JP4514584B2 - 化合物半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
このGaN−HEMTでは、例えばSiC基板101上にAlN層102及びGaN層103が順次積層されてバッファ層が構成される。そして、GaN層103上にn型のAlGaN層105が積層され、AlGaN層105上にショットキー接続されてなるゲート電極106と、AlGaN層105上におけるゲート電極106の両側に離間してオーミック接続されてなるソース電極107及びドレイン電極108とがパターン形成され、AlGaN層105上におけるソース電極107とドレイン電極108との間に保護絶縁膜としてSiN層109が積層されて、GaN−HEMTが構成される。
このように、GaN−HEMTの使用を重ねるにつれて、例えば15年程度の継続的使用により出力値は当初の70%程度まで減少する。このように、15年間で30%程度減少する状態では、十分実用に耐えるとは言い難く、従来のGaN−HEMTではこの点で大きな問題を抱えていると考えられる。
本発明者は、出力値の経時劣化として現れるGaN−HEMTの特性変動を簡易に短時間で把握するため、GaN−HEMTをパワー動作させた場合に出力がドリフトする現象に着目した。このような変動は、特にGaN−HEMTのパワー動作をオフした際に顕著となる。
ここで、横軸がドレイン(ドレイン−ソース間)電圧、縦軸がドレイン(ドレイン−ソース間)電流を示す。ゲート電極に印加する電圧(ゲート電圧)が高いほど、同一のドレイン電圧におけるドレイン電流は大きくなる。GaN−HEMTを基地局用アンプで使用する場合、ドレイン電圧は50V程度である。そこで、ドレイン電圧を50Vに設定し、ドレイン電流を僅かに流す状態として、GaN−HEMTに例えば2GHzの高周波信号を入力する(パワー動作をオンする)。このとき、GaN−HEMTの出力は図示のような曲線(ロードライン)を描くように変動する。
ここで、横軸が測定時間(秒)、縦軸がGaN−HEMTのパワー動作をオフした瞬間におけるドレイン電流値(バイアスポイント電流:mA/mm)を示し、測定回数は3回である。
フォト・ルミネッセンス測定法は、説明の便宜のために図11を例に採れば、AlGaN層105を形成した状態、即ちゲート電極106等の形成されていない状態を被検知体として、AlGaN層105の表面に短波長光を照射し、被検知体から発する光を検知して、発光強度を測定する手法である。
AlGaN層及びGaN層は、そのエネルギー順位により、照射光の発光波長に対する発光強度が規定されている。ここで、GaN層内に2次元電子ガスがトラップに捕獲されていると、これに起因して、規定された発光強度とは異なる発光強度の光が発せられる。
図4の結果から、回復時間が上記の信頼度規格となる500nm〜600nm帯の発光ピーク強度を、Ga空孔や炭素の含有量と殆ど関わりなく略一定値を示すGaNバンド端の発光強度との関係で換算したところ、500nm〜600nm帯の発光ピーク強度(A)とGaNバンド端の発光強度(B)との比(A/B)が約0.2となった。従って、上記の比(A/B)が0.2以下の値を示すGaN層を、GaN−HEMTの電子走行層として用いれば良い。なお、フォト・ルミネッセンス測定の励起条件は、弱励起条件で500nm台の発光が最大となるように調整した励起条件であり、レーザダイオード測定用に用いられるような強励起条件ではない。
ここで、AlN層の膜厚を変えることにより、膜厚が厚いほど、図中破線で示すトラップ量の許容最大値となるGa量が増加する。AlN層内の酸素濃度を1×1013/cm3〜1×1019/cm3に制御すること、及びAlN層の膜厚を10nm〜100の範囲内の値に制御することを考慮して、AlN層にGaを1%〜80%の濃度で混入させることが好適である。
N原料となる例えばNH3には多くのSiが含まれている。基板となるウェーハを保持するサセプタにはSiCコートが施されており、GaN層の成長形成の際に不可避的にSiが混入する。MOVPE法によりAlN層やGaN層を成長形成する場合、これらは先ず横方向に成長し、ある程度の膜厚が確保された後に上方に成長してゆく。この横方向成長の段階で、N原料に含まれるSiやサセプタのSiCコートのSiが混入し、ある程度膜厚が確保された後には殆ど混入することはない。即ちSiは、各層を成長形成する際の初期段階で各層の下方部位に取り込まれることになる。本発明では、Siが成長の初期段階で各層の下方部位に混入することに加え、GaNにAlを含有させることによりSiの混入が抑制されることを利用する。即ち、GaN層を成長形成する際に、AlN層上に、言わばGaN層の初期層として、Alを若干含むAlGaN層を形成しておき、連続してAlGaN層上に電子走行層となるGaN層を形成する。これにより、GaN層に混入するSiが大幅に低減し、高抵抗性のノンドープ状態のGaN層を得ることができる。具体的には、AlGaN層のAlxGa(1-x)Nにおいて、0<x<0.3とすれば良い。ここで、x=0ではSi混入の抑制効果が得られず、x≧0.3では略AlN層と同等となってしまい不都合となる。形成されるAlGaN層のSi濃度としては、これを1×1013/cm3〜1×1016/cm3以下の範囲内の値とすることが望ましい。ここで、Si濃度が1×1016/cm3より高値ではSi混入の抑制効果が得られず、1×1013/cm3より低値とすることは、N原料等との関係及び測定上の限界から、不可能であると考えられる。
(GaN−HEMTの構成)
上述した本発明の基本骨子を踏まえ、本実施形態によるGaN−HEMTの構成について説明する。
図6は、本実施形態によるGaN−HEMTの構成を示す概略断面図である。
AlN層2は、膜厚が10nm〜100nmの範囲内の値、ここでは20nm程度とされており、酸素濃度が1×1013/cm3〜1×1019/cm3の範囲内の値に抑えられている。AlN層2においては、Gaを1%〜80%の範囲内の値、例えば50%程度混入させるようにしても良い。これにより、酸素濃度が例えば1×1018/cm3程度まで減少し、電流ドリフトの回復時間が更に向上する。
ソース電極7及びドレイン電極8は、Ti/Alを順次積層してなるものであり、n型GaN層10が除去されてn型AlGaN層5の表面が露出された部位に、ゲート電極6の左右に離間してオーミック接続されている。
SiN層9は、ゲート電極6とソース電極7との間及びゲート電極6とドレイン電極8との間に形成される保護絶縁膜であり、n型GaN層10と共に電流コラプスを抑制する機能を有する。
上述した本発明の基本骨子を踏まえ、本実施形態によるGaN−HEMTの製造方法について説明する。
図7は、本実施形態によるGaN−HEMTの製造方法を工程順に示す概略断面図である。
先ず、ソース電極7及びドレイン電極8をパターン形成する。
リソグラフィー及びそれに続くドライエッチングにより、n型GaN層10のソース電極7及びドレイン電極8の形成部位を除去し、n型AlGaN層5の前記形成部位に相当する表面を露出させる。続いて、例えばスパッタ法により、Tiを膜厚30nm程度、Alを膜厚200nm程度に順次積層し、Ti/Alに550℃、30秒間のアニール処理を施し、Ti/Alを合金化する。そして、前記形成部位のみ残るように、リソグラフィー及びそれに続くドライエッチングによりTi/Alを電極形状にパターニングし、ソース電極7及びドレイン電極8を形成する。
例えばスパッタ法により、Niを膜厚30nm程度、Auを膜厚400nm程度に順次積層した後、リソグラフィー及びそれに続くドライエッチングによりNi/Alを電極形状にパターニングし、ゲート電極6を形成する。
例えばプラズマCVD法により、ゲート電極6、ソース電極7及びドレイン電極8を埋め込まない程度の膜厚、ここでは40nm程度にSiNを堆積し、SiN層9を形成する。このとき、図示の例のように、ゲート電極6、ソース電極7及びドレイン電極8のSiNを除去するようにしても良い。
なお、素子分離は所定のイオン注入により行う。
上述のように製造された本実施形態のGaN−HEMTについて、本実施形態の従来に対する電流ドリフトの回復時間の優位性を示す実験(実験1)と、本実施形態のGaN−HEMTにおけるSi混入の抑止効果を示す実験(実験2)とを行った。
本実施形態のGaN−HEMTについて、パワー動作をオフした瞬間における僅かに流れるドレイン電流をモニターした様子を図8に示す。ここで、横軸が測定時間(秒)、縦軸がGaN−HEMTのパワー動作をオフした瞬間におけるドレイン電流値(バイアスポイント電流:mA/mm)を示し、測定回数は3回である。図8では従来との比較のため、図2の従来のGaN−HEMTの測定結果も併せて記載する。ここで、従来のGaN−HEMTでは、電子走行層であるGaN層のGa空孔量が3×1018/cm3、炭素濃度が2×1018/cm3と高値であるのに対して、本実施形態のGaN−HEMTでは、上述のように電子走行層であるGaN層のGa空孔量が1×1014/cm3、炭素濃度が2×1014/cm3と従来に比べて低値である。
図9及び図3から判るように、本実施形態のGaN−HEMTでは、500nm〜600nm帯の発光ピーク強度が従来のGaN−HEMTにおける500nm〜600nm帯の発光ピーク強度の約1/8程度であり、この比が1/10程度となる実験結果も得られた。このとき、従来のGaN−HEMTでは、500nm〜600nm帯の発光ピーク強度(A)とGaNバンド端の発光強度(B)との比(A/B)が1.2程度と高値であるのに対して、実施形態のGaN−HEMTでは、上記の比(A/B)が0.2以下、ここでは0.16程度となっている。なお、フォト・ルミネッセンス測定の励起条件は、弱励起条件で500nm台の発光が最大となるように調整した励起条件であり、レーザダイオード測定用に用いられるような強励起条件ではない。
従来のGaN−HEMTでは、信頼度規格を大きく逸脱する長い回復時間を示すのに対して、本実施形態のGaN−HEMT、信頼度規格を十分に満たす短い回復時間を示すころが判る。
本実施形態のGaN−HEMT(のAlGaN層及びGaN層)において、素子分離特性を調べたところ、全く問題はなかった。
また、本実施形態の比較例として、電子走行層となるGaN層を、成長温度を1100℃で形成したところ、当該GaN層のSi濃度が2×1016/cm3と高値となり、素子分離特性が本実施形態に比して4桁劣化し、FET特性がピンチオフを示さなかった。従って、GaN層のSi濃度を低値に抑えるには、成長温度を1100℃よりも低温とすることを要することが判った。
