JP4528803B2 - ハーフトーン型位相シフトマスク - Google Patents
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Description
t=t0・exp(-i・φ)
= tS1t10・exp(-i・2πdn1)/λ)/(1+rS1r10・exp(-4πi・dn1/λ)
12 「位相変調部2」である光学膜
13 「位相変調部1」である光学膜
20 シリコン膜
21 レジスト
22a、22b 酸化シリコン膜
Claims (7)
- 透明基板上に透光部と半透光部とを有するハーフトーン型位相シフトマスクであって、
前記透光部と前記半透光部のそれぞれには露光時にマスクのパターン面が接している媒質を伝播する光に対して位相を変える位相変調部が設けられており、
前記位相変調部は、前記透光部と半透光部の一方の位相変調部である厚みd 1 の位相変調部であって前記媒質中を伝播する光に比較して大きな位相変化を付与する位相変調部1と、前記透光部と半透光部の他方の位相変調部である厚みd 2 の位相変調部であって前記媒質中を伝播する光に比較して小さな位相変化を付与する位相変調部2とを有し、
前記位相変調部1を透過した光の位相φ1は前記媒質中をd1だけ伝播した光の位相φ01と次式の関係:φ1=φ01+Δφ1(Δφ1>0)を満足し、前記位相変調部2を透過した光の位相φ2は前記媒質中をd2だけ伝播した光の位相φ02と次式の関係:φ2=φ02+Δφ2(Δφ2<0)を満足することを特徴とする位相シフトマスク。
- 前記位相変調部2は前記半透光部に設けられ、前記位相変調部1は前記透光部に設けられている請求項1に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
- 前記半透光部に透過率調整膜が設けられている請求項1又は2に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
- 前記透過率調整膜は前記位相変調部2である請求項3に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
- 前記位相変調部2を透過した光と前記位相変調部1を透過した光の位相差が実質的にπ(ラジアン)であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
- 前記位相変調部2は、シリコン、モリブデン、モリブデンシリサイドの少なくとも1種からなる光学膜である請求項1乃至5の何れか1項に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
- 前記位相変調部1は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物の少なくとも1種からなる光学膜である請求項1乃至6の何れか1項に記載のハーフトーン型位相シフトマスク。
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