその前の階調レベルのドット配置が保存されるドット配置パターンを用いる例を示したが、これに限らず、ドット配置が保存されないドット配置パターンを用いる場合も本発明を適用できる。 In the above example, the dot arrangement pattern in which the dot arrangement of the previous gradation level is saved when the gradation level is increased is shown. However, the present invention is not limited to this, and the dot arrangement pattern in which the dot arrangement is not preserved. The present invention can also be applied when using.

図１３は、階調レベルが増すときに前の階調レベルのドット配置がそのまま保存されないドット配置パターンの一例を示す図である。図１３に示すように、レベル１の配置パターンは、例えば、画素１３０１、１３０２にドットが配置されている。この配置に対し、レベルが１つ増したレベル２では、画素１３０１にはドットが配置されず、レベル１のときのドットが保存されない。一方、画素１３０２ではレベル１の配置と同様ドットが配置される。このように、前のレベルのドット配置が完全には（そのまま）保存されないドット配置パターンが存在する。 FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a dot arrangement pattern in which the dot arrangement of the previous gradation level is not stored as it is when the gradation level is increased. As shown in FIG. 13, in the level 1 arrangement pattern, for example, dots are arranged in pixels 1301 and 1302. In contrast to this arrangement, at level 2 where the level is increased by one, no dot is arranged in the pixel 1301, and the dot at the level 1 is not stored. On the other hand, in the pixel 1302, dots are arranged as in the level 1 arrangement. As described above, there is a dot arrangement pattern in which the dot arrangement of the previous level is not completely saved (as it is).

このようにレベルが増すときにドット配置がそのまま保存されないドット配置パターンを用いる場合の、斥力ポテンシャルの計算に用いるパターンは、それらのドット配置パターンとそれぞれの排他パターンを用いる。ドット（の配置）が保存されない画素（例えば、画素１３０１）は、斥力ポテンシャルの計算においてマスクの記録許容画素に対し、距離を考慮しなければ同等の影響を持つ。一方、ドットが保存される画素（例えば、画素１３０２）は、斥力計算において重なりを持ちマスクの記録許容画素と多重の関係がある。この点から、斥力計算のプレーンとしてドット配置パターンとその排他のパターンを用いる。 As described above, when using a dot arrangement pattern in which the dot arrangement is not stored as it is when the level increases, the pattern used for calculating the repulsive potential uses the dot arrangement pattern and each exclusive pattern. A pixel (for example, the pixel 1301) in which the dot (arrangement) is not stored has the same influence on the print permitting pixel of the mask in the calculation of the repulsive potential unless the distance is taken into consideration. On the other hand, the pixel in which the dot is stored (for example, the pixel 1302) has an overlap in the repulsive force calculation, and has a multiplex relationship with the recording allowable pixel of the mask. From this point, a dot arrangement pattern and its exclusive pattern are used as a repulsive force calculation plane.

図１４は、ドット配置パターンが図１３に示すものである場合の斥力ポテンシャルの計算に用いる８つのプレーンを示している。図１４において、プレーンＰ１は図１３に示すレベル１のドット配置パターンを有し、プレーンＰ２はそのレベル１のドット配置パターンの排他パターンを有する。同様に、プレーンＰ３はレベル２のドット配置パターンを、プレーンＰ４はその排他パターンを有する。また、プレーンＰ５はレベル３のドット配置パターンを、プレーンＰ６はその排他パターンを有し、さらに、プレーンＰ７はレベル４のドット配置パターンを、プレーンＰ８はその排他パターンを有する。 FIG. 14 shows eight planes used for calculation of the repulsive potential when the dot arrangement pattern is the one shown in FIG. 14, planes P1 has a dot arrangement pattern of level 1 shown in FIG. 13, the plane P 2 has the exclusive pattern of the dot arrangement pattern of the level one. Similarly, the plane P3 has a level 2 dot arrangement pattern, and the plane P4 has its exclusive pattern. The plane P 5 has a level 3 dot arrangement pattern, the plane P 6 has its exclusive pattern, the plane P 7 has a level 4 dot arrangement pattern, and the plane P 8 has its exclusive pattern.

図１３に示すドット配置パターンを用いるとき、マスクＣの記録許容画素の配置を定めるための斥力ポテンシャルの計算は、マスクＣのプレーンと、それに対する上記の８つのプレーンをそれらのドット配置が固定されたプレーンに対して行われる。 When the dot arrangement pattern shown in FIG. 13 is used, the calculation of the repulsive potential for determining the arrangement of the print permitting pixels of the mask C is performed by fixing the dot arrangement of the mask C plane and the above eight planes. This is done for the other plane.

再び、図９を参照すると、上記のようにして斥力ポテンシャルの計算をした後、ステップＳ７０２で、マスクＣの配置位置において記録許容画素を置いたとしたときに計算される斥力ポテンシャルの中で、最小のポテンシャルエネルギーとなる位置を決定する。そして、ステップＳ７０３では、その最小のエネルギーとなる位置が複数あるか否かを判断する。複数ある場合には、ステップＳ７０７で乱数を用いてその複数の位置の中から１つの位置を決定する。そして、ステップＳ７０４では、決定した最小ポテンシャルエネルギーの位置に記録許容画素を配置する。 Referring to FIG. 9 again, after calculating the repulsive potential as described above, the minimum repulsive potential calculated among the repulsive potentials calculated when the print allowable pixel is placed at the arrangement position of the mask C in step S702. The position that becomes the potential energy of is determined. In step S703, it is determined whether there are a plurality of positions having the minimum energy. If there are a plurality of positions, one position is determined from the plurality of positions using a random number in step S707. In step S704, a recording allowable pixel is arranged at the position of the determined minimum potential energy.

ステップＳ７０５では、マスクＣのプレーンに配置可能位置の５０％まで記録許容画素が配置されたか否かを判定する。５０％まで記録許容画素の配置がなされていないときは、ステップＳ７０１からの処理を繰り返す。そして、５０％の記録許容画素が配置されると本処理を終了する。 In step S705, it is determined whether or not print permitting pixels have been arranged up to 50% of the arrangement possible positions on the mask C plane. When the recordable pixels are not arranged up to 50%, the processing from step S701 is repeated. Then, when 50% recordable pixels are arranged, this process is terminated.

以上のようにして、２パスマスクの１パス目のマスクＣ１を設定すると、これに基づきマスクＣ１と補完関係にあるマスクＣ２を定めることができる。 As described above, when the first-pass mask C1 of the two-pass mask is set, the mask C2 having a complementary relationship with the mask C1 can be determined based on this.

以上のとおり、本実施形態のマスク製法によれば、上述したα、β、γの重み付けに応じて、第１に、製造されたマスクＣにおける記録許容画素の配置は分散性の良いものとなる。第２に、マスクＣとこのマスクの製造において考慮したドット配置パターンのプレーンＰ１〜Ｐ４の重なりにおいても記録許容画素とドットが良好に分散されたものとなる。すなわち、マスクＣに配置される記録許容画素とプレーンＰ１〜Ｐ４それぞれに配置されるドットとの論理積および論理和のいずれも分散したものとなる。この論理積および論理和は、例えば、マスクの２５６画素×２５６画素とプレーンＰ１〜Ｐ４それぞれの２５６画素×２５６画素を対応付けたときに、それぞれに配置される記録許容画素とドットとの間で求められるものである。 As described above, according to the mask manufacturing method of the present embodiment, according to the above-described weighting of α, β, and γ, first, the arrangement of the print permitting pixels in the manufactured mask C has good dispersibility. . Second, even in the overlap of the mask C and the planes P1 to P4 of the dot arrangement pattern considered in the manufacture of the mask, the print permitting pixels and the dots are well dispersed. That is, both the logical product and the logical sum of the print allowable pixels arranged on the mask C and the dots arranged on the planes P1 to P4 are dispersed. This logical product and logical sum is obtained, for example, between 256 pixels × 256 pixels of the mask and 256 pixels × 256 pixels of each of the planes P1 to P4, and between the print allowable pixels and the dots arranged in each. It is required.

上記の論理和の分散性がよいことによって、マスクＣ１とこれと補完の関係にあるマスクＣ２のいずれも、その記録許容画素の配置が図１１や図１３に示したドット配置パターンに対して分散性がよいことが保証される。これにより、特定の走査に偏ってドットが形成されることを抑制できる。また、上記の論理積の分散性がよいことによって、図１１や図１３に示したドット配置パターンによるドットデータをマスクＣ１（Ｃ２）を用いてマスク処理して得られるドットパターンの分散性が良いことも保証される。このような本発明の作用は、以下で説明する各実施形態においても当てはまることである。 Because of the above dispersibility of the logical sum, the mask C1 and the mask C2 that is complementary to the mask C1 are distributed with respect to the dot arrangement pattern shown in FIGS. It is guaranteed that the sex is good. Thereby, it can suppress that a dot is formed biased to specific scanning. Further, since the dispersibility of the logical product is good, the dispersibility of the dot pattern obtained by masking the dot data based on the dot arrangement pattern shown in FIGS. 11 and 13 using the mask C1 (C2) is good. That is also guaranteed. Such an operation of the present invention is also applicable to each embodiment described below.

この結果、図１１や図１３に示すドット配置パターンによって生成されるドットパターンを記録するときに、本実施形態によるマスクを用いることによって、走査毎に形成されるドットは、その数が特定の走査に偏ることなく、また、良好に分散したものとなる。そして、この良好な分散性によって、種々の要因によって生じ得るテクスチャーが視覚的に目障りになり難く画像品位への影響が抑制される。 As a result, when the dot pattern generated by the dot arrangement pattern shown in FIG. 11 or FIG. 13 is recorded, the number of dots formed for each scan is specified by using the mask according to the present embodiment. And well dispersed. The good dispersibility suppresses the influence on the image quality because the texture that may be caused by various factors is hardly visually disturbed.

マスク特性評価
・本実施形態のマスクと比較例のマスク
図１５は、上述した製法によって作製された本実施形態のマスクＣ１（以下、パターン考慮型積層マスクともいう）の記録許容画素の配置パターンを示す図である。また、図１６は、本出願人による特願２００５−１９７８７３号に開示される、２パス記録用の２つのマスクのプレーン間で、同様に斥力ポテンシャルを計算してそれぞれのプレーンの記録許容画素を定めたマスク（以下、積層マスクという）の一方の配置パターンを示す図である。図１５および図１６に示されるマスクパターンは２５６×２５６の画素を有している。いずれのマスクも記録許容画素の配置パターンの分散性が良く、全体的に滑らかな印象を受ける。 Mask of Comparative Example a mask mask characteristic evaluation and the embodiment 15, the mask C1 of this embodiment is produced by method described above (hereinafter, also referred to as pattern considering layered mask) the arrangement pattern of print permitting pixels FIG. Further, FIG. 16 shows a calculation of the repulsive potential between two mask planes for 2-pass printing disclosed in Japanese Patent Application No. 2005-197873 filed by the present applicant. It is a figure which shows one arrangement pattern of the defined mask (henceforth a laminated mask). The mask pattern shown in FIGS. 15 and 16 has 256 × 256 pixels. Both masks have a good dispersibility of the layout pattern of the print-allowable pixels, and give an overall smooth impression.

