JP4536975B2 - チタン電解研磨用浴組成物およびその使用方法 - Google Patents

チタン電解研磨用浴組成物およびその使用方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4536975B2
JP4536975B2 JP2001506305A JP2001506305A JP4536975B2 JP 4536975 B2 JP4536975 B2 JP 4536975B2 JP 2001506305 A JP2001506305 A JP 2001506305A JP 2001506305 A JP2001506305 A JP 2001506305A JP 4536975 B2 JP4536975 B2 JP 4536975B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
titanium
solution
volume
electropolishing
bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001506305A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003513166A (ja
Inventor
ジャン ゲラン、
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Organisation Europeene pour la Recherche Nucleaire
Original Assignee
Organisation Europeene pour la Recherche Nucleaire
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Organisation Europeene pour la Recherche Nucleaire filed Critical Organisation Europeene pour la Recherche Nucleaire
Publication of JP2003513166A publication Critical patent/JP2003513166A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4536975B2 publication Critical patent/JP4536975B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing
    • C25F3/22Polishing of heavy metals
    • C25F3/26Polishing of heavy metals of refractory metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

【0001】
(技術分野)
本発明は、非合金チタンからなる金属表面を電解研磨するための浴組成物に関し、ならびにこの浴を使用する方法に関する。
【0002】
用語「研磨」は、金属表面の粗さを減少させ、それによって光輝性を増大させ、結果として腐食感応性を下げる目的のための処理を意味するものとみなす。
【0003】
この目的で用いる機械的手段(小粒径研磨剤の使用、微細な機械加工、ホーニングなど)のほかに、化学反応および/または電解反応を利用する技術もある。したがって、この技術は、生じる反応が外部電源に依存しない場合は「化学研磨」と名付けられ、反応が外部電源に依存する場合は「電解研磨」と名付けられる。電極の1つ(一般に、電流電源の陽極に接続されるもの)は研磨されるワークからなる。
【0004】
本発明は、電解研磨の技術的背景の範囲内にある。
【0005】
電解研磨は、同時かつ逆向きの2つの反応に依存している。そこでは、金属/溶液界面での相対的な速度および拡散現象が、動作プロセスを制御している。これらの反応の1つは、金属がイオンの形で溶液中へ出てゆく溶解反応であり、他の1つの反応は、酸化物層が形成される酸化反応である。酸化物層が存在すると、この層が第1の反応の進行を大なり小なり防護し、これを制限する。逆向きで複雑なこれら2つの反応が競争する結果、金属表面が受ける化学的エッチングは自動的に制限される。研磨は、このエッチングの1つの特定の結果であるにすぎない。
【0006】
電解で得られる研磨は、使用する電解液の粘度および/または抵抗率によってかなり影響を受ける。様々な酸組成物、特に、様々な濃度のフッ化水素酸、硫酸、硝酸、およびリン酸をベースにした組成物を使用することが知られている。これらの酸のいくつか(例えばフッ化水素酸)は、金属表面に形成された酸化物層を溶解させるが、一方、他の酸(例えばリン酸、硫酸など)は、電解研磨が進行するために必要な粘性媒体を形成する。このプロセスが正常に進行するのを確実にするために、またこれらの電解液の寿命を判断するために、電解液成分の濃度を正しく制御することがきわめて重要である。
