JP4545907B2 - 化合物半導体装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、化合物半導体装置に関し、より詳しくは、ＭＥＳＦＥＴ(Metal-Semiconductor FET) を有する化合物半導体装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話基地局用パワーアンプは、近年、電源電圧の向上とパワー特性の向上の要求が高くなり、パワーアンプに使用されるトランジスタは高耐圧化が必須となる。
しかし、GaAsチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、電界集中によりGaAsチャネル層が破壊され易いために電源電圧の向上に対応することが難しく、パワーアンプには不向きとなってきている。
【０００３】
そこで、ＭＥＳＦＥＴの高耐圧化が望まれることになる。
ＭＥＳＦＥＴの破壊耐圧を向上するために、図１に示すように、チャネル層をGaAsからInGaP に変えた構造のものがある。
図１において、半絶縁性のGaAs基板101 上にはAlGaAsよりなるバッファ層102 が形成され、さらにバッファ層102 の上にはｎ型In0.52Ga0.48P よりなるチャネル層103 とアンドープAlGaAsよりなる障壁層104 が順に形成されている。
【０００４】
また、障壁層104 の上には、アンドープのGaAs層よりなるコンタクト層105 が形成されている。そのコンタクト層105 には障壁層104 を露出する開口105aが形成され、その開口105aを通して障壁層104 にゲート電極106 が接続されている。
ゲート電極106 と障壁層104 はショットキー接合される。
さらに、ゲート電極106 の両側では、コンタクト層105 にソース電極107 とドレイン電極108 が接続されている。コンタクト層105 のうちのソース電極107 とドレイン電極108 の下には高濃度でｎ型不純物がイオン注入されており、これによりソース電極107 とドレイン電極108 はそれぞれキャップ層105 と抵抗（オーミック）接触している。
【０００５】
以上のようなInGaP チャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、GaAsチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴに比べて破壊耐圧が２〜３倍程度高くなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、チャネル層がInGaP から構成されたＭＥＳＦＥＴは、従来に比べて、破壊耐圧が高いが、チャネル層103 中の移動度は低いので、抵抗が高く、相互コンダクタンス（ｇm ）が低い。これにより、利得が従来よりも低くなってしまい、破壊耐圧の向上という利点が生かせない。
【０００７】
本発明の目的は、従来よりも利得が高くなるトランジスタを有する化合物半導体装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記した課題は、ＭＥＳＦＥＴのチャネル層をInGaPSb から構成することによって解決される。
InGaPSb から構成されたチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、従来のＭＥＳＦＥＴに比べ、浅い閾値電圧で低いシート抵抗とすることができるために、破壊耐圧を下げることなく相互コンダクタンスや利得を大きくすることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図２は、本発明の実施形態に係るＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
図２において、半絶縁性のGaAs基板１上にはアンドープAl0.3Ga0.7Asよりなるバッファ層２が例えば３００ｎｍの厚さに形成され、さらにバッファ層２の上にはｎ型のInx Ga1-x P y Sb1-y （但し、０．３＜ｘ＜０．７、０．９＜ｙ＜０．９９９９９９）よりなるチャネル層３が例えば１５０ｎｍの厚さに形成されている。このチャネル層３の中には、濃度１．５×１０17cm-3のシリコンが含有されている。
【００１０】
チャネル層３上には、アンドープAl0.3Ga0.7Asよりなるショットキー障壁層４が例えば２０ｎｍの厚さに形成されている。さらに、ショットキー障壁層４の上には、アンドープGaAs又はｎ型GaAsよりなるコンタクト層５が形成されている。そのコンタクト層５には、ショットキー障壁層４を露出する開口５ａが形成され、その開口５ａを通してショットキー障壁層４にゲート電極６が接続されている。ゲート電極６とショットキー障壁層４は、ショットキー接合される。ゲート電極６は、タングステン膜、タングステンシリサイド膜、アルミニウム膜等から形成される。