図１７、図１８および図１９は、図１５に示した本実施形態のパターン考慮型積層マスクＣ１の記録許容画素の配置と、図１１に示したレベル１、レベル２およびレベル３それぞれのドット配置との論理積演算の結果のドットパターンで示す図である。また、図２０、図２１および図２１は、図１６に示した積層マスクの記録許容画素の配置と、同様に、図１１に示すレベル１〜レベル３それぞれのドット配置との論理積をドットパターンで示す図である。すなわち、記録の際のドットパターンに相当するレベル１〜レベル３のドットパターンを、２パスマスクのマスクＣ１を用いてマスク処理するときの１パス（走査）目に打ち込まれるドットパターンを表している。 17, FIG. 18, and FIG. 19 show the arrangement of the print permitting pixels of the pattern-considered laminated mask C1 of this embodiment shown in FIG. 15, and the dot arrangement of each of level 1, level 2, and level 3 shown in FIG. It is a figure shown with the dot pattern of the result of AND operation with these. 20, FIG. 21, and FIG. 21 similarly show the logical product of the arrangement of the print permitting pixels of the stacked mask shown in FIG. 16 and the dot arrangement of level 1 to level 3 shown in FIG. It is a figure shown by. That is, the dot pattern of level 1 to level 3 corresponding to the dot pattern at the time of printing is represented by a dot pattern that is driven in the first pass (scanning) when mask processing is performed using the mask C1 of the two-pass mask.

図１７〜図１９と図２０〜図２２に比較して示すように、本実施形態のパターン考慮型積層マスクを用いて記録したドットパターン（図１７〜図１９）は、図２０〜図２２に比べて、形成されるドットの配置に偏りが少ないことが分かる。特に、レベルが低いほどマスクによる差が大きいことがわかる。 As shown in comparison with FIGS. 17 to 19 and FIGS. 20 to 22, the dot patterns (FIGS. 17 to 19) recorded using the pattern-considered laminated mask of this embodiment are shown in FIGS. 20 to 22. In comparison, it can be seen that there is little bias in the arrangement of dots to be formed. In particular, it can be seen that the lower the level, the greater the difference due to the mask.

・パワースペクトルによる評価
次に、マスクパターンの周波数特性を示すパワースペクトルによって本実施形態のマスクを評価する。以下で説明するパワースペクトルは、２５６画素×２５６画素のサイズを有するマスクパターンについてパワースペクトルを求めたものである。ここで、パワースペクトルは、２次元空間周波数を１次元として扱える、「T. Mitsa and K. J. Parker, “Digital Halftoning using a Blue Noise Mask”, Proc. SPIE 1452, pp.47-56（1991）」に記載のradially averaged power spectrum である。ここで、本願の明細書および特許請求の範囲において、「低周波数成分」とは、周波数の成分（パワースペクトル）が存在する空間周波数領域のうち、その領域の中央より低周波数側にある周波数成分をいう。一方、「高周波数成分」とは、上記領域の中央より高周波数側にある周波数成分をいう。従って、図２４を例にとれば、空間周波数「９０」付近を堺にして、低周波側（およそ０〜９０）が「低周波数領域」、高周波側（およそ９１〜１８０）が「高周波数領域」となる。 Evaluation by Power Spectrum Next, the mask of the present embodiment is evaluated by the power spectrum indicating the frequency characteristics of the mask pattern. The power spectrum described below is obtained for a mask pattern having a size of 256 pixels × 256 pixels. Here, the power spectrum can be treated as a one-dimensional two-dimensional spatial frequency, “T. Mitsa and KJ Parker,“ Digital Halftoning using a Blue Noise Mask ”, Proc. SPIE 1452, pp. 47-56 (1991)”. It is described as a radially averaged power spectrum. Here, in the specification and claims of the present application, the “low frequency component” means a frequency component on the lower frequency side from the center of the spatial frequency region where the frequency component (power spectrum) exists. Say. On the other hand, the “high frequency component” refers to a frequency component located on the higher frequency side than the center of the region. Therefore, taking FIG. 24 as an example, the low frequency side (approximately 0 to 90) is the “low frequency region” and the high frequency side (approximately 91 to 180) is the “high frequency region, with the spatial frequency“ 90 ”vicinity as the eaves. "

また、「低周波数成分が高周波数成分よりも少ない」とは、低周波数領域に存在する周波数成分（低周波数成分）の積分値が高周波数領域に存在する周波数成分（高周波数成分）の積分値よりも小さいことを指す。 “Low frequency component is less than high frequency component” means that the integrated value of the frequency component (low frequency component) existing in the low frequency region is the integrated value of the frequency component (high frequency component) existing in the high frequency region. Less than that.

図２３は、本実施形態のパターン考慮型積層マスクＣ１と特願２００５−１９７８７３号（以下、関連出願）に開示される積層マスクそれぞれの周波数特性を説明する図である。図２３において、各曲線は、空間周波数に対するそれぞれのマスクパターンのパワースペクトルを示している。曲線ｂは、本実施形態のパターン考慮型積層マスクのマスクパターンのパワースペクトルを、曲線ａは関連出願に開示される積層マスクのマスクパターンのパワースペクトルをそれぞれ示している。この二つの曲線を比較すると、どちらも低周波数領域におけるパワーが少なく、パワーのピークが高周波数領域に存在していることが分かる。このように、ドット配置パターンを考慮した本実施形態のマスクも低周波数成分が少なく低周波数領域にピークがないパターン特性を実現している。 FIG. 23 is a diagram for explaining the frequency characteristics of the pattern-considering laminated mask C1 of this embodiment and the laminated masks disclosed in Japanese Patent Application No. 2005-197873 (hereinafter referred to as related applications). In FIG. 23, each curve shows the power spectrum of each mask pattern with respect to the spatial frequency. A curve b represents the power spectrum of the mask pattern of the pattern-considering laminated mask of this embodiment, and a curve a represents the power spectrum of the mask pattern of the laminated mask disclosed in the related application. Comparing these two curves, it can be seen that both have less power in the low frequency region and a power peak exists in the high frequency region. As described above, the mask according to the present embodiment considering the dot arrangement pattern also realizes pattern characteristics with few low frequency components and no peak in the low frequency region.

図２４は、本実施形態のパターン考慮型積層マスクＣ１と関連出願に開示される積層マスクを用いて、レベル１のドットパターンを記録するときの１パス目に形成されるパターン（図１７および図２０）の周波数特性を説明する図である。曲線ａは、関連出願で示す積層マスクと図１１のレベル１のドット配置パターンとの論理積パターン（つまり、図２０の論理積パターン）のパワースペクトルを示している。この曲線でａは、低周波数領域にもピークが存在し低周波数成分が比較的多いものとなっている。低周波数領域にピークが存在するということは、マスクパターンとドット配置パターンが干渉することによって一走査内のドット配置に偏りが生じ、それがノイズとして知覚される可能性があることを意味する。 FIG. 24 shows a pattern formed in the first pass when a level 1 dot pattern is recorded using the pattern-considering laminated mask C1 of this embodiment and the laminated mask disclosed in the related application (FIGS. 17 and 17). It is a figure explaining the frequency characteristic of 20). A curve a represents a power spectrum of the logical product pattern (that is, the logical product pattern of FIG. 20) of the layered mask shown in the related application and the level 1 dot arrangement pattern of FIG. In this curve, a has a peak also in a low frequency region and has a relatively large amount of low frequency components. The presence of a peak in the low frequency region means that the dot arrangement within one scan is biased due to interference between the mask pattern and the dot arrangement pattern, which may be perceived as noise.

一方、図２４の曲線ｂは、本実施形態のパターン考慮型積層マスクＣ１と図１１のレベル１のドット配置パターンとの論理積パターン（つまり、図１７の論理積パターン）のパワースペクトルを示している。この曲線ｂでは、低周波数成分が高周波数成分より少ない特性を示しており、とりわけ、低周波数領域に実質的なピークが存在せず低周波数成分が比較的少ないものとなっている。低周波数領域にピークが存在しないということは、マスクパターンとドット配置パターンとの干渉によって生じるドット偏りが殆どなく、１回の走査においてドットが良好に分散された状態で配置されることを意味する。 On the other hand, the curve b in FIG. 24 shows the power spectrum of the logical product pattern (that is, the logical product pattern in FIG. 17) of the pattern-considering laminated mask C1 of this embodiment and the level 1 dot arrangement pattern in FIG. Yes. This curve b shows the characteristic that the low frequency component is smaller than the high frequency component, and in particular, there is no substantial peak in the low frequency region and the low frequency component is relatively small. The absence of a peak in the low frequency region means that there is almost no dot deviation caused by interference between the mask pattern and the dot arrangement pattern, and the dots are arranged in a well-distributed state in one scan. .

図２４の曲線ｂの特徴について更に詳述する。一般に、人間の目は、低周波数成分に感度が高く、高周波になるにつれて感度が低下するといった、いわゆるローパスフィルタの特性を持っている。従って、曲線ｂのように、低周波数領域全域において周波数成分のピ−クが存在しないよう低周波数成分を極力低く抑えることは、ノイズ感低減に有効である。 The characteristics of the curve b in FIG. 24 will be further described in detail. In general, the human eye has a so-called low-pass filter characteristic in which the sensitivity to low frequency components is high and the sensitivity decreases as the frequency increases. Therefore, it is effective for reducing the noise feeling to suppress the low frequency component as low as possible so that there is no peak of the frequency component in the entire low frequency region as shown by the curve b.

低周波領域の中でも、とりわけ、ノイズ感知に大きく影響するのは、低周波数領域の中央（半分）より低周波側にある周波数成分、更に厳密に言えば、低周波数領域の１／４より低周波側にある周波数成分である。すなわち、人間の目の感度に関する周波数特性は、記録物と人の目の距離などに依存し、例えば、ドーリイ（Dooley）の文献（「R.P. Dooley：Prediction Brightness Appearance at Edges Using Linear and Non-Liner Visual Describing Functions, SPES annual Meeting (1975)」）などによってこれまで多く論じられている。様々な実験から、およそ９〜１０ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍより低い周波数領域の成分が人の目に認識しやすいと言われている。図２４の例では、空間周波数「５０」がおよそ１０ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍに相当し、低周波数領域の中央付近（空間周波数「４５」）がおよそ９ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍに相当する。従って、９ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ以下の周波数領域（つまり、低周波数領域の中央（半分）より低周波側の領域）において周波数成分のピークが存在しないように周波数成分を低く抑えることがノイズ感低減には有効であり、この条件を曲線ｂは満たしている。９ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍから低周波になるにつれて視覚感度は徐々に増加し、およそ４．５ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ（図中の空間周波数「２２．５」）付近から視覚感度は急激に増す。そして、１〜２ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ（図中の空間周波数「５〜１０」）付近で視覚感度は最大となる。従って、視覚感度が激増するポイントである４．５ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ（図中の空間周波数「２２．５」）以下の周波数領域（低周波数領域の１／４より低周波側の領域）において周波数成分のピークが存在しないように周波数成分を低く抑えることは重要である。曲線ｂではこの条件も満さたれている。 In the low frequency range, noise detection has a significant effect on noise detection, especially the frequency components on the low frequency side from the center (half) of the low frequency range, and more strictly speaking, the frequency component is lower than 1/4 of the low frequency range. This is the frequency component on the side. In other words, the frequency characteristics related to the sensitivity of the human eye depend on the distance between the recorded material and the human eye. For example, Dooley (“RP Dooley: Prediction Brightness Appearance at Edges Using Linear and Non-Liner Visual Describing Functions, SPES annual Meeting (1975) ”). From various experiments, it is said that components in a frequency region lower than about 9 to 10 cycles / mm are easily recognized by human eyes. In the example of FIG. 24, the spatial frequency “50” corresponds to approximately 10 cycles / mm, and the vicinity of the center of the low frequency region (spatial frequency “45”) corresponds to approximately 9 cycles / mm. Therefore, it is effective to reduce the noise sensation by keeping the frequency component low so that there is no frequency component peak in the frequency region of 9 cycles / mm or less (that is, the region on the lower frequency side than the center (half) of the low frequency region). The curve b satisfies this condition. The visual sensitivity gradually increases as the frequency decreases from 9 cycles / mm, and the visual sensitivity increases rapidly from around 4.5 cycles / mm (spatial frequency “22.5” in the figure). The visual sensitivity is maximized in the vicinity of 1 to 2 cycles / mm (spatial frequency “5 to 10” in the figure). Therefore, in the frequency region (region lower than ¼ of the low frequency region) of the frequency component below 4.5 cycles / mm (spatial frequency “22.5” in the figure), which is a point at which the visual sensitivity increases sharply, It is important to keep the frequency component low so that there are no peaks. This condition is also satisfied in the curve b.