【0007】
(背景技術)
多くの電解研磨浴組成物が知られている(例えば、米国特許第3,766,030号、第3,864,238号、第5,591,320号、第5,565,084号などを参照のこと)。これらの既知組成物のいくつかは多目的であり、純チタンとその合金のいずれの処理も可能である。そのために、これらの浴の効力の特性は、妥協の結果であり、処理された金属表面の研磨は最良ではない。
【0008】
したがって、本発明は、基本的に、高品質かつ測定可能な研磨度を有する金属表面を得るために、非合金チタン専用の電解研磨用浴組成物を提供することを目的とし、さらに、この組成物を用いるとき、電気的パラメータを適当に選択することによって、予め決めることができ(「調節可能な」)かつ測定可能な(例えば、チタン製の生体適合性身体インプラントの場合)粗さを有する金属表面を得ることを目的とする。
【0009】
(発明の開示)
これらの目的のために、非合金チタンからなる金属表面を電解研磨するための浴組成物は、本発明によれば、以下を含むことを特徴とする。
【0010】
− 硫酸(95〜98%溶液):20〜40容積%。この酸はわずかの酸化性と高粘度を有する。
【0011】
− フッ化水素酸(40〜48%溶液):10〜18容積%。この酸は可溶性の塩を生じさせる。および、
− 酢酸(90〜100%溶液):42〜62容積%。溶液/金属界面の電気化学的平衡を変化させるのに適しており、酢酸によってチタン表面の酸化と溶解のより良い制御が可能になり、その結果、金属表面の化学的溶解が自動的に制限される。金属表面の研磨は、その結果の1つである。
【0012】
硫酸およびフッ化水素酸の溶液および濃度特性は、研磨される金属(非合金チタン)の種類に応じて調整する。
【0013】
先行技術が開示しているどんな処方も、酢酸をチタン研磨にはっきり限定して用いていない。酢酸は、その化学的性質(低解離性など)によって、チタンが電解研磨を受けている間、用いられる電気化学的プロセスをうまく調節する。
【0014】
(発明を実施するための最良の形態)
有利には、「カチオン性湿潤剤」と呼ばれる添加剤、例えば臭化セチルトリメチルアンモニウムなどの第四アンモニウム塩、または臭化ヘキサデシルピリジニウムなどの置換誘導体を、0.1〜0.5g/lの量で、上記の浴組成物に加えることもできる。この添加剤は、媒体中の2個の電極のうちの1個の極性(吸着と脱離が交互に起こる現象)を変化させて、2重層現象の変化をもたらす。その結果、研磨の質が向上し、失われる金属が少なくなる。
【0015】
上記の浴組成物を使用する際は、以下の条件を組み合わせる。
【0016】
− 浴温度20〜22℃、酸化速度と、形成された酸化物層の溶解速度との、必要な平衡を妨げないようにする。
【0017】
− 陽極電流密度約7A/dm。
【0018】
− 研磨電圧(電極間の電圧)約11ボルト。これらの電気的特性(電流密度および電圧)は、被研磨表面の形状、および/または1個または複数の補助陽極の使用可能性に応じて調整する。
【0019】
− 浴の適度な撹拌、これは具体的な用途毎に適合させることができる。電極(被研磨表面)と液体溶液との界面の粘性層の安定性を保つためである(激しすぎる撹拌や不十分な撹拌は、この界面層を不安定化し、研磨結果を悪くする)。これにより、チタンの溶解速度が約6ミクロン/分となる。
【0020】
本発明が提案する手段を用いて、チタン金属表面の電気化学的な溶解の条件をきわめて正確に調節かつ制御でき、さらに、従来技術が可能とした程度よりはるかに優れた高度なチタン研磨を達成することが可能である。例えば、具体的なケースを示すと、最大粗さRtが約1〜2μmで、平均粗さRaが約0.1〜0.15μmの未処理(as−rolled)チタン表面から出発して、本発明の条件下で電解研磨した後、溶解した金属の厚さを約50〜100μmとして、最大粗さRt約0.5μmおよび平均粗さRa約0.05〜0.10μmを得ることができる。さらに、とりわけ電解研磨プロセスが行われる条件を完全に制御して、測定可能な所定の粗さを得ることができる。最後に、上記の添加剤を用いることによって、このプロセスが進行する条件をさらに良く制御することができ、所与の粗さの値を達成するために失われる金属の厚さを減らすことができる。
【0021】
添加剤のない上記組成物の具体的な実施例の1つは、以下の通りである。
【0022】
− 硫酸:98%溶液、密度1.84、25容積%、
− フッ化水素酸:40%溶液、密度1.10、15容積%、
− 氷酢酸:100%溶液、密度1.05、60容積%。
【0023】
電解研磨前後に、非合金チタン金属表面について行った粗さ測定によれば、以下の結果が得られた(Rt=最大粗さ、Ra=平均粗さ)。
研磨前(未処理表面)
:Rt=1.80μm Ra=0.176μm
研磨後(溶解した金属厚さ=22μm)
:Rt=0.670μm Ra=0.080μm
研磨後(溶解した金属厚さ=59μm)
:Rt=0.396μm Ra=0.057μm
研磨後(溶解した金属厚さ=116μm)
:Rt=0.432μm Ra=0.080μm

Claims (5)

