JP4559306B2 - 光ディスクの製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、信号層が2層の高密度記録対応の光ディスクを高い品質で製造できる光ディスク製造装置を提供することを課題としている。
この光ディスク製造装置200は、図1に示すように、一点鎖線で分けられる二つの機構部200Aと機構部200Bとからなる。信号層が1層の光ディスクを製造するときには、機構部200Aのみを動作させ、機構部200Bは動作させない。そして、信号層が2層の光ディスクを製造するときには、二つの機構部200Aと機構部200Bとを動作させる。信号層が2層の高密度記録対応の光ディスクを製造するときの機構部200Aと200Bとについて説明する。なお、信号層が1層の光ディスクの製造については説明を省略する。したがって、図面の各部材を示す記号の説明が順不同となることがある。
3・・・ディスク基板取り出し機構
5・・・冷却機構
7・・・移載機構
9・・・エージング機構
11・・・間欠回転機構
13・・・表裏反転手段
15・・・移載機構
17・・・第1の搬送機構の搬送ライン
19・・・成膜装置
20・・・ディスク蓄積部
21・・・ディスク積載用回転テーブル
23・・・移載機構
25・・・スペーサ供給機構
27・・・移載機構
29・・・第2の搬送機構の第1の搬送ライン
31・・・光透過層形成部
33・・・同時移載機構
35・・・液体供給機構
37・・・回転処理装置
39・・・移載機構
41・・・キャップ蓄積機構
42・・・キャップ洗浄機構
43、45・・・同時移載機構
47、49・・・回転処理装置
51、53・・・マスク機構
53・・・共通固定部材
55・・・硬化光照射装置
57・・・硬化光照射装置
59・・・ディスク蓄積部
61・・・第2の搬送機構の第2の搬送ライン
63・・・移載機構
65・・・液状物質供給機構
67・・・回転処理部
69・・・同時移載機構
71・・・回転処理装置
73・・・硬化光照射装置
75・・・移載機構
77・・・ターンテーブル機構
79・・・表裏反転機構
81・・・成膜装置
83・・・中継台
85・・・移載機構
87・・・検査部
89・・・中継台
91・・・移載機構
93・・・良品用積載機構
95・・・不良品用積載機構
96・・・スペーサ蓄積部
97・・・同時移載機構
101・・・射出成形機
103・・・ディスク取り出し機構
105・・・冷却機構
107・・・移載機構
109・・・エージング機構
111・・・間欠回転機構
113・・・表裏反転機構
115・・・移載機構
117・・・転写用搬送機構の搬送ライン
119・・・光透過転写層形成部
121・・・同時移載機構
123・・・移載機構
125・・・液体供給機構
127・・・移載機構
129・・・キャップ蓄積機構
131・・・キャップ洗浄機構
133・・・移載機構
135・・・ターンテーブル機構
137・・・第3の搬送機構の搬送ライン
139・・・液状物質供給機構
141・・・回転処理部
143・・・同時移載機構
145・・・回転処理装置
147・・・移載機構
149・・・硬化光照射装置
151・・・移載機構
153・・・表裏反転機構
155・・・載置台
157・・・移載機構
159・・・ターンテーブル機構
161・・・真空貼り合せ装置
163・・・移載機構
165・・・ターンテーブル機構
167・・・硬化光照射装置
169・・・表裏反転機構
171・・・剥離機構
173、175・・・同時移載機構
177、179・・・剥離装置
181、183・・・転写用ディスク除去機構
Ma・・・マスク部材
D・・・ディスク基板
T・・・転写用ディスク基板
Claims (5)
- ディスク基板に形成されている第1の信号層とその上に形成された第1の反射膜とその上に形成された第1の光透過層とを有する前記ディスク基板の前記第1の光透過層と、転写される第2の信号層を有する転写用ディスク基板の前記第2の信号層の上に形成された光透過転写層とを貼り合せ、前記ディスク基板に転写された第2の信号層の上に第2の反射膜を形成し、該第2の反射膜の上に第2の光透過層を形成する光ディスクの製造装置であって、
前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上に第1の液状物質を供給する第1の液状物質供給装置と、
前記ディスク基板を高速回転させ、遠心力を与えて前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上の前記第1の液状物質を展延して透明な前記第1の光透過層を形成する第1の回転処理装置と、
前記転写用ディスク基板の前記第2の信号層の上に第2の液状物質を供給する第2の液状物質供給装置と、
前記転写用ディスク基板を高速回転させ、遠心力を与えて前記転写用ディスク基板の前記第2の信号層の上の前記第2の液状物質を展延して透明な前記光透過転写層を形成する第2の回転処理装置と、
硬化光を実質的に透過しない光遮蔽材料からなり、かつ前記ディスク基板又は前記転写用ディスク基板の外周部に相当する面域を覆うことができる環状のマスク部材と、
前記ディスク基板又は前記転写用ディスク基板に前記硬化光を照射する硬化光照射装置であって、前記マスク部材の内径に囲まれる内径空部を通して前記硬化光を照射し、前記内径空部に位置する前記第1の光透過層又は前記光透過転写層を半硬化又は硬化させ、前記第1の光透過層又は前記光透過転写層の前記内径空部よりも外側の前記外周部を硬化させない第1の硬化光照射装置と、
前記内径空部よりも外側の前記外周部が硬化していない前記第1の光透過層と前記光透過転写層とを向き合わせて、前記ディスク基板と前記転写用ディスク基板とを重ね合せる前記貼り合せ機構と、
貼り合された前記ディスク基板と前記転写用ディスク基板との両面側から又は片面側から前記第1の光透過層と前記光透過転写層との全域を硬化させる第2の硬化光照射装置と、
前記ディスク基板から前記転写用ディスク基板を剥離して前記ディスク基板に前記光透過転写層を転写し、前記第2の信号層を前記ディスク基板に形成する剥離装置と、
を備えることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 請求項1において、
前記ディスク基板と前記転写用ディスク基板とを交互に載置する複数の載置部を有するターンテーブル機構を備え、これら載置部は硬化光を透過する材料からなり、前記載置部には前記マスク部材が備えられ、前記ディスク基板又は前記転写用ディスク基板の外周部が前記マスク部材に支承されていることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 請求項1又は請求項2において、
前記ディスク基板の前記第1の光透過層と前記転写用ディスク基板の前記光透過転写層との貼り合せは、真空中において前記第1の光透過層と前記光透過転写層とを重ね合わせて行われることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかにおいて、
前記ディスク基板の前記第1の光透過層と前記転写用ディスク基板の前記光透過転写層とを設定距離隔てて対向保持する保持機構を備え、前記ディスク基板の前記第1の光透過層と前記転写用ディスク基板の前記光透過転写層とを重ね合わせ、貼り合せることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 第1の信号層を有するディスク基板を形成する工程と、
前記第1の信号層の上に第1の反射膜を形成する工程と、
前記第1の反射膜の上に前記第1の液状物質を供給し、前記ディスク基板を高速回転させることにより前記第1の液状物質を展延して透明な第1の光透過層を形成する工程と、
前記ディスク基板に転写される第2の信号層を有する転写用ディスク基板を形成する工程と、
前記第2の信号層の上に第2の液状物質を供給し、前記転写用ディスク基板を高速回転させることにより前記第2の液状物質を展延して透明な光透過転写層を前記転写用ディスク基板に形成する工程と、
前記第1の光透過層又は前記光透過転写層の外周部を除いて硬化光を前記光透過転写層に照射し、前記第1の光透過層又は前記光透過転写層の前記外周部を除いて半硬化又は硬化させる工程と、
前記外周部が硬化していない前記第1の光透過層と前記光透過転写層とを向き合わせて重ね合せ、前記ディスク基板に前記転写用ディスク基板を貼り合わせる工程と、
貼り合された前記ディスク基板と前記転写用ディスク基板との両面側から又は片面側から硬化光を照射して前記第1の光透過層と前記光透過転写層の全域を硬化させる工程と、
前記転写用ディスク基板を前記ディスク基板から剥離して、前記光透過転写層を前記ディスク基板に転写し、前記ディスク基板に前記第2の信号層を形成する工程と、
前記第2の信号層の上に第2の反射膜を形成する工程と、
前記第2の反射膜の上に第2の光透過層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする光ディスクの製造方法。
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