以上のように本実施形態によれば、図２４の曲線ｂに示されるように、低周波数領域の１／４より低周波側の領域（およそ４．５ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ以下の領域）において、低周波数成分のピークが存在しない程度に低周波数成分が低く抑えられている。従って、ノイズ感の少ない画像を得ることが可能となっている。なお、図２４の曲線ｂでは、低周波数領域の半分付近より低周波側の領域全域（９ｃｙｃｌｅｓ/ｍｍ以下の領域）においても、低周波数成分のピークがみられないので、ノイズ感は殆どない。 As described above, according to the present embodiment, as shown by the curve b in FIG. 24, in the region on the lower frequency side than the quarter of the low frequency region (region of about 4.5 cycles / mm or less), the low frequency The low frequency component is kept low to such an extent that no component peak exists. Therefore, it is possible to obtain an image with less noise. In the curve b in FIG. 24, no low frequency component peaks are observed in the entire region on the lower frequency side (region of 9 cycles / mm or less) than near the half of the low frequency region, so that there is almost no sense of noise.

上記から明らかなように、本実施形態のマスクは、そのマスクにおける記録許容画素の配置とドット配置パターンにおけるドット配置との論理積によって得られる論理積パターンが下記特性（ａ）並びに（ｂ１）〜（ｂ３）のいずれかを満たすものである。なお、本実施形態では、（ａ）に加えて、少なくとも（ｂ１）を満たす必要はあり、より好ましくは（ｂ２）を満し、更に好ましくは（ｂ３）を満たすものである。 As is clear from the above, the mask of this embodiment has the following logical product patterns (a) and (b1) to (b1), which are obtained by the logical product of the arrangement of the print allowable pixels in the mask and the dot arrangement in the dot arrangement pattern. It satisfies any of (b3). In this embodiment, in addition to (a), at least (b1) needs to be satisfied, more preferably (b2) is satisfied, and still more preferably (b3) is satisfied.

（ａ）低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ１）低周波数領域の１／４より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。
（ｂ２）低周波数領域の半分より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。
（ｂ３）低周波数領域全域において周波数成分のピークが存在しない。 (A) The frequency component in the low frequency region is less than the frequency component in the high frequency region.
(B1) There is no frequency component peak in a region on the lower frequency side than 1/4 of the low frequency region.
(B2) The peak of the frequency component does not exist in a region on the low frequency side from half of the low frequency region.
(B3) There is no frequency component peak in the entire low frequency region.

このようにドット配置パターン考慮型積層マスクＣ１は、そのマスクＣ１における記録許容画素の配置とドット配置パターンにおけるドット配置との論理積によって得られる論理積パターンの低周波数成分が高周波数成分より少なく且つ低周波数成分のピークが存在しない特性を有するパターンとなっている。 In this way, the dot arrangement pattern consideration type laminated mask C1 has a low frequency component of the logical product pattern obtained by the logical product of the arrangement of the print allowable pixels in the mask C1 and the dot arrangement in the dot arrangement pattern less than the high frequency component. The pattern has a characteristic in which no low frequency component peak exists.

そして、このようなパターン考慮積層マスクを用いることにより、ドット配置パターンとの干渉を低減してドット数の偏りを小さくするとともに、分散性の高いマスク処理を行うことができる。また、低周波数成分が低く抑えられていることから、マスク周期に依存するマスクパターンのムラも低減することができる。 By using such a pattern-considering laminated mask, interference with the dot arrangement pattern can be reduced to reduce the deviation in the number of dots, and mask processing with high dispersibility can be performed. In addition, since the low frequency component is kept low, the mask pattern unevenness depending on the mask cycle can also be reduced.

＜実施形態２：４パス記録用１００％均等マスク＞
本実施形態の概要
本発明の第二の実施形態は、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各インクについて４回の走査（２回の往復走査）で画像を完成させる４パスのマルチパス記録に用いる、パターン考慮型積層マスク関するものである。本実施形態のマスクは、それぞれのマスクが第一の実施形態と同様にインデックスデータによって得られるドット配置パターンとの干渉が低減されたものであるとともに、他のマスクとの干渉も低減されたものである。これによれば、特に、複数回の走査の間に吐出されたインク滴が集まってできるビーディングの発生を低減することが可能となる。 <Embodiment 2: 100% uniform mask for 4-pass printing>
Outline of the Present Embodiment The second embodiment of the present invention completes an image by performing four scans (two reciprocating scans) for each ink of cyan (C), magenta (M), and yellow (Y). The present invention relates to a pattern-considering laminated mask used for multi-pass printing. In the mask of this embodiment, each mask has reduced interference with the dot arrangement pattern obtained from the index data as in the first embodiment, and also reduced interference with other masks. It is. According to this, it becomes possible to reduce the occurrence of beading that is caused by the collection of ink droplets ejected during a plurality of scans.

本実施形態では、記録の順番は、シアン１パス目→マゼンタ１パス目→１イエロー１パス目→イエロー２パス目→マゼンタ２パス目→シアン２パス目→シアン３パス目→・・・・・シアン４パス目である。これに従い、用いるマスクの順番としては、Ｃ１→Ｍ１→Ｙ１→Ｙ２→Ｍ２→Ｃ２→Ｃ３→Ｍ３→Ｙ３→Ｙ４→Ｍ４→Ｃ４となる。本実施形態は、上述したようにマスク間でそのパターンが分散しているので、途中の走査において形成されるドットの分散性が高い画像とし、それによってビーディングの発生を低減する。 In the present embodiment, the order of printing is as follows: cyan first pass → magenta first pass → first yellow first pass → yellow second pass → magenta second pass → cyan second pass → cyan third pass → -The fourth cyan pass. Accordingly, the order of masks to be used is C1, M1, Y1, Y2, M2, C2, C3, M3, Y3, Y4, M4, and C4. In this embodiment, since the pattern is dispersed between the masks as described above, an image with high dispersibility of dots formed in the middle scanning is obtained, thereby reducing the occurrence of beading.

マスクの製法
本実施形態のマスクの作成方法は、上述した、パスごとの生成法および順次配置法によってそれぞれのマスクに記録許容画素を配置して行く。 Mask Production Method In the mask production method of this embodiment, print permitting pixels are arranged in each mask by the above-described generation method and sequential arrangement method for each pass.

図２５は、本実施形態のマスク作成処理を示すフローチャートである。基本的な処理は、図９で説明した第一の実施形態の処理と同じである。異なる点は、配置を定めるマスクが複数（Ｃ，Ｍ，Ｙ）プレーンになったことと（Ｓ２１０５）、斥力ポテンシャルが最も下がる画素にその注目記録許容画素を配置する際、それまでに作成されたパスのマスクのパターンは固定であることである（Ｓ２１０２）。また、４パス記録のマスクであることから、それぞれの色について、３パス分のマスク（Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３；Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３）について上記の作成処理を繰返すことはもちろんである。 FIG. 25 is a flowchart showing the mask creation processing of this embodiment. The basic process is the same as the process of the first embodiment described with reference to FIG. The difference is that there are a plurality of (C, M, Y) planes for determining the arrangement (S2105), and when the target recording allowable pixel is arranged in the pixel where the repulsive potential is the lowest, it has been created so far. The pass mask pattern is fixed (S2102). In addition, since it is a mask for four-pass printing, the above-described creation process is repeated for the masks for three passes (C1, C2, C3; Y1, Y2, Y3; M1, M2, M3) for each color. Of course.

斥力を計算して配置を定めるマスクが複数の場合、図２６に示すように、それぞれの色のマスクパターン生成の際には、その色に対応したドット配置パターンを考慮して斥力ポテンシャルを計算する。例えば、Ｙのマスクを生成するときは、Ｙのドット配置パターンと、ＭおよびＣのマスクパターンとの間で斥力ポテンシャルを計算する。すなわち、マスクパターン同士の斥力も計算される。 When there are a plurality of masks that determine the arrangement by calculating the repulsive force, as shown in FIG. 26, when generating the mask pattern of each color, the repulsive potential is calculated in consideration of the dot arrangement pattern corresponding to the color. . For example, when generating a Y mask, the repulsive potential is calculated between the Y dot arrangement pattern and the M and C mask patterns. That is, the repulsive force between the mask patterns is also calculated.

なお、Ｙのマスクを生成する際に、Ｍ、ＣおよびＹのドット配置パターンと、Ｍ、Ｃのマスクパターンとの間で斥力ポテンシャルを計算してＹマスクの記録許容画素を決定してもよい。しかし、生成されたＹマスクとＹのドット配置パターンとの干渉抑制は前記の方法よりも効果が少なくなる。 When generating the Y mask, the repulsive potential may be calculated between the M, C, and Y dot arrangement patterns and the M and C mask patterns to determine the Y mask recording allowable pixels. . However, the suppression of interference between the generated Y mask and the Y dot arrangement pattern is less effective than the above method.

各色のマスクパターン生成において考慮するパターンは、第一の実施形態と同様に各色のドット配置パターンである。従って、各色のドット配置パターンが同じでもあるいは異なる場合でも、本発明を適用できることは明らかである。 The pattern considered in generating the mask pattern for each color is the dot arrangement pattern for each color as in the first embodiment. Therefore, it is clear that the present invention can be applied even when the dot arrangement pattern of each color is the same or different.

図２７は、本実施形態で用いるドット配置パターンを示す図である。同図に示すように、本実施形態では、それぞれの色で異なるドット配置パターンを用いる。そして、実際の斥力ポテンシャルの計算に用いるパターンは、図２８に示すものである。図２８は、第一の実施形態で上述したのと同様に、図２７に示す各レベルのドット配置パターンの差分をとったドット配置を示し、それぞれのプレーンのドット配置は排他的なものである。 FIG. 27 is a diagram showing a dot arrangement pattern used in the present embodiment. As shown in the figure, in this embodiment, a different dot arrangement pattern is used for each color. The pattern used for the actual repulsive potential calculation is shown in FIG. FIG. 28 shows the dot arrangement obtained by taking the difference in the dot arrangement pattern of each level shown in FIG. 27, as described above in the first embodiment, and the dot arrangement of each plane is exclusive. .

マスクの特性評価
図２９〜図３１は、本実施形態の上述した製法によって作製された本実施形態の１プレーン分のパターン考慮型積層マスクＣ１、Ｍ１、Ｙ１それぞれの記録許容画素の配置パターンを示す図である。各マスクパターンは、１２８×２５６画素の領域を有したものである。これらの図に示すように、どのプレーンのマスクも分散性よく記録許容画素が配置されていることがわかる。 Mask Characteristic Evaluation FIGS. 29 to 31 show the layout patterns of the print-permitted pixels of the pattern-considered laminated masks C1, M1, and Y1 for one plane of this embodiment manufactured by the above-described manufacturing method of this embodiment. FIG. Each mask pattern has an area of 128 × 256 pixels. As shown in these figures, it can be seen that the print permitting pixels are arranged with good dispersibility in the mask of any plane.

図３２〜図３４は、それぞれ上記のマスクＣ１、Ｍ１、Ｙ１を用いて、図２７に示すレベル１のパターンを記録するときの１パス目で形成されるドットパターンを示す図である。すなわち、本実施形態のパターン考慮型積層マスクＣ１、Ｍ１、Ｙ1の記録許容画素の配置と、図２７に示すレベル１のドット配置との論理積をドットパターンで示している。 32 to 34 are diagrams showing dot patterns formed in the first pass when the level 1 pattern shown in FIG. 27 is recorded using the masks C1, M1, and Y1. That is, the logical product of the arrangement of the print-permitted pixels of the pattern-considered laminated masks C1, M1, and Y1 of the present embodiment and the level 1 dot arrangement shown in FIG. 27 is shown by a dot pattern.

これら図３２〜図３４によれば、各マスクとそれぞれに対応したドット配置パターンとの論理積、すなわち、マスク処理によって得られるドットパターンの分散性が良いことが分かる。また、２パス目、３パス目のマスクＣ２、Ｃ３、Ｙ２、Ｙ３、Ｍ２、Ｍ３も同様に分散性が高くなる。これは、これらのマスクについても同じように対応するドット配置パターンとの間で斥力を計算しているからである。 32 to 34, it can be seen that the logical product of each mask and the corresponding dot arrangement pattern, that is, the dispersibility of the dot pattern obtained by the mask process is good. Similarly, the second pass and the third pass masks C2, C3, Y2, Y3, M2, and M3 have high dispersibility. This is because the repulsive force is similarly calculated between these masks and the corresponding dot arrangement pattern.

図３５は、所定のレベルのドット配置パターンとそれぞれのマスクＣ１との論理積のパターンの周波数特性を示す図である。この図に示すように、論理積のパターンは、低周波数成分が高周波数成分よりも少なく且つ低周波数領域の１／４より低周波側の領域においてに実質的なピークが存在しないものとなる。従って、マスクパターンとドット配置パターンとの干渉によって生じるドット偏りが殆どなく、１回の走査においてドットが良好に分散した状態で配置される。 FIG. 35 is a diagram illustrating frequency characteristics of a logical product pattern of a dot arrangement pattern of a predetermined level and each mask C1. As shown in this figure, the logical product pattern is such that the low frequency component is less than the high frequency component and there is no substantial peak in the region on the lower frequency side than 1/4 of the low frequency region. Therefore, there is almost no dot deviation caused by interference between the mask pattern and the dot arrangement pattern, and the dots are arranged in a state of being well dispersed in one scan.

なお、この実施形態２のマスクは、ドット配置パターンとの論理積パターンが図３２〜図３４のようになるマスクに限定されるわけではなく、実施形態１と同様、下記特性（ａ）並びに（ｂ１）〜（ｂ３）のいずれかを満たすものとなっていればよい。また、後述する実施形態３〜５についても同様のことがいえる。 The mask of the second embodiment is not limited to the mask in which the logical product pattern with the dot arrangement pattern is as shown in FIGS. 32 to 34, and the following characteristics (a) and ( It is only necessary to satisfy any of b1) to (b3). The same applies to Embodiments 3 to 5 described later.

（ａ）低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ１）低周波数領域の１／４より低周波側の領域において周波数成分のピークが存在しない。
（ｂ２）低周波数領域の半分より低周波側の領域において周波数成分のピークが存在しない。
（ｂ３）低周波数領域全域において周波数成分のピークが存在しない。 (A) The frequency component in the low frequency region is less than the frequency component in the high frequency region.
(B1) There is no frequency component peak in the region on the lower frequency side than 1/4 of the low frequency region.
(B2) The peak of the frequency component does not exist in the lower frequency region than half of the low frequency region.
(B3) There is no frequency component peak in the entire low frequency region.

また、本実施形態では、マスクの記録許容画素の配置を定めるに当たって、本出願人による特願２００５−１９７８７３号に開示される形態と同様、他のマスクとの干渉もしくは分散をも考慮すべくそれらのマスクとの間でも斥力ポテンシャルを計算する。これによれば、記録を完成する途中の走査において形成されるドットの分散性が高いものとなり、それによってビーディングの発生を低減することができる。 Further, in the present embodiment, in determining the arrangement of the print permitting pixels of the mask, as in the form disclosed in Japanese Patent Application No. 2005-197873 by the applicant, the interference or dispersion with other masks should be taken into consideration. The repulsive potential is calculated even with the mask. According to this, the dispersibility of the dots formed in the scanning in the middle of completing the recording becomes high, thereby reducing the occurrence of beading.

このビーディングは、近年のインクジェット記録システムにおいて、特に発生し易い状況にある。近年のインクジェット記録では、その高速化、高密度化、およびインクの種類の多様化が目覚しく進んでいる。高速化、高密度化、インクの種類の増大化は、単位時間当たりおよび記録媒体の単位面積あたりに付与されるインクの量を増大させる。この様な状況において、記録媒体によっては、たとえ付与される全てのインクを吸収可能であったとしても、吸収がその付与速度に対応しきれない場合がある。具体的には、付与された全てのインクが、結果的には全て吸収され定着性やスミアなどの問題を発生させない場合でも、複数回の走査の途中で記録媒体の表面でまだ吸収されていないインク滴同士が接触し、これが記録画像において問題を引き起こす場合がある。 This beading is particularly likely to occur in recent inkjet recording systems. In recent inkjet recording, the speeding up, density increase, and diversification of ink types are remarkably progressing. Higher speed, higher density, and increased types of ink increase the amount of ink applied per unit time and per unit area of the recording medium. In such a situation, depending on the recording medium, even if all the applied ink can be absorbed, the absorption may not be able to correspond to the application speed. Specifically, even if all applied ink is absorbed as a result and does not cause problems such as fixability and smear, it is not yet absorbed on the surface of the recording medium in the middle of a plurality of scans. Ink drops contact each other, which can cause problems in the recorded image.

例えば、表面に光沢のある記録媒体に対し、シアンインクとマゼンタインクで表現されるブルー画像を、２パスのマルチパス記録で記録する場合を考える。シリアル型のインクジェット記録装置の多くは、シアン、マゼンタ、イエローおよびブラックの基本４色の吐出口が、並列して記録ヘッドの主走査方向に配置されている。よって、同一の記録走査では記録媒体の同一の領域に各色が付与される。すなわち、上記の場合、白紙の記録媒体に対して、画像データを１／２に間引いたシアンドットと、同じく画像データを１／２に間引いたマゼンタドットとが、同一の記録走査で極短い時間差で付与される。このとき、記録されたシアンドットとマゼンタドットは、両者が同じ記録画素あるいは隣接する画素に記録された場合に、互いの表面張力によって引き合い、２つ分の（或いはそれ以上の）大きなドット（以下、グレインと称す）を形成する。一度このようなグレインが生成されると、その後別の走査で隣接した位置に付与されたインク滴は当該グレインに引き寄せられやすくなる。すなわち、最初に発生したグレインが核となって徐々に成長し、やがて大きなグレインを生成する。このようなグレインは、主にインクの付与量が多い高濃度領域において顕著に現れる。そして、一様な画像領域においては、このようなグレインが不規則に散らばった状態で散在し、いわゆるビーディングという画像弊害となって確認される。 For example, consider a case in which a blue image expressed by cyan ink and magenta ink is recorded on a recording medium having a glossy surface by two-pass multi-pass printing. In many serial type ink jet recording apparatuses, discharge ports of four basic colors of cyan, magenta, yellow and black are arranged in parallel in the main scanning direction of the recording head. Therefore, each color is given to the same area of the recording medium in the same recording scan. In other words, in the above case, a cyan recording dot that has been thinned by half of the image data and a magenta dot that has also been thinned by half of the same image data are extremely short in the same printing scan. It is given by. At this time, the recorded cyan dots and magenta dots are attracted by the surface tension of each other when both are recorded on the same recording pixel or adjacent pixels, and two (or more) large dots (hereinafter referred to as “dots”). , Referred to as grain). Once such a grain is generated, ink droplets applied to adjacent positions in another scan are easily attracted to the grain. That is, the first generated grain gradually grows as a nucleus and eventually produces large grains. Such a grain remarkably appears mainly in a high density region where a large amount of ink is applied. In a uniform image area, such grains are scattered in an irregular manner, which is confirmed as an image detrimental effect called so-called beading.

上記グレインの現象は、異色インク同士の表面張力によってのみ生じるものではない。例えば、互いに反応し合う記録剤が同一の記録走査で記録された場合、接触した各滴は、より強固な化学反応によって結合され、これがグレイン核を形成する場合もある。また、同一の記録走査で、同色のインクを２列のノズル列を用いて記録する構成の場合にも、これらの間でグレインが発生する。 The grain phenomenon is not caused only by the surface tension between different color inks. For example, when recording agents that react with each other are recorded in the same recording scan, the contacting droplets are combined by a stronger chemical reaction, which may form a grain nucleus. Also, in the case of a configuration in which ink of the same color is printed using two nozzle rows in the same printing scan, grain occurs between them.

本実施形態は、これに対して、マスク間の分散をも考慮することにより、このようなグレインの発生を抑制することが可能となる。 In contrast, in the present embodiment, it is possible to suppress the occurrence of such grains by considering dispersion between masks.

＜実施形態３：２パス記録用１００％グラデーションマスク＞
本発明の第３の実施形態は、グラデーションマスクを用いる場合に、このマスクとドット配置パターンとの干渉を低減し、あるいは分散性を向上させるものに関する。具体的には、上記の各実施形態と同様、本実施形態のグラデーションマスクおよび配置パターンについて斥力ポテンシャルを計算し、記録許容画素の配置を定めるものである。 <Embodiment 3: 100% gradation mask for 2-pass printing>
The third embodiment of the present invention relates to a technique for reducing interference or improving dispersibility when a gradation mask is used. Specifically, as in each of the above embodiments, the repulsive potential is calculated for the gradation mask and the arrangement pattern of this embodiment, and the arrangement of the print permitting pixels is determined.

図３６（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係るグラデーションマスクのノズル配列における位置に対応させた記録率（所定の領域に配置される記録許容画素の割合）、および２パスのマスクパターンを示す図である。本実施形態では、ノズル番号に応じてそのノズルの配列方向において変化する記録率となる数の記録許容画素を配置する。斥力ポテンシャルの計算において考慮するドット配置パターンのプレーンは、第一の実施形態と同様に、図１２に示す４つのプレーンＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４である。 FIGS. 36A and 36B show a printing rate corresponding to the position in the nozzle array of the gradation mask according to the present embodiment (ratio of printing allowable pixels arranged in a predetermined area), and a two-pass mask pattern. FIG. In the present embodiment, the number of print permitting pixels corresponding to the print rate that changes in the nozzle arrangement direction according to the nozzle number is arranged. The planes of the dot arrangement pattern considered in the calculation of the repulsive potential are the four planes P1, P2, P3, and P4 shown in FIG. 12, as in the first embodiment.