【００１１】
さらに、ゲート電極６の両側においては、コンタクト層５にシリコンをイオン注入することによりオーミックコンタクト領域が形成され、その上にソース電極７とドレイン電極８がそれぞれオーミック接合されている。ソース電極７，ドレイン電極８は、例えば金膜から形成される。
上記したバッファ層２からコンタクト層５までの各層は、例えばＭＯＣＶＤ法によって形成される。そして、III 族元素のガリウム（Ga）、インジウム（In）、アルミニウム（Al）、アンチモン（Sb）と、Ｖ族元素の砒素（As）、リン（P)のそれぞれのソースガスとして例えば次のようなものが使用される。
【００１２】
例えば、ガリウムのソースガスとしてトリメチルガリウム（ＴＭＧ）又はトリエチルガリウム（ＴＥＧ）があり、アルミニウムのソースガスとしてトリメチルアルミニウム（ＴＭAl）があり、インジウムのソースガスとしてトリメチルインジウム（ＴＭＩ）があり、アンチモンのソースガスとしてトリメチルアンチモン（ＴＭSb）がある。また、砒素のソースガスとしてアルシン（AsH3）があり、リンのガスとしてホスフィン（PH3)がある。また、ｎ型ドーパント用のガスとしてジシラン（Si2H6 ）が使用される。
【００１３】
各III-Ｖ族半導体層２〜５までを成長する成長炉として、減圧横型ＣＶＤ炉を使用する。そして、その減圧横型ＣＶＤ炉を使用してIII-Ｖ族半導体層２〜５を形成するためには、成長温度を例えば６００〜７５０℃に設定し、成長雰囲気を減圧して７６Torr程度の圧力となるように調整する。
なお、GaAs基板１は、（１００）から２度オフした面を有し、その面の上にバッファ層２等が形成される。
【００１４】
次に、図２に示した本実施形態のＭＥＳＦＥＴの構造において、GaAs基板１上にInGaPSb チャネル層３までを成長して、チャネル層３のキャリア濃度プロファイルを評価したところ、図３の実線に示す結果が得られた。この実験で使用したチャネル層３を構成するInx Ga1-x P y Sb1-y の組成比ｘ、ｙは、それぞれｘ＝０．５２、ｙ＝０．９９９９９９である。図３のInGaPSb チャネル層３のキャリア濃度プロファイルは、破線で示した従来のInGaP チャネルの構造のキャリア濃度プロファイルと比較して示されている。従来のInGaP チャネル層の場合は、Al0.3Ga0.7Asバッファ層との界面にキャリアの蓄積が見られる。これに対して、InGaPSb チャネル層３の場合は、キャリアの蓄積が見られない。
【００１５】
それらのキャリア濃度プロファイルの差は、得られるデバイスの閾値電圧の差として現れる。チャネル層としてInGaPSb を用いた場合は閾値電圧が−２．５Ｖであるが、チャネル層としてInGaP を用いた場合は−５．７Ｖと深くなる。
図４は、図１、図２の構造におけるシート抵抗とデバイスの閾値電圧の関係を示す。同じシート抵抗では、InGaPSb チャネル層３の方がInGaP チャネル層103 よりも閾値電圧が１Ｖ浅い。この結果、同じ電流駆動能力を有するＭＥＳＦＥＴにおいて、相互コンダクタンスｇm が異なることになる。それらの相互コンダクタンスの差を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】
表１によれば、InGaP チャネル層103 と比較して、InGaPSb チャネル層３を採用することにより同じ耐圧を維持しながら相互コンダクタンスｇm を４０％向上することができた。
なお、上記した実施形態における障壁層４上にコンタクト層５を形成せずに、障壁層４上にソース電極７とドレイン電極８を形成してもよい。また、上記実施形態では、ｎ型不純物としてシリコンを用いたがセレンを用いてもよい。
（付記１）基板の上に不純物がドープされて形成されたInx Ga1-x P y Sb1-y （但し０．３＜ｘ＜０．７、０．９＜ｙ＜０．９９９９９９）よりなるチャネル層と、 前記チャネル層上に形成された障壁層と、
前記障壁層上に形成されたゲート電極と、
前記障壁層の上であってゲート電極の両側に離れて形成されたソース電極とドレイン電極と
を有するＭＥＳＦＥＴを備えたことを特徴とする化合物半導体装置。
（付記２）前記基板はGaAs基板であることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記３）前記基板と前記チャネル層の間にはAlGaAsからなるバッファ層が形成されていることを特徴とする付記１、付記２のいずれかに記載の化合物半導体装置。
