JP4511491B2 - リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4511491B2 JP4511491B2 JP2006118781A JP2006118781A JP4511491B2 JP 4511491 B2 JP4511491 B2 JP 4511491B2 JP 2006118781 A JP2006118781 A JP 2006118781A JP 2006118781 A JP2006118781 A JP 2006118781A JP 4511491 B2 JP4511491 B2 JP 4511491B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- feedforward
- movable element
- error
- signal
- table data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 61
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 44
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 22
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 7
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 6
- 230000036461 convulsion Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 230000006870 function Effects 0.000 description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルWT即ち「基板サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWT即ち「基板サポート」がX方向及び/又はY方向にシフトされ、その結果、異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルWT即ち「基板サポート」が同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」に対する基板テーブルWT即ち「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング・デバイスを保持するようにマスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWT即ち「基板サポート」が移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWT即ち「基板サポート」が移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
AD 放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタ
ADD 加算器
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
C1、C2 コントローラ
CO コンデンサ
e1、e2 誤差信号(位置誤差、絶対誤差、残留誤差)
ET 誤差テーブル
ews_rs 相対誤差
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
L フィードフォワード信号計算器
MA パターニング・デバイス(マスク)
MT マスク支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PM 第1の位置決めデバイス
PS 投影システム
PW 第2の位置決めデバイス(第2のポジショナ)
P1、P2 基板アライメント・マーク
P1、P2 プロセス
Q ローバスティフィケーション・フィルタ
r1、r2 入力(基準入力、設定値)
SO 放射源
uk フィードフォワード信号
W 基板
WT 基板テーブル
y1、y2 出力(位置)
Claims (11)
- 第1の可動要素及び前記第1の可動要素の第1の位置量を制御するための第1の制御システムと、
第2の可動要素及び前記第2の可動要素の第2の位置量を制御するための第2の制御システムと、
フィードフォワード・テーブル・データを備え、前記第1及び第2の制御システムに提供される設定値信号に同期してフィードフォワード信号を生成するために使用されるように構成されたフィードフォワード・テーブルであって、前記第1の位置量を適合させることによって前記第1の位置量と第2の位置量の間の相対誤差を小さくするために、前記フィードフォワード信号を前記第1の制御システムに提供するように構成されたフィードフォワード・テーブルと、
前記第1及び第2の制御システムに提供される前記設定値信号に応答して、前記第1の可動要素の前記位置量と前記第2の可動要素の前記位置量の間のトラッキング誤差を登録するように構成された誤差テーブルと、
前記登録されたトラッキング誤差及び前記フィードフォワード・テーブル・データから次のフィードフォワード・テーブル・データを導出するための処理ユニットとを備え、
前記第1の可動要素が前記第2の可動要素よりも広い帯域幅または小さい共振傾向を有していることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記処理ユニットが、
前記誤差テーブルに登録されている前記トラッキング誤差からフィードフォワード増分信号を決定するためのフィードフォワード信号計算器と、
加算増分フィードフォワード・テーブル・データを得るために前記フィードフォワード増分信号をフィードフォワード・テーブル・プログラミングに加算する加算器と、
前記フィードフォワード・テーブルに記憶する次のフィードフォワード・