図３６（ａ）および（ｂ）において、２パス記録の各走査では、番号０〜２５５のノズルがマスクＣ２に対応し、番号２５６〜５１１のノズルがマスクＣ１に対応する。 36A and 36B, in each scan of two-pass printing, the nozzles numbered 0 to 255 correspond to the mask C2, and the nozzles numbered 256 to 511 correspond to the mask C1.

マスクの製法は、基本的には第一の実施形態と同じ方法である。異なる点は、最小エネルギーの画素に記録許容画素を置く際に、ノズルに対応した記録比率に応じて定まるラスターの配置数を超えるときは、配置数の制限以内であるラスターで、次にエネルギーの低い画素があるラスターのその画素に配置する点である。これにより、記録比率をラスターごとに異ならせながら、ドット配置パターンが考慮された分散性の高いグラデーションマスクを得ることができる。 The mask manufacturing method is basically the same as that of the first embodiment. The difference is that when placing the printable pixel on the pixel with the lowest energy, if the number of rasters that are determined according to the print ratio corresponding to the nozzle exceeds the number of rasters, the raster that is within the limit of the number of placements, The lower pixel is located at that pixel of the raster. As a result, it is possible to obtain a gradation mask with high dispersibility in consideration of the dot arrangement pattern while varying the recording ratio for each raster.

＜実施形態４：２パス記録用１５０％均等マスク＞
本発明は、補完の関係にある複数のマスクの記録比率を合わせたときに１００％を超える複数のマスクにも適用することができる。本発明の第四の実施形態は、２パス記録に用いられる同色の２つのプレーンがそれぞれ７５％の記録比率を持ち、合わせて１５０％の記録比率となるマスクに関するものである。 <Embodiment 4: 150% uniform mask for 2-pass printing>
The present invention can also be applied to a plurality of masks exceeding 100% when the recording ratios of a plurality of masks in a complementary relationship are combined. The fourth embodiment of the present invention relates to a mask in which two planes of the same color used for two-pass printing each have a printing ratio of 75% and a total printing ratio of 150%.

本実施形態のマスクの製造方法は基本的に第一の実施形態と同様に行うことができる。異なるのは、１パス目の７５％記録率のマスクパターンを作成した後、第一の実施形態のように排他位置に記録許容画素を配置して２パス目のマスクを作成するのではない点である。すなわち、２パス目のマスクについても、１パス目のマスク作成と同様の処理を繰り返して７５％のパターンを生成する。 The mask manufacturing method of this embodiment can be performed basically in the same manner as in the first embodiment. The difference is that after a mask pattern with a 75% printing rate for the first pass is created, a mask for the second pass is created by arranging print permitting pixels at the exclusive positions as in the first embodiment. It is. That is, for the second pass mask, the same process as the first pass mask creation is repeated to generate a 75% pattern.

マスク作製の詳細について、順次配置法を用いて以下説明する。基本的には、第一の実施形態に係る図９に示した処理と同様の処理を行う。異なる点は、ステップＳ７０５と同様の判断工程で、７５％まで記録許容画素が配置されたか否かを判断する。また、２パス目用のマスク作成では、図９のステップＳ７０４と同様の工程で、記録許容画素を配置する際に同じ色の異なるプレーンの記録許容画素との重なりを禁止しない。すなわち、エネルギーが最も低い位置に配置しようとしたとき、その位置で同じ色の他のプレーンの記録許容画素と重なってもそこに配置する。これにより、２つのマスクを重ねたものが１００％の記録率を超えた１５０％の記録率のマスクを生成することができる。 Details of mask fabrication will be described below using a sequential arrangement method. Basically, the same processing as that shown in FIG. 9 according to the first embodiment is performed. The difference is that in the same determination step as in step S705, it is determined whether or not up to 75% of the print permitting pixels are arranged. Further, in the mask creation for the second pass, in the same process as step S704 in FIG. 9, when the print permitting pixels are arranged, the overlap with the print permitting pixels of different planes of the same color is not prohibited. That is, when an attempt is made to arrange at a position where the energy is lowest, the arrangement is made even if it overlaps with a print permitting pixel of another plane of the same color at that position. As a result, it is possible to generate a mask having a recording rate of 150%, in which two masks are overlaid and the recording rate exceeds 100%.

図３７（ａ）および（ｂ）は、本実施形態における２パス１５０％均等マスクの各ノズルに対する記録比率および実際のマスクパターンを示している。考慮されているパターンは実施形態１と同じ図１０のパターンである。 FIGS. 37A and 37B show the recording ratio and the actual mask pattern for each nozzle of the 2-pass 150% uniform mask in this embodiment. The pattern considered is the same pattern of FIG. 10 as in the first embodiment.

図３８は、図３７（ｂ）に示すマスクＣ１とマスクＣ２の論理和を示す図である。図３８において、黒で表現されている画素はドットが２つ重ねて形成されている画素、グレーで表現されている画素は１つのドットが形成されている画素である。ここで、ドットが２つ形成される画素は予め指定してマスク作製を行う。 FIG. 38 is a diagram illustrating a logical sum of the mask C1 and the mask C2 illustrated in FIG. In FIG. 38, a pixel expressed in black is a pixel formed by overlapping two dots, and a pixel expressed in gray is a pixel formed with one dot. Here, the pixel on which two dots are formed is designated in advance and the mask is manufactured.

図３９は、図３７（ｂ）に示すマスクパターンと、本実施形態で用いるレベル１のドット配置パターンとの論理積のドット配置、すなわち、画像データがレベル１のとき１回のパスで形成されるドットパターンを示す図である。この図から、１回の走査で形成されるドットパターンにドットの偏りがなく、また、分散性に優れたパターンとなっていることが分かる。 FIG. 39 is a dot arrangement of the logical product of the mask pattern shown in FIG. 37B and the level 1 dot arrangement pattern used in this embodiment, that is, formed in one pass when the image data is level 1. It is a figure which shows a dot pattern. From this figure, it can be seen that the dot pattern formed by one scan has no dot deviation and has a good dispersibility.

＜実施形態５：クラスタサイズがｍ×ｎのマスク＞
本発明の第五の実施形態は、ｍ×ｎ個の記録許容画素を１つの単位とする、いわゆるクラスタマスクの作成に関するものである。ここで、ｍは主走査方向に連続する画素数を示し、ｎは副走査方向に連続する画素数を示す。 <Embodiment 5: Mask with Cluster Size of m × n>
The fifth embodiment of the present invention relates to the creation of a so-called cluster mask in which m × n recording allowable pixels are one unit. Here, m indicates the number of pixels continuous in the main scanning direction, and n indicates the number of pixels continuous in the sub-scanning direction.

本実施形態では、２パス記録用１００％均等マスクにおいて、クラスタサイズが２×２画素の場合について説明する。本実施形態のマスク製造方法は基本的に第一の実施形態と同様に行うことができる。 In the present embodiment, a case where the cluster size is 2 × 2 pixels in a 100% uniform mask for 2-pass printing will be described. The mask manufacturing method of this embodiment can be performed basically in the same manner as in the first embodiment.

図４０（ａ）は、本実施形態で用いるドット配置パターンを示す図である。図４０（ａ）に示すパターンは、図１１に示したドット配置パターンと同様、２×２画素を単位とした８×８画素のサイズを有するパターンを繰り返し用いるものであるが、図１１に示すパターンとは２×２画素の単位の内容やその配置パターンが異なる。具体的には、レベル１〜レベル３のいずれも、図４０（ｂ）に示すように、２×２画素の単位をその中のドット配置によってＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄと分類したとき、それらの配列順を異ならせたものである。 FIG. 40A is a diagram illustrating a dot arrangement pattern used in the present embodiment. Similar to the dot arrangement pattern shown in FIG. 11, the pattern shown in FIG. 40A repeatedly uses a pattern having a size of 8 × 8 pixels in units of 2 × 2 pixels. It differs from the pattern in the content of 2 × 2 pixel units and its arrangement pattern. Specifically, as shown in FIG. 40 (b), when any of level 1 to level 3 is classified into A, B, C, and D according to the dot arrangement therein, as shown in FIG. The arrangement order of is different.

図４１は、図４０（ａ）に示すドット配置パターンに基づく本実施形態のマスク作製において考慮する４つのプレーン示す図である。同図に示すように、プレーンＰ１〜Ｐ４のいずれも、作成するマスクのクラスタサイズに対応して２画素×２画素の領域をドット単位としたものである。また、これらのプレーンのドット単位の配置は、互いに排他関係もしくは補完の関係になっている。これにより、これらプレーンとの間で斥力ポテンシャルの計算によって本実施形態のクラスタマスクにおける記録許容画素の配置を定める際に、偏りのない分散性に優れた配置を得ることができる。 FIG. 41 is a diagram showing four planes to be considered in mask production of the present embodiment based on the dot arrangement pattern shown in FIG. As shown in the figure, each of the planes P1 to P4 has a 2 × 2 pixel area corresponding to the cluster size of the mask to be created. Also, the arrangement of these planes in dot units is mutually exclusive or complementary. Thereby, when determining the arrangement of the print permitting pixels in the cluster mask of the present embodiment by calculating the repulsive potential between these planes, it is possible to obtain an arrangement having no bias and excellent dispersibility.

図４２は、４つのプレーンＰ１〜Ｐ４を考慮して作成されたマスクＣ１およびその補完関係のマスクＣ２を示す図である。また、図４３は、図４０（ａ）に示したレベル１のドット配置パターンを、図４２に示したマスクＣ１を用いてマスク処理したときに形成されるドットパターンを示す図である。この図からも明らかなように、形成されるドットパターンにドット数の偏りがなく、また、分散性に優れたものとなる。 FIG. 42 is a diagram showing a mask C1 created in consideration of the four planes P1 to P4 and a complementary mask C2 thereof. FIG. 43 is a diagram showing a dot pattern formed when the level 1 dot arrangement pattern shown in FIG. 40A is masked using the mask C1 shown in FIG. As is apparent from this figure, the formed dot pattern has no uneven number of dots and has excellent dispersibility.

以上のように、クラスタマスクの場合もドット配置パターンを考慮することによって、走査によって形成されるドッの数に偏りがなく、また、パターンの分散性が向上する。この分散性が高いことによって、テクスチャーが仮に発生したとしても視覚的に目障りになり難く画像品位への影響が抑制される。 As described above, also in the case of a cluster mask, by considering the dot arrangement pattern, the number of dots formed by scanning is not biased, and the dispersibility of the pattern is improved. Due to the high dispersibility, even if a texture is generated, it is hardly visually disturbed and the influence on the image quality is suppressed.

なお、ｍ×ｎ画素を１単位としたクラスタマスクとして、２×２画素を１単位としたマスクについて説明したが、本実施形態はこれに限られるものではない。例えば、１×２画素を１単位としたマスクや２×４画素を１単位としたマスク等を用いることもできる。ｍとｎの値は、ｍとｎがいずれも正の整数で且つｍとｎの少なくとも一方が２以上の整数であればよい。 In addition, although the description has been given of the mask with 2 × 2 pixels as one unit as the cluster mask with m × n pixels as one unit, the present embodiment is not limited to this. For example, a mask having 1 × 2 pixels as one unit, a mask having 2 × 4 pixels as one unit, or the like may be used. The values of m and n may be any number where m and n are both positive integers and at least one of m and n is an integer of 2 or more.

＜その他の実施形態＞
上述の実施形態では、階調レベル１〜４の総てに対応したドット配置パターンを考慮してマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定しているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、４レベル中、レベル１〜３、レベル１〜２あるいはレベル１に対応したドット配置パターンを考慮してマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定してもよい。この場合、全レベルのドット配置パターンを考慮する場合に比べて、ドットの分散性の効果は低下するが、ドット配置パターンを全く考慮しない場合よりは分散性の効果は大きい。このように、少なくとも１つの階調レベルに対応したドット配置パターンを考慮してマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する形態であれば、本発明の範囲に含まれるものである。 <Other embodiments>
In the above-described embodiment, the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern is determined in consideration of the dot arrangement pattern corresponding to all of the gradation levels 1 to 4, but the present invention is not limited to this. Absent. For example, among the four levels, the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern may be determined in consideration of the dot arrangement pattern corresponding to level 1 to 3, level 1 to 2, or level 1. In this case, the effect of dot dispersibility is reduced as compared with a case where all levels of dot arrangement patterns are considered, but the effect of dispersibility is greater than when no dot arrangement pattern is considered. As described above, any form in which the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern is determined in consideration of the dot arrangement pattern corresponding to at least one gradation level is included in the scope of the present invention.

また、上述の各実施形態では階調レベルに対応したドット配置パターンを用いる場合について説明したが、本発明の適用はこれに限られない。例えば、繰り返し周期のあるパターンによって記録データが形成される場合、この周期パターンを考慮したマスクを作成し、同様の効果を得ることができる。 Further, although cases have been described with the above embodiments where dot arrangement patterns corresponding to gradation levels are used, the application of the present invention is not limited to this. For example, when recording data is formed by a pattern having a repeating cycle, a mask in consideration of this periodic pattern can be created to obtain the same effect.

また、上述の実施形態では２、４パスについて説明したが、３回以上の走査に対応した何パスでも本発明は適用可能であることは、以上の説明からも明らかである。また、２パスの記録で用いるマスクについては、１色の場合のみを例にとり説明したが、これに限られないことはもちろんである。例えば、Ｃ、Ｍ、Ｙそれぞれの２パス記録用のマスクの場合も本発明を適用することができる。これは、例えば、図２６にて上述した第二の実施形態のマスク作成からも明らかである。 In the above-described embodiment, the description has been made on the second and fourth passes. However, it is apparent from the above description that the present invention can be applied to any number of passes corresponding to three or more scans. Further, the mask used in the two-pass printing has been described by taking only one color as an example, but it is needless to say that the mask is not limited thereto. For example, the present invention can also be applied to a mask for two-pass printing for each of C, M, and Y. This is apparent from, for example, the mask creation of the second embodiment described above with reference to FIG.

さらに、上述の各実施形態では、記録装置（プリンタ）が本発明のデータ処理装置として機能してマスク処理およびそれに関連した処理を行うものとしが、本発明の適用が、この構成に限られないことはもちろんである。例えば、マスク処理により生成した各走査用の２値データをプリンタへ供給するデータ供給装置（例えば、図３、図４のホスト装置）が本発明のデータ処理装置として機能し、上記各実施形態で説明したマスクを用いたマスク処理を行う構成であってもよい。 Further, in each of the above-described embodiments, the recording apparatus (printer) functions as the data processing apparatus of the present invention to perform mask processing and related processing. However, the application of the present invention is not limited to this configuration. Of course. For example, a data supply device (for example, the host device in FIGS. 3 and 4) that supplies binary data for each scan generated by mask processing to the printer functions as the data processing device of the present invention. The configuration may be such that mask processing using the described mask is performed.

さらに、本発明は、上述した各実施形態の機能を実現する、図９、図２５に示したフローチャートの手順を実現するプログラムコード、またはそれを記憶した記憶媒体によっても実現することができる。また、システムあるいは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読出し実行することによっても達成される。この場合、記憶媒体から読取られるプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。 Furthermore, the present invention can also be realized by a program code that realizes the functions of the above-described embodiments and that realizes the procedures of the flowcharts shown in FIGS. 9 and 25, or a storage medium that stores the program code. It can also be achieved by reading and executing the program code stored in the storage medium by the computer (or CPU or MPU) of the system or apparatus. In this case, the program code itself read from the storage medium realizes the functions of the above-described embodiments, and the storage medium storing the program code constitutes the present invention.

プログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭなどを用いることができる。 As a storage medium for supplying the program code, for example, a floppy (registered trademark) disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM, CD-R, magnetic tape, nonvolatile memory card, ROM, or the like is used. be able to.

また、コンピュータが読み出したプログラムコードを実行することにより、前述した実施形態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳが実際の処理の一部または全部を行うものであってもよい。 In addition, by executing the program code read by the computer, not only the functions of the above-described embodiments are realized, but also the OS running on the computer performs an actual process based on the instruction of the program code. Part or all may be performed.

マルチパス記録を説明するために、記録ヘッドおよび記録パターンを模式的に示した図である。FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a recording head and a recording pattern for explaining multi-pass recording. ２パス記録によるドット記録パターンを表した図である。It is a figure showing the dot recording pattern by 2 pass printing. 本発明の実施形態に係る画像処理装置としてのパーソナルコンピュータのハードウェアおよびソフトウェアの構成を主に示すブロック図である。1 is a block diagram mainly showing hardware and software configurations of a personal computer as an image processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 本実施形態で適用する記録システムにおける、画像データ変換処理の流れを説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the flow of the image data conversion process in the recording system applied by this embodiment. 本実施形態におけるインデックスデータに基づくドット配値パターンを示す図である。It is a figure which shows the dot arrangement pattern based on index data in this embodiment. （ａ）〜（ｄ）は、上述した斥力ポテンシャルの計算と総エネルギーの減衰処理を模式的に示す図である。(A)-(d) is a figure which shows typically the calculation of the repulsive potential mentioned above, and the attenuation | damping process of total energy. 本実施形態に係る基本斥力ポテンシャルＥ（ｒ）の関数を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the function of the basic repulsive potential E (r) which concerns on this embodiment. 本発明の第一の実施形態における２パス記録を説明するための記録ヘッド、マスクパターンおよび記録媒体の位置関係を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a positional relationship among a recording head, a mask pattern, and a recording medium for explaining two-pass recording in the first embodiment of the present invention. 第一の実施形態における、順次配置法による記録許容画素の配置処理を示すフローチャートである。6 is a flowchart showing a process for arranging print-permitted pixels by a sequential arrangement method in the first embodiment. 第一の実施形態における、マスクＣを計算するための概念図である。It is a conceptual diagram for calculating the mask C in the first embodiment. 第一の実施形態における、インデックスデータに基づくドット配置パターンを示す図である。It is a figure which shows the dot arrangement pattern based on index data in 1st embodiment. 図１１に示すドット配置パターンに基づいた、マスク作製の際に考慮するパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern considered in the case of mask preparation based on the dot arrangement pattern shown in FIG. 第一の実施形態における、インデックスデータに基づくドット配置パターンの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the dot arrangement pattern based on index data in 1st embodiment. 図１３に示すドット配置パターンに基づいた、マスク作製の際に考慮するパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern considered in the case of mask preparation based on the dot arrangement pattern shown in FIG. 第一の実施形態に係るパターン考慮型マスクにおける記録許容画素の配置パターンを示す図である。It is a figure which shows the arrangement pattern of the print permission pixel in the pattern consideration type mask which concerns on 1st embodiment. 本発明に関連した積層マスクにおける記録許容画素の配置パターンを示す図である。It is a figure which shows the arrangement | positioning pattern of the recording permissible pixel in the lamination | stacking mask relevant to this invention. 第一の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＣ１と図１１に示したレベル１のドット配置との論理積パターンを示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a logical product pattern of the pattern-considering laminated mask C1 and the level 1 dot arrangement shown in FIG. 第一の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＣ１と図１１に示したレベル２のドット配置との論理積パターンを示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a logical product pattern of the pattern-considering laminated mask C1 and the level 2 dot arrangement shown in FIG. 11 in the first embodiment. 第一の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＣ１と図１１に示したレベル３のドット配置との論理積パターンを示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a logical product pattern of the pattern-considering laminated mask C1 and the level 3 dot arrangement shown in FIG. 11 in the first embodiment. 本発明に関連した積層マスクと図１１に示したレベル１のドット配置の論理積パターンを示図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a logical product pattern of the layered mask related to the present invention and the level 1 dot arrangement shown in FIG. 11. 本発明に関連した積層マスクと図１１に示したレベル２のドット配置の論理積パターンを示図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a logical product pattern of the layered mask related to the present invention and the level 2 dot arrangement shown in FIG. 11. 本発明に関連した積層マスクと図１１に示したレベル３のドット配置の論理積パターンを示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a logical product pattern of the layered mask related to the present invention and the level 3 dot arrangement shown in FIG. 11. 第一の実施形態における、パターン考慮型積層マスク（Ｃ１）および本発明に関連した積層マスクの周波数特性を説明する図である。It is a figure explaining the frequency characteristic of the pattern consideration type lamination mask (C1) in the first embodiment, and the lamination mask relevant to the present invention. 第一の実施形態によるマスクおよび本発明に関連した積層マスクを用いてレベル１のドット配置パターンのマスク処理をして記録するときのそれぞれ１回の走査で形成されるドットパターン（図１７、図２０）の周波数特性を説明する図である。A dot pattern formed by one scan each time the mask processing of the level 1 dot arrangement pattern is recorded using the mask according to the first embodiment and the laminated mask related to the present invention (FIG. 17, FIG. It is a figure explaining the frequency characteristic of 20). 本発明の第二の実施形態における、順次配置法による記録許容画素の配置決定処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the arrangement | positioning determination process of the printing permissible pixel by the sequential arrangement method in 2nd embodiment of this invention. 第二の実施形態における、各色のマスクパターン生成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the mask pattern production | generation of each color in 2nd embodiment. 第二の実施形態におけるドット配置パターンを示す図である。It is a figure which shows the dot arrangement pattern in 2nd embodiment. 第二の実施形態においてマスク生成の際に考慮するパターンを説明する図である。It is a figure explaining the pattern considered in the case of mask generation in 2nd embodiment. 第二の実施形態によるＣのマスクパターンを示す図である。It is a figure which shows the mask pattern of C by 2nd embodiment. 第二の実施形態によるＭのマスクパターンを示す図である。It is a figure which shows the mask pattern of M by 2nd embodiment. 第二の実施形態によるＹのマスクパターンを示す図である。It is a figure which shows the mask pattern of Y by 2nd embodiment. 第二の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＣ１とシアンのレベル１のドット配置との論理積ドットを示すパターンである。It is a pattern which shows the logical product dot of pattern consideration type lamination mask C1 and dot arrangement of cyan level 1 in a second embodiment. 第二の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＭ１とシアンのレベル１のドット配置との論理積ドットを示すパターンである。It is a pattern which shows the logical product dot of the pattern consideration type | mold laminated mask M1 and the dot arrangement | positioning of cyan level 1 in 2nd embodiment. 第二の実施形態における、パターン考慮型積層マスクＹ１とシアンのレベル１のドット配置との論理積ドットを示すパターンである。It is a pattern which shows the logical product dot of pattern consideration type lamination mask Y1 and dot arrangement of cyan level 1 in a second embodiment. 第二の実施形態２によるマスクを用いてドット配置パターンのマスク処理をして記録するときのそれぞれ１回の走査で形成されるドットパターン（マスクパターンとドット配置パターンの論理積によって得られる論理積パターン）の周波数特性を説明する図である。A dot pattern formed by a single scan when a mask of a dot arrangement pattern is printed using a mask according to the second embodiment (a logical product obtained by a logical product of a mask pattern and a dot arrangement pattern) It is a figure explaining the frequency characteristic of a pattern. （ａ）および（ｂ）は、本発明の第三の実施形態における、グラデーションマスクのノズル位置に対応させた記録率および２パス記録のマスクパターンを示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the mask pattern of the printing rate corresponding to the nozzle position of the gradation mask, and 2 pass printing in 3rd embodiment of this invention. （ａ）および（ｂ）は、本発明の第四の実施形態における、２パス１５０％均等マスクの各ノズルに対する記録比率および実際のマスクパターンを示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the printing ratio with respect to each nozzle of a 2-pass 150% uniform mask in the 4th Embodiment of this invention, and an actual mask pattern. 第四の実施形態にかかる、図３７（ｂ）に示すＣ１とＣ２の論理和を示す図である。It is a figure which shows the logical sum of C1 and C2 shown in FIG.37 (b) concerning 4th embodiment. 第四の実施形態における、図３７に示したマスクパターンと、本実施形態で用いたレベル１のドット配置パターンとの論理積のドット配置を示す図である。FIG. 38 is a diagram illustrating a logical dot arrangement of the mask pattern shown in FIG. 37 and the level 1 dot arrangement pattern used in the present embodiment in the fourth embodiment. （ａ）および（ｂ）は、本発明の第五の実施形態における、ドット配置パターンおよびその配列を説明する図である。(A) And (b) is a figure explaining the dot arrangement pattern and its arrangement in the fifth embodiment of the present invention. 第五の実施形態における、マスク生成の際に考慮するパターンを説明する図である。It is a figure explaining the pattern considered in the case of mask generation in 5th embodiment. 第五の実施形態によって作製した、クラスタサイズ２×２のマスクパターンを示す図である。It is a figure which shows the mask pattern of cluster size 2x2 produced by 5th embodiment. 第五の実施形態によって作製した図４２に示すマスクパターンを用いたときの、１回の走査で記録されるドットパターンを示す図である。It is a figure which shows the dot pattern recorded by one scan when the mask pattern shown in FIG. 42 produced by 5th embodiment is used.