（付記４）前記障壁層はアンドープAlGaAs層であることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記５）前記AlGaAs層において、Gaの組成はAlの組成より多いことを特徴とする付記４に記載の化合物半導体装置。
（付記６）前記ソース電極と前記障壁層の間と、前記ドレイン電極と前記障壁層の間には、コンタクト層が形成されていることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記７）前記コンタクト層は、不純物がドープされたGaAsから構成されていることを特徴とする付記６に記載の化合物半導体装置。
（付記８）前記不純物は、シリコン、セレンのいずれかであることを特徴とする付記１又は付記７に記載の化合物半導体装置。
【００１８】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、ＭＥＳＦＥＴのチャネル層をInGaPSb から形成したので、相互コンダクタンスを従来よりも高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴと従来のＭＥＳＦＥＴのそれぞれのチャネル層のキャリア濃度プロファイルを示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴと従来のＭＥＳＦＥＴのそれぞれのシート抵抗と閾値電圧（Ｖth）の関係を示す図である。
【符号の説明】
１…GaAs基板、２…バッファ層、３…InGaPSb チャネル層、４…障壁層、５…コンタクト層、６…ゲート電極、７…ソース電極、８…ドレイン電極、１０１…がｈ基板、１０２…バッファ層、１０３…InGaP チャネル層、１０４…障壁層、１０５…コンタクト層、１０６…ゲート電極、１０７…ソース電極、１０８…ドレイン電極。
【発明の属する技術分野】
本発明は、化合物半導体装置に関し、より詳しくは、ＭＥＳＦＥＴ(Metal-Semiconductor FET) を有する化合物半導体装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話基地局用パワーアンプは、近年、電源電圧の向上とパワー特性の向上の要求が高くなり、パワーアンプに使用されるトランジスタは高耐圧化が必須となる。
しかし、GaAsチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、電界集中によりGaAsチャネル層が破壊され易いために電源電圧の向上に対応することが難しく、パワーアンプには不向きとなってきている。
【０００３】
そこで、ＭＥＳＦＥＴの高耐圧化が望まれることになる。
ＭＥＳＦＥＴの破壊耐圧を向上するために、図１に示すように、チャネル層をGaAsからInGaP に変えた構造のものがある。
図１において、半絶縁性のGaAs基板101 上にはAlGaAsよりなるバッファ層102 が形成され、さらにバッファ層102 の上にはｎ型In0.52Ga0.48P よりなるチャネル層103 とアンドープAlGaAsよりなる障壁層104 が順に形成されている。
【０００４】
また、障壁層104 の上には、アンドープのGaAs層よりなるコンタクト層105 が形成されている。そのコンタクト層105 には障壁層104 を露出する開口105aが形成され、その開口105aを通して障壁層104 にゲート電極106 が接続されている。
ゲート電極106 と障壁層104 はショットキー接合される。
さらに、ゲート電極106 の両側では、コンタクト層105 にソース電極107 とドレイン電極108 が接続されている。コンタクト層105 のうちのソース電極107 とドレイン電極108 の下には高濃度でｎ型不純物がイオン注入されており、これによりソース電極107 とドレイン電極108 はそれぞれキャップ層105 と抵抗（オーミック）接触している。
【０００５】
以上のようなInGaP チャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、GaAsチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴに比べて破壊耐圧が２〜３倍程度高くなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、チャネル層がInGaP から構成されたＭＥＳＦＥＴは、従来に比べて、破壊耐圧が高いが、チャネル層103 中の移動度は低いので、抵抗が高く、相互コンダクタンス（ｇm ）が低い。これにより、利得が従来よりも低くなってしまい、破壊耐圧の向上という利点が生かせない。
【０００７】
本発明の目的は、従来よりも利得が高くなるトランジスタを有する化合物半導体装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記した課題は、ＭＥＳＦＥＴのチャネル層をInGaPSb から構成することによって解決される。
InGaPSb から構成されたチャネル層を有するＭＥＳＦＥＴは、従来のＭＥＳＦＥＴに比べ、浅い閾値電圧で低いシート抵抗とすることができるために、破壊耐圧を下げることなく相互コンダクタンスや利得を大きくすることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図２は、本発明の実施形態に係るＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
図２において、半絶縁性のGaAs基板１上にはアンドープAl0.3Ga0.7Asよりなるバッファ層２が例えば３００ｎｍの厚さに形成され、さらにバッファ層２の上にはｎ型のInx Ga1-x P y Sb1-y （但し、０．３＜ｘ＜０．７、０．９＜ｙ＜０．９９９９９９）よりなるチャネル層３が例えば１５０ｎｍの厚さに形成されている。このチャネル層３の中には、濃度１．５×１０17cm-3のシリコンが含有されている。
【００１０】
チャネル層３上には、アンドープAl0.3Ga0.7Asよりなるショットキー障壁層４が例えば２０ｎｍの厚さに形成されている。さらに、ショットキー障壁層４の上には、アンドープGaAs又はｎ型GaAsよりなるコンタクト層５が形成されている。そのコンタクト層５には、ショットキー障壁層４を露出する開口５ａが形成され、その開口５ａを通してショットキー障壁層４にゲート電極６が接続されている。ゲート電極６とショットキー障壁層４は、ショットキー接合される。ゲート電極６は、タングステン膜、タングステンシリサイド膜、アルミニウム膜等から形成される。
【００１１】
さらに、ゲート電極６の両側においては、コンタクト層５にシリコンをイオン注入することによりオーミックコンタクト領域が形成され、その上にソース電極７とドレイン電極８がそれぞれオーミック接合されている。ソース電極７，ドレイン電極８は、例えば金膜から形成される。
上記したバッファ層２からコンタクト層５までの各層は、例えばＭＯＣＶＤ法によって形成される。そして、III 族元素のガリウム（Ga）、インジウム（In）、アルミニウム（Al）、アンチモン（Sb）と、Ｖ族元素の砒素（As）、リン（P)のそれぞれのソースガスとして例えば次のようなものが使用される。
【００１２】
例えば、ガリウムのソースガスとしてトリメチルガリウム（ＴＭＧ）又はトリエチルガリウム（ＴＥＧ）があり、アルミニウムのソースガスとしてトリメチルアルミニウム（ＴＭAl）があり、インジウムのソースガスとしてトリメチルインジウム（ＴＭＩ）があり、アンチモンのソースガスとしてトリメチルアンチモン（ＴＭSb）がある。また、砒素のソースガスとしてアルシン（AsH3）があり、リンのガスとしてホスフィン（PH3)がある。また、ｎ型ドーパント用のガスとしてジシラン（Si2H6 ）が使用される。
【００１３】
各III-Ｖ族半導体層２〜５までを成長する成長炉として、減圧横型ＣＶＤ炉を使用する。そして、その減圧横型ＣＶＤ炉を使用してIII-Ｖ族半導体層２〜５を形成するためには、成長温度を例えば６００〜７５０℃に設定し、成長雰囲気を減圧して７６Torr程度の圧力となるように調整する。
なお、GaAs基板１は、（１００）から２度オフした面を有し、その面の上にバッファ層２等が形成される。
【００１４】
次に、図２に示した本実施形態のＭＥＳＦＥＴの構造において、GaAs基板１上にInGaPSb チャネル層３までを成長して、チャネル層３のキャリア濃度プロファイルを評価したところ、図３の実線に示す結果が得られた。この実験で使用したチャネル層３を構成するInx Ga1-x P y Sb1-y の組成比ｘ、ｙは、それぞれｘ＝０．５２、ｙ＝０．９９９９９９である。図３のInGaPSb チャネル層３のキャリア濃度プロファイルは、破線で示した従来のInGaP チャネルの構造のキャリア濃度プロファイルと比較して示されている。従来のInGaP チャネル層の場合は、Al0.3Ga0.7Asバッファ層との界面にキャリアの蓄積が見られる。これに対して、InGaPSb チャネル層３の場合は、キャリアの蓄積が見られない。
【００１５】
それらのキャリア濃度プロファイルの差は、得られるデバイスの閾値電圧の差として現れる。チャネル層としてInGaPSb を用いた場合は閾値電圧が−２．５Ｖであるが、チャネル層としてInGaP を用いた場合は−５．７Ｖと深くなる。
図４は、図１、図２の構造におけるシート抵抗とデバイスの閾値電圧の関係を示す。同じシート抵抗では、InGaPSb チャネル層３の方がInGaP チャネル層103 よりも閾値電圧が１Ｖ浅い。この結果、同じ電流駆動能力を有するＭＥＳＦＥＴにおいて、相互コンダクタンスｇm が異なることになる。それらの相互コンダクタンスの差を表１に示す。
【００１６】
【表１】
表１によれば、InGaP チャネル層103 と比較して、InGaPSb チャネル層３を採用することにより同じ耐圧を維持しながら相互コンダクタンスｇm を４０％向上することができた。
なお、上記した実施形態における障壁層４上にコンタクト層５を形成せずに、障壁層４上にソース電極７とドレイン電極８を形成してもよい。また、上記実施形態では、ｎ型不純物としてシリコンを用いたがセレンを用いてもよい。
（付記１）基板の上に不純物がドープされて形成されたInx Ga1-x P y Sb1-y （但し０．３＜ｘ＜０．７、０．９＜ｙ＜０．９９９９９９）よりなるチャネル層と、 前記チャネル層上に形成された障壁層と、
前記障壁層上に形成されたゲート電極と、
前記障壁層の上であってゲート電極の両側に離れて形成されたソース電極とドレイン電極と
を有するＭＥＳＦＥＴを備えたことを特徴とする化合物半導体装置。
（付記２）前記基板はGaAs基板であることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記３）前記基板と前記チャネル層の間にはAlGaAsからなるバッファ層が形成されていることを特徴とする付記１、付記２のいずれかに記載の化合物半導体装置。
（付記４）前記障壁層はアンドープAlGaAs層であることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記５）前記AlGaAs層において、Gaの組成はAlの組成より多いことを特徴とする付記４に記載の化合物半導体装置。
（付記６）前記ソース電極と前記障壁層の間と、前記ドレイン電極と前記障壁層の間には、コンタクト層が形成されていることを特徴とする付記１に記載の化合物半導体装置。
（付記７）前記コンタクト層は、不純物がドープされたGaAsから構成されていることを特徴とする付記６に記載の化合物半導体装置。
（付記８）前記不純物は、シリコン、セレンのいずれかであることを特徴とする付記１又は付記７に記載の化合物半導体装置。
【００１８】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、ＭＥＳＦＥＴのチャネル層をInGaPSb から形成したので、相互コンダクタンスを従来よりも高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴを示す断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴと従来のＭＥＳＦＥＴのそれぞれのチャネル層のキャリア濃度プロファイルを示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態のＭＥＳＦＥＴと従来のＭＥＳＦＥＴのそれぞれのシート抵抗と閾値電圧（Ｖth）の関係を示す図である。
【符号の説明】
１…GaAs基板、２…バッファ層、３…InGaPSb チャネル層、４…障壁層、５…コンタクト層、６…ゲート電極、７…ソース電極、８…ドレイン電極、１０１…がｈ基板、１０２…バッファ層、１０３…InGaP チャネル層、１０４…障壁層、１０５…コンタクト層、１０６…ゲート電極、１０７…ソース電極、１０８…ドレイン電極。
Claims (3)
- 基板の上に不純物がドープされて形成されたInx Ga1-x P y Sb1-y （但し、０．３＜ｘ＜０．７、０．９＜ｙ＜０．９９９９９９）よりなるチャネル層と、
前記チャネル層上に形成された障壁層と、
前記障壁層上に形成されたゲート電極と、
前記障壁層の上であってゲート電極の両側に離れて形成されたソース電極とドレイン電極と
を有するＭＥＳＦＥＴを備えたことを特徴とする化合物半導体装置。 - 前記基板はGaAs基板であることを特徴とする請求項１に記載の化合物半導体装置。
- 前記基板と前記チャネル層の間にはAlGaAsからなるアンドープバッファ層が形成されていることを特徴とする請求項１、請求項２のいずれかに記載の化合物半導体装置。
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