JP4564768B2 - パターン検査方法及びその装置 - Google Patents
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Description
図6〜図9によりダイ比較による欠陥検査を説明する。図6には、4つのプロセッサPE0〜PE3(621〜624)までの構成を示す。各プロセッサはCPUとメモリを内臓している。特にメモリの一部には切出された画像データを格納する領域が存在する。本実施例での画像メモリ構成は図7に示すように4バンクのリングバッファ方式をとる。例えば、現在nチップ目の処理が実行中の場合、それ以前のn-1、n-2、n-3のチップ画像データが格納されているように制御する。図6に戻って、メモリ上の4バンクについて、その中身は各プロセッサに有り当てられた切出し画像データが格納されている。例えば、D1はPE0に、D2はPE1に、D3はPE2に、D4はPE3に、D5はPE0に、D6はPE1に、D7はPE2に、D8はPE3に…というように配置される。
図10〜図12によりセル比較による欠陥検査を説明する。図10は4つのプロセッサPE0〜PE3(621〜624)までの構成を示す。各プロセッサはCPUとメモリを内臓している。特にメモリの一部には切出された画像データを格納する領域が存在する。画像データ領域には各プロセッサに有り当てられた切出し画像データが格納される。例えば、D1はPE0に、D2はPE1に、D3はPE2に、D4はPE3に、D5はPE0に、D6はPE1に、D7はPE2に、D8はPE3に…というように格納される。セル比較は後述するように基本画像データ単位の情報から検査を実施するのでそのとき対象の画像データだけを格納しておけばよい。例えば、PE0の画像データD1の処理が完了し、続いて処理するD5の画像データが転送される際、D1データの上書きを行ってもよい。
図13〜図14によりセルダイ混合比較による欠陥検査を説明する。セルダイ混合比較検査をする場合、各プロセッサの処理量は増加するのでPE0〜PE7までの8プロセッサ構成とする。既に説明した図6の拡張方式であり4バック方式でPE数だけ増やした構成であるため図面は省略する。メモリ上の4バンクについて、その中身は各プロセッサに割当てられた切出し画像データが格納されている。例えば、D1はPE0に、D2はPE1に、D3はPE2に、D4はPE3に、D5はPE4に、D6はPE5に、D7はPE6に、D8はPE7に、D9はPE0に…というように配置される。
103…全体制御コンピュータ 104〜107…チャンネルごとの画像処理
108…チャンネル分割 301…連続画像データ 302…切り出し画像データ
501〜504…ラインポインタ格納メモリ 505〜508…比較回路
509…切出し幅設定メモリ 520〜523…切出し回路
530…ラインカウンタ 601〜604…各PEごとのCPU
611〜614…各PEごとのメモリ 621〜624…各PE(0)〜(3)
801,802…連続画像データ 1101、1102,1103…連続画像データ
1105,1106…切出し画像データ 1301〜1302…連続画像データ
1503〜1504…切出し画像データ 1701…ステージ 1702…ウエーハ1703…センサ 1704…AD回路 1705…画像処理装置
1706…全体制御コンピュータ 1901…ダイ比較機 1902…セル比較機
1903…センサ 1904…AD回路 1905…チップ遅延回路
1906…位置補正、明るさ補正回路 1907…差画像演算器
1908…特徴量演算器 1909…全体制御コンピュータ
1910…セル遅延回路 1911…位置補正、明るさ補正回路
1912…差画像演算器 1913…特徴量演算器 2001…入力
2002…分配 2004…出力 2101…連続画像データ 2201…欠陥
2401…電子線源 2402…電子線 2403…偏向器
2404…対物レンズ 2405…対象物基板 2406…ステージ
2411…パターン欠陥 2601…マップ 2602…指定欠陥
2603…欠陥情報表示領域 2604…画像表示領域 2801…理想パターン
Claims (1)
- 表面に繰返しパターン部と非繰返しパターン部とを有するチップが複数形成された試料を載置して少なくとも一方向に連続的に移動可能なステージ手段と、
前記ステージ手段が一方向に連続的に移動しているときに該ステージ手段に載置した前記試料を撮像して前記試料のデジタル画像を出力する撮像手段と、
前記撮像手段から出力されたデジタル画像を処理して前記試料表面のパターンの欠陥を検出する画像処理手段と、
前記ステージ手段と前記撮像手段と前記画像処理手段とを制御する制御手段と
を備えたパターン検査装置であって、
前記画像処理手段は、分割回路部と複数のプロセッサエレメントを有する複数の処理部と、前記撮像手段から出力されたデジタル画像を前記複数の処理に分配する分割部とを有し、
前記分割部は、前記撮像手段から出力されたデジタル画像を互いに一部重複させた状態で複数の連続したデジタル画像に分割して前記複数の処理部に分配し、
前記複数の処理部では、それぞれ前記分配された連続したデジタル画像を前記分割回路部が互いに演算処理オーバラップ分とセルピッチサイズ分を重複させた状態で互いに均一に複数に分割して、前記複数のプロセッサエレメント各々が、前記分割回路部で均一に分割されたデジタル画像の前記試料上の位置情報に基づいて前記繰返しパターン部に対してのセル比較と非繰返しパターン部に対してのダイ比較とのセルダイ混合比較をしつつ、互いに並列に処理することにより欠陥を検出することを特徴とするパターン検査装置。
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