符号の説明Explanation of symbols

３０００パーソナルコンピュータ（ＰＣ：ホストコンピュータ）
３００４プリンタ
Ｊ０００７ドット配置パターン化処理
Ｊ０００８マスクデータ変換処理
Ｊ０００９ヘッド駆動回路
Ｊ００１０記録ヘッド 3000 Personal computer (PC: Host computer)
3004 Printer J0007 Dot arrangement patterning process J0008 Mask data conversion process J0009 Head drive circuit J0010 Print head

Claims

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ）前記低周波数領域の半分より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。 To binary image data representing an image to be recorded on the same area of the recording medium, a masking process by a row Ukoto using a plurality of mask patterns corresponding to plural scans of the recording head relative to the same region, the A data processing apparatus for generating binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in each of a plurality of scans,
Dots used in binarization processing for generating data indicating print-acceptable pixels in a mask pattern corresponding to one scan other than the last scan of the plurality of scans and the binary image data A data processing apparatus, wherein characteristics of a logical product pattern obtained by logical product with data indicating recording dots in an arrangement pattern satisfy the following (a) and (b):
(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region .
(B) the absence of a peak of the frequency components in the region of from the low frequency half of the low frequency range.

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ）前記低周波数領域の１／４より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。 To binary image data representing an image to be recorded on the same area of the recording medium, a masking process by a row Ukoto using a plurality of mask patterns corresponding to plural scans of the recording head relative to the same region, the A data processing apparatus for generating binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in each of a plurality of scans,
Dots used in binarization processing for generating data indicating print-acceptable pixels in a mask pattern corresponding to one scan other than the last scan of the plurality of scans and the binary image data A data processing apparatus, wherein characteristics of a logical product pattern obtained by logical product with data indicating recording dots in an arrangement pattern satisfy the following (a) and (b):
(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region.
(B) there is no peak frequency components in the region of from 1/4 to the low frequency side of the low frequency range.

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ）前記低周波数領域において周波数成分のピークが存在しない。 To binary image data representing an image to be recorded on the same area of the recording medium, a masking process by a row Ukoto using a plurality of mask patterns corresponding to plural scans of the recording head relative to the same region, the A data processing apparatus for generating binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in each of a plurality of scans,
Dots used in binarization processing for generating data indicating print-acceptable pixels in a mask pattern corresponding to one scan other than the last scan of the plurality of scans and the binary image data A data processing apparatus, wherein characteristics of a logical product pattern obtained by logical product with data indicating recording dots in an arrangement pattern satisfy the following (a) and (b):
(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region.
(B) there is no peak frequency components in the low frequency range.

階調値を有する多値の画像データを２値の画像データに変換する２値化処理を行うための２値化手段と、
前記２値化手段により得られた２値の画像データから記録ヘッドの複数回の走査夫々で使用される２値の間引き画像データを生成するために、前記２値の画像データに対して前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うためのマスク処理手段と、を有し、
前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの１つの階調値に対応したドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、の論理積によって得られる論理積パターンの特性が下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。
（ｂ）前記低周波数領域の１／４より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。 Binarization means for performing binarization processing for converting multi-valued image data having gradation values into binary image data;
To generate the decimated image data for a plurality of times of 2 values used in scanning each of the binary recording head from image data obtained by said binarizing means, the plurality of the image data of the binary a mask processing unit for performing mask processing, the using a plurality of mask patterns corresponding to the times of the scanning,
And data indicating the print permitting pixels in a mask pattern corresponding to the first scan of the plurality of times of scanning, among the plurality of dot arrangement patterns corresponding to the plurality of tone values available in the binarization A data processing apparatus characterized in that the characteristics of a logical product pattern obtained by logical product of data indicating a recording dot in a dot arrangement pattern corresponding to one gradation value satisfy the following (a) and (b) .
(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region .
(B) there is no peak frequency components in the region of from 1/4 to the low frequency side of the low frequency range.

階調値を有する多値の画像データを２値の画像データに変換する２値化処理を行うための２値化手段と、 Binarization means for performing binarization processing for converting multi-valued image data having gradation values into binary image data;
前記２値化手段により得られた２値の画像データから記録ヘッドの複数回の走査夫々で使用される２値の間引き画像データを生成するために、前記２値の画像データに対して前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うためのマスク処理手段と、を有し、In order to generate binary thinned-out image data used in each of a plurality of scans of the recording head from the binary image data obtained by the binarization means, A mask processing means for performing mask processing using a plurality of mask patterns corresponding to a single scan,
前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうち１つの階調値に対応したドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、の論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。Of the plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to the plurality of gradation values usable in the binarization processing, the data indicating the print allowable pixels in the mask pattern corresponding to the first scan of the plurality of scans A data processing apparatus characterized in that the characteristics of the logical product pattern obtained by the logical product of the data indicating the recording dots in the dot arrangement pattern corresponding to one gradation value satisfy the following (a) and (b): .
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region.
（ｂ）前記低周波数領域の半分より低周波側にある領域において周波数成分のピークが存在しない。(B) There is no frequency component peak in the lower frequency region than half of the low frequency region.

階調値を有する多値の画像データを２値の画像データに変換する２値化処理を行うための２値化手段と、Binarization means for performing binarization processing for converting multi-valued image data having gradation values into binary image data;
前記２値化手段により得られた２値の画像データから記録ヘッドの複数回の走査夫々で使用される２値の間引き画像データを生成するために、前記２値の画像データに対して前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うためのマスク処理手段と、を有し、In order to generate binary thinned-out image data used in each of a plurality of scans of the recording head from the binary image data obtained by the binarization means, A mask processing means for performing mask processing using a plurality of mask patterns corresponding to a single scan,
前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうち１つの階調値に対応したドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、の論理積によって得られる論理積パターンの特性が、下記（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とするデータ処理装置。Of the plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to the plurality of gradation values usable in the binarization processing, the data indicating the print allowable pixels in the mask pattern corresponding to the first scan of the plurality of scans A data processing apparatus characterized in that the characteristics of a logical product pattern obtained by the logical product of data indicating a recording dot in a dot arrangement pattern corresponding to one gradation value satisfy the following (a) and (b): .
（ａ）前記論理積パターンにおける低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少ない。(A) The frequency component in the low frequency region in the logical product pattern is less than the frequency component in the high frequency region.
（ｂ）前記低周波数領域において周波数成分のピークが存在しない。(B) There is no frequency component peak in the low frequency region.

前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素の配置は、前記ドット配置パターンに基づき定められたものであることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のデータ処理装置。 The arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern corresponding to the first scan among the plurality of scans is determined based on the dot arrangement pattern. The data processing apparatus described .

前記最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素の配置は、前記複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンに基づき定められたものであることを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載のデータ処理装置。 7. The print permitting pixel arrangement in the mask pattern corresponding to the first scan is determined based on a plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to the plurality of gradation values. A data processing apparatus according to any one of the above .

前記最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素の配置は、前記複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンに基づいて求められる計算用ドットパターンであってドット配置が相互に排他の関係にある複数の計算用ドットパターンそれぞれのドットの配置に基づいて定められたものであることを特徴とする請求項８に記載のデータ処理装置。 The arrangement of the printable pixels in the mask pattern corresponding to the first scan is a calculation dot pattern obtained based on the plurality of dot arrangement patterns corresponding to the plurality of gradation values, and the dot arrangement is mutually exclusive. 9. The data processing apparatus according to claim 8 , wherein the data processing apparatus is determined based on a dot arrangement of each of a plurality of dot patterns for calculation having the relationship.

前記記録ヘッドは、前記走査の方向と交差する方向に配列された、同じ色のインクを吐出するための複数の記録素子を有し、
前記マスクパターンは、前記走査の方向および前記記録素子の配列方向の２次元に配列される記録許容画素と非記録許容画素を有し、
前記複数の記録素子のうちの端部の記録素子に対応した２値の画像データをマスク処理するのに使用されるマスクパターンを構成する記録許容画素の割合は、前記複数の記録素子のうちの中央部の記録素子に対応した２値の画像データのマスク処理に使用されるマスクパターンを構成する記録許容画素の割合よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のデータ処理装置。 The recording head has a plurality of recording elements arranged in a direction crossing the scanning direction for discharging ink of the same color,
The mask pattern has a print-allowed pixel and a non-print-allowed pixel that are two-dimensionally arranged in the scanning direction and the array direction of the printing elements,
The ratio of the print allowable pixels constituting the mask pattern used for masking the binary image data corresponding to the printing element at the end of the plurality of printing elements is the ratio of the plurality of printing elements. 10. The data according to claim 1, wherein the data is smaller than a ratio of recording allowable pixels constituting a mask pattern used for masking binary image data corresponding to a central recording element. Processing equipment .