また、図11に示したように、AlN層とGaN層との間に低Al組成のAlGaN層を形成しない場合には、素子分離特性が本実施形態に比して2桁悪化した。従って、信頼度規格を十分に満たす短い回復時間を示し、且つGaN層のSi濃度を低値に抑えるには、AlN層とGaN層との間に低Al組成のAlGaN層を形成することを要することが判った。
基板と、
前記基板上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層上に形成されたAlGaNを含む電子供給層と
を有し、
前記バッファ層は、AlNを含む第1のバッファ層と、GaNを含む第2のバッファ層と、前記第1のバッファ層と前記第2のバッファ層との間に設けられたAlGaNを含む第3のバッファ層とが積層形成されてなることを特徴とする化合物半導体装置。
AlxGa(1-x)N,0<x<0.3
を含むことを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体装置。
前記バッファ層上にAlGaNを含む電子供給層を形成する工程と
を有し、
前記バッファ層を、AlNを含む第1のバッファ層と、GaNを含む第2のバッファ層とを含むように順次連続して積層形成し、
前記第2のバッファ層を形成する際に、成長速度を0.1nm/秒〜1nm/秒の範囲内の値に、且つV/III比を10000〜100000の範囲内の値にそれぞれ設定することを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。
AlxGa(1-x)N,0<x<0.3
を含むことを特徴とする付記12に記載の化合物半導体装置の製造方法。
2 AlN層
3,13 AlGaN層
4 GaN層
5 n型AlGaN層
6 ゲート電極
7 ソース電極
8 ドレイン電極
9 SiN層
10 n型GaN層
11 バッファ層
12 ノンドープAlGaN層
Claims (7)
- トランジスタ構造を有する化合物半導体装置であって、
基板と、
前記基板上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層上に形成されたAlGaN電子供給層と
を有し、
前記バッファ層は、AlN層と、前記AlN層の上方において、電子走行層となるGaN層と、前記AlN層と前記GaN層との間に設けられたAlGaN層とが積層形成されてなり、
前記GaN層は、Ga空孔量が1×1012/cm3〜1×1018/cm3の範囲内の値であり、且つ炭素濃度が1×1013/cm3〜1×1018/cm3の範囲内の値であり、
前記GaN層は、フォト・ルミネッセンス測定により、500nm〜600nm帯の発光強度の最大値(A)とGaNバンド端の発光強度(B)との比(A/B)が0.2以下の値を示すことを特徴とする化合物半導体装置。 - 前記AlGaN層のAlGaNは、
AlxGa(1-x)N,0<x<0.3
であることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体装置。 - 前記AlN層は、Gaを1%〜80%の範囲内の値の濃度に含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の化合物半導体装置。
- 基板上にバッファ層を形成する工程と、
前記バッファ層上にAlGaN電子供給層を形成する工程と
を有し、
前記バッファ層を、AlN層と、前記AlN層の上方において、電子走行層となるGaN層とで形成し、
前記GaN層を形成する際に、成長速度を0.1nm/秒〜1nm/秒の範囲内の値に、且つV/III比を10000〜100000の範囲内の値にそれぞれ設定し、
前記GaN層は、Ga空孔量が1×1012/cm3〜1×1018/cm3の範囲内の値であり、且つ炭素濃度が1×1013/cm3〜1×1018/cm3の範囲内の値であり、
前記GaN層は、フォト・ルミネッセンス測定により、500nm〜600nm帯の発光強度の最大値(A)とGaNバンド端の発光強度(B)との比(A/B)が0.2以下の値を示すことを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。 - 前記AlN層と前記GaN層との間に、AlGaN層を形成して、前記バッファ層を構成することを特徴とする請求項4に記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記AlGaN層のAlGaNは、
AlxGa(1-x)N,0<x<0.3
であることを特徴とする請求項5に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記AlGaN層を形成する際に、成長温度を1000℃以上で1100℃よりも低値の範囲内の値に設定することを特徴とする請求項5又は6に記載の化合物半導体装置の製造方法。
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