  1. 非合金チタンからなる金属表面を電解研磨するための浴組成物であって、
    硫酸(95〜98%溶液):20〜40容積%、
    フッ化水素酸(40〜48%溶液):10〜18容積%、および
    酢酸(90〜100%溶液):42〜62容積%を含み、
    溶液/金属界面の電気化学的平衡を変化させるのに適しており、酢酸によってチタン表面の酸化と溶解のより良い制御が可能になり、その結果、金属表面の化学的溶解が自動的に制限されることを特徴とする組成物。
  2. 硫酸:98%溶液、密度1.84、25容積%、
    フッ化水素酸:40%溶液、密度1.10、15容積%、
    氷酢酸:100%溶液、密度1.05、60容積%を含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。
  3. 臭化セチルトリメチルアンモニウムおよび臭化ヘキサデシルピリジニウムから選択される添加剤を、0.1〜0.5g/lの量でさらに含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の組成物。
  4. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載のチタン電解研磨用の浴組成物を使用する方法であって、
    浴温度が20〜22℃であり、浴が適度に撹拌されており、
    これにより、チタンの溶解速度が6ミクロン/分未満となることを特徴とする方法。
  5. 請求項4に記載のチタン電解研磨用の浴組成物を使用する方法であって、
    電流密度が7A/dm 2 であり、研磨電圧が11ボルトであることを特徴とする方法。
JP2001506305A 1999-06-25 2000-06-20 チタン電解研磨用浴組成物およびその使用方法 Expired - Fee Related JP4536975B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR99/08151 1999-06-25
FR9908151A FR2795433B1 (fr) 1999-06-25 1999-06-25 Composition de bain pour le polissage electrolytique du titane, et son procede d'utilisation
PCT/FR2000/001694 WO2001000906A1 (fr) 1999-06-25 2000-06-20 Composition de bain pour le polissage electrolytique du titane, et son procede d'utilisation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003513166A JP2003513166A (ja) 2003-04-08
JP4536975B2 true JP4536975B2 (ja) 2010-09-01

Family

ID=9547304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001506305A Expired - Fee Related JP4536975B2 (ja) 1999-06-25 2000-06-20 チタン電解研磨用浴組成物およびその使用方法

Country Status (14)