前記マスクパターンは、ｍ×ｎ画素を１単位として前記記録許容画素が配置されたものであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載のデータ処理装置。 The mask pattern data processing apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein the print permitting pixels m × n pixels as a unit is one that was placed.

前記マスク処理手段は、前記複数のマスクパターンの夫々と前記２値の画像データとの論理積を行って前記複数回の走査夫々で用いられる２値の間引き画像データを生成することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載のデータ処理装置。 It said masking means includes a generating means generates a thinned binary image data that is used by people said plurality of scans husband performs logical product of the image data of each said binary of said plurality of mask patterns the data processing apparatus according to any one of claims 1 to 11.

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対し、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うことにより、前記複数回の走査夫々で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するデータ処理装置であって、The binary image data representing an image to be recorded in the same area of the recording medium is subjected to mask processing using a plurality of mask patterns corresponding to a plurality of scans of the recording head with respect to the same area. A data processing device for generating binary thinned image data representing a thinned image to be recorded in each of the scans,
前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用されるドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータとの論理積によって得られる論理積パターンの特性の低周波数領域の周波数成分が高周波数領域の周波数成分より少なく、Dots used in binarization processing for generating data indicating print-acceptable pixels in a mask pattern corresponding to one scan other than the last scan of the plurality of scans and the binary image data The frequency component of the low frequency region of the characteristic of the logical product pattern obtained by the logical product with the data indicating the recording dots in the arrangement pattern is less than the frequency component of the high frequency region,
前記最終の走査以外の１回の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素の配置は、前記ドット配置パターンに基づき定められたものであることを特徴とするデータ処理装置。The data processing device according to claim 1, wherein the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern corresponding to one scan other than the last scan is determined based on the dot arrangement pattern.

階調値を有する多値の画像データを２値の画像データに変換する２値化処理を行うための２値化手段と、Binarization means for performing binarization processing for converting multi-valued image data having gradation values into binary image data;
前記２値化手段により得られた２値の画像データから記録ヘッドの複数回の走査夫々で使用される２値の間引き画像データを生成するために、前記２値の画像データに対して前記複数回の走査に対応した複数のマスクパターンを用いてマスク処理を行うためのマスク処理手段とを有し、In order to generate binary thinned-out image data used in each of a plurality of scans of the recording head from the binary image data obtained by the binarization means, A mask processing means for performing mask processing using a plurality of mask patterns corresponding to a single scan,
前記複数回の走査のうちの最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの１つの階調値に対応したドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、の論理積によって得られる論理積パターンの低周波数領域の周波数成分は高周波数領域の周波数成分より少なく、Of the plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to the plurality of gradation values usable in the binarization processing, the data indicating the print allowable pixels in the mask pattern corresponding to the first scan of the plurality of scans The frequency component of the low frequency region of the logical product pattern obtained by the logical product of the data indicating the recording dot in the dot arrangement pattern corresponding to one gradation value of the number is smaller than the frequency component of the high frequency region,
前記最初の走査に対応したマスクパターンにおける記録許容画素の配置は、前記ドット配置パターンに基づき定められたものであることを特徴とするデータ処理装置。The data processing apparatus according to claim 1, wherein the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern corresponding to the first scan is determined based on the dot arrangement pattern.

コンピュータを、請求項１乃至１４のいずれかに記載のデータ処理装置として機能させるこことを特徴とするプログラム。A program that causes a computer to function as the data processing device according to any one of claims 1 to 14.

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データから前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査のうちの１回の走査で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するために用いられるマスクパターンの製造方法であって、
前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、
前記決定工程は、前記マスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調レベルに対応した複数のドット配置パターンに基づき定められるドットの配置を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のドット配置パターンに基づいて前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる変化工程を含むことを特徴とするマスクパターン製造方法。 Binary thinned-out image data representing a thinned image to be recorded in one scan out of a plurality of scans of the print head for the same region from binary image data representing an image to be recorded in the same region of the recording medium A method of manufacturing a mask pattern used to generate
A determination step for determining an arrangement of the print-allowed pixels in the mask pattern;
It said determining step includes a data indicating the print permitting pixels in the mask pattern, a plurality of dot arrangement patterns corresponding to the plurality of gray levels available in the binarization processing for generating image data of the binary and data showing the arrangement of determined based dots, so that the low frequency components of the logical product patterns obtained by the logical product is reduced, and changes the arrangement of the print permitting pixels in the mask pattern based on the plurality of dot arrangement patterns mask pattern manufacturing method characterized by comprising the change step of Ru is.

前記決定工程は、前記記録許容画素の配置と、前記複数のドット配置パターンに基づいて求められる計算用ドットパターンであってドット配置が相互に排他の関係にある複数の計算用ドットパターンそれぞれのドットの配置と、に基づいて斥力ポテンシャルを計算し、当該斥力ポテンシャルの合計である総ポテンシャルを計算する計算工程を更に有し、
前記変化工程では、前記計算工程で求められた総ポテンシャルが低下するように、前記記録許容画素の配置を変化させることを特徴とする請求項１６に記載のマスクパターン製造方法。 The determination step includes calculating dot patterns obtained based on the arrangement of the print-allowable pixels and the plurality of dot arrangement patterns, and each dot of the plurality of calculation dot patterns in which the dot arrangement is mutually exclusive. And calculating a repulsive potential based on the arrangement, and calculating a total potential that is a sum of the repulsive potentials ,
The mask pattern manufacturing method according to claim 16, wherein in the changing step, the arrangement of the print-allowed pixels is changed so that the total potential obtained in the calculating step is lowered .

記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データから前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査のうちの１回の走査で記録すべき間引き画像を表す２値の間引き画像データを生成するために用いられるマスクパターンの製造方法であって、
前記２値の画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調レベルに対応した複数のドット配置パターンに基づいて、前記マスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、
前記決定工程は、前記記録許容画素の配置を第１の配置に定める第１工程と、前記記録許容画素の配置パターンにおける低周波数成分が少なくなるように、前記複数のドット配置パターンに基づいて前記記録許容画素の配置を前記第１の配置から第２の配置に変化させる第２工程と、を含むことを特徴とするマスクパターン製造方法。 Binary thinned-out image data representing a thinned image to be recorded in one scan out of a plurality of scans of the print head for the same region from binary image data representing an image to be recorded in the same region of the recording medium A method of manufacturing a mask pattern used to generate
A determination step of determining an arrangement of print permitting pixels in the mask pattern based on a plurality of dot arrangement patterns corresponding to a plurality of gradation levels usable in the binarization process for generating the binary image data; Have
The determining step includes the first step of determining the arrangement of the print permitting pixels in the first arrangement, and the plurality of dot arrangement patterns based on the plurality of dot arrangement patterns so that low frequency components in the arrangement pattern of the print permitting pixels are reduced. And a second step of changing the arrangement of the print permitting pixels from the first arrangement to the second arrangement .

マスクパターンの製造方法であって、A mask pattern manufacturing method comprising:
第１の色のインクを吐出するための第１のノズル群によって記録媒体の同一領域に記録されるべき画像を表す第１の２値画像データから前記同一領域に対する第１のノズル群の複数回の走査のうちの１回の走査で記録されるべき間引き画像を表す２値間引き画像データを生成するために用いられる第１のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める第１決定工程と、From the first binary image data representing the image to be recorded in the same area of the recording medium by the first nozzle group for ejecting the first color ink, the first nozzle group for the same area a plurality of times. A first determination step for determining an arrangement of print permitting pixels in a first mask pattern used for generating binary thinned image data representing a thinned image to be printed in one of the scans;
前記第１の色とは異なる第２の色のインクを吐出するための第２のノズル群によって記録媒体の同一領域に記録されるべき画像を表す第２の２値画像データから前記同一領域に対する前記第２のノズル群の複数回の走査のうちの１回の走査で記録されるべき間引き画像を表す２値間引き画像データを生成するために用いられる第２のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める第２決定工程とを有し、The second binary image data representing the image to be recorded in the same area of the recording medium by the second nozzle group for ejecting the ink of the second color different from the first color is applied to the same area. Arrangement of print-allowable pixels in the second mask pattern used to generate binary thinned image data representing a thinned image to be printed in one of the plurality of scans of the second nozzle group A second determining step for determining
前記第１決定工程は、前記第１の２値画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの１つの階調値に対応した第１のドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、前記第１のマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記第１のドット配置パターンおよび前記第２のマスクパターンに基づいて前記第１のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含み、The first determination step includes one gradation value among a plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to a plurality of gradation values that can be used in the binarization process for generating the first binary image data. The low frequency component of the logical product pattern obtained by the logical product of the data indicating the recording dots in the first dot arrangement pattern corresponding to the above and the data indicating the recording allowable pixels in the first mask pattern is reduced. And changing the arrangement of print permitting pixels in the first mask pattern based on the first dot arrangement pattern and the second mask pattern,
前記第２決定工程は、前記第２の２値画像データを生成するための２値化処理で使用可能な複数の階調値にそれぞれ対応する複数のドット配置パターンのうちの第２のドット配置パターンにおける記録ドットを示すデータと、前記第２のマスクパターンにおける記録許容画素を示すデータと、の論理積により得られる論理積パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記第２のドット配置パターンおよび前記第１のマスクパターンに基づいて前記第２のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むIn the second determination step, a second dot arrangement among a plurality of dot arrangement patterns respectively corresponding to a plurality of gradation values that can be used in the binarization process for generating the second binary image data. The second dot arrangement pattern so that the low-frequency component of the logical product pattern obtained by the logical product of the data indicating the recording dot in the pattern and the data indicating the recording allowable pixel in the second mask pattern is reduced. And a step of changing an arrangement of print permitting pixels in the second mask pattern based on the first mask pattern.
ことを特徴とするマスクパターン製造方法。The mask pattern manufacturing method characterized by the above-mentioned.

前記複数回の走査のうちの１回の走査は、前記複数回の走査のうちの最終の走査以外の１回の走査であることを特徴とする請求項１６乃至１９のいずれかに記載のマスクパターン製造方法。 20. The mask according to claim 16, wherein one of the plurality of scans is one scan other than the last scan of the plurality of scans. Pattern manufacturing method .

前記複数回の走査のうちの１回の走査は、前記複数回の走査のうちの最初の走査であることを特徴とする請求項１６乃至１９いずれかに記載のマスクパターン製造方法。The mask pattern manufacturing method according to claim 16, wherein one of the plurality of scans is a first scan of the plurality of scans.

請求項１６乃至２１のいずれかに記載のマスクパターン製造方法によって製造されたマスクパターンを用いて、記録媒体の同一領域に記録すべき画像を表す２値の画像データに対しマスク処理を行うことにより、前記同一領域に対する記録ヘッドの複数回の走査のうちの１回の走査で記録されるべき間引き画像を表す２値間引き画像データを生成可能な生成手段を備えることを特徴とするデータ処理装置。A mask process is performed on binary image data representing an image to be recorded in the same area of a recording medium, using the mask pattern manufactured by the mask pattern manufacturing method according to claim 16. A data processing apparatus comprising: generating means capable of generating binary thinned image data representing a thinned image to be printed in one of a plurality of scans of the print head for the same region.