Country Link
US (1) US6610194B1 (ja)
EP (1) EP1194617B1 (ja)
JP (1) JP4536975B2 (ja)
CN (1) CN1230576C (ja)
AT (1) ATE237010T1 (ja)
AU (1) AU6449700A (ja)
DE (1) DE60002084T2 (ja)
DK (1) DK1194617T3 (ja)
ES (1) ES2197110T3 (ja)
FR (1) FR2795433B1 (ja)
HK (1) HK1047774A1 (ja)
PT (1) PT1194617E (ja)
RU (1) RU2241791C2 (ja)
WO (1) WO2001000906A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2294034T3 (es) * 2001-10-24 2008-04-01 Fundacion Inasmet Producto y procedimiento para la limpieza de superficies de titanio.
GB2389370B (en) 2002-06-06 2006-07-12 Anopol Ltd Improvements in stent manufacture
DE10320909A1 (de) 2003-05-09 2004-11-18 Poligrat Holding Gmbh Elektrolyt zum elektrochemischen Polieren von Metalloberflächen
DE102007011632B3 (de) 2007-03-09 2008-06-26 Poligrat Gmbh Elektropolierverfahren für Titan
US20110017608A1 (en) * 2009-07-27 2011-01-27 Faraday Technology, Inc. Electrochemical etching and polishing of conductive substrates
CA2781613C (en) * 2009-11-23 2017-11-14 Metcon, Llc Electrolyte solution and electropolishing methods
CN102234812B (zh) * 2010-04-29 2013-12-25 光洋应用材料科技股份有限公司 钌钴系合金电化学溶解的方法
CN101899701B (zh) * 2010-07-19 2012-07-11 西南交通大学 一种用作太阳能电池阴极的纳米硫化铜与二氧化钛纳米管复合材料的制备方法
KR20170138575A (ko) * 2010-11-22 2017-12-15 메트콘, 엘엘씨 전해질 용액 및 전기화학적 표면 개질 방법
US8580103B2 (en) 2010-11-22 2013-11-12 Metcon, Llc Electrolyte solution and electrochemical surface modification methods
CN102899711B (zh) * 2012-11-20 2016-01-27 重庆大学 一种用于钛及钛合金的电解抛光液以及电解抛光工艺
CN107402150A (zh) * 2017-07-24 2017-11-28 东北大学 一种钛铝基合金ebsd分析用样品的电解抛光制备方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU881157A1 (ru) * 1979-07-10 1981-11-15 Предприятие П/Я Р-6585 Раствор дл электрохимического полировани титановых сплавов
JPS5616700A (en) * 1979-07-19 1981-02-17 Urarusukii N Itsusureedowachie Electrolysis liquid for electrochemical polishing of titanium or titanium alloy article
US4220509A (en) * 1979-07-30 1980-09-02 Karyazin Pavel P Electrolyte for electrochemical polishing of articles made of titanium and titanium alloys
SU1525236A1 (ru) * 1988-01-04 1989-11-30 Предприятие П/Я Г-4367 Электролит дл полировани сталей
SU1657545A1 (ru) * 1988-11-13 1991-06-23 Белгородский технологический институт строительных материалов им.И.А.Гришманова Раствор дл электрохимического полировани титана и его сплавов
SU1715887A1 (ru) * 1989-02-10 1992-02-28 Белгородский технологический институт строительных материалов им.И.А.Гришманова Раствор дл химического полировани поверхности титана и его сплавов
JPH0762280B2 (ja) * 1990-07-11 1995-07-05 山口県 チタン又はチタン合金の電解研磨法
US5378331A (en) * 1993-05-04 1995-01-03 Kemp Development Corporation Apparatus and method for electropolishing metal workpieces
JPH09207029A (ja) * 1996-02-02 1997-08-12 Toyo Rikagaku Kenkyusho:Kk チタン及びチタン合金の電解研磨方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE60002084D1 (de) 2003-05-15
DE60002084T2 (de) 2004-03-04
CN1358240A (zh) 2002-07-10
WO2001000906A1 (fr) 2001-01-04
DK1194617T3 (da) 2003-07-21
PT1194617E (pt) 2003-10-31
HK1047774A1 (zh) 2003-03-07
ATE237010T1 (de) 2003-04-15
JP2003513166A (ja) 2003-04-08
FR2795433A1 (fr) 2000-12-29
CN1230576C (zh) 2005-12-07
EP1194617B1 (fr) 2003-04-09
FR2795433B1 (fr) 2001-08-31
US6610194B1 (en) 2003-08-26
AU6449700A (en) 2001-01-31
EP1194617A1 (fr) 2002-04-10
RU2241791C2 (ru) 2004-12-10
ES2197110T3 (es) 2004-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4536975B2 (ja) チタン電解研磨用浴組成物およびその使用方法
US20180178302A1 (en) Electrochemical system and method for electropolishing superconductive radio frequency cavities
CN104593786B (zh) 一种金属表面微孔化处理的方法
CN108221041B (zh) 用于金属基材的电解抛光的方法
CN107740102A (zh) 一种输变电设备铜导线的金相腐蚀方法
CN113201738B (zh) 一种选择性激光熔化AlSi10Mg成形工件的电化学表面处理方法
US3627654A (en) Electrolytic process for cleaning high-carbon steels
US4563257A (en) Method of electrolytically polishing a workpiece comprised of a nickel-, cobalt-, or iron-based alloy
JPH04263100A (ja) チタン基剤金属支持体から金属被覆を剥離するための電解方法
US4220509A (en) Electrolyte for electrochemical polishing of articles made of titanium and titanium alloys
US20050173258A1 (en) Method for electrolytic polishing of dental instruments made of nickel-titanium alloy
US4559114A (en) Nickel sulfate coloring process for anodized aluminum
JP6870389B2 (ja) 金属材表面の酸化皮膜を除去する方法
JPH0548317B2 (ja)
CN112267145A (zh) 一种电化学抛光液及其制备方法和应用
JPH0127160B2 (ja)
Raicheva The effect of the surface state on the electrochemical behaviour of copper electrodes
JPH04311598A (ja) 金属表面の陽極溶解処理方法
JP2018188702A (ja) 金属材表面の酸化皮膜の除去方法
CN114214717A (zh) 一种铝合金加工溶液及其制备方法
Stulov et al. Electropolishing of niobium coatings on spherical shape samples
JPS63195299A (ja) ZrおよびZr合金電解研摩用電解液
JP2023036913A (ja) アルミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化処理法及び陽極酸化皮膜の封孔処理法
SU937534A1 (ru) Состав дл молибденировани стальных изделий
CN118292085A (zh) 一种铝材表面处理工艺

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070619

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20070731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100420

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100519

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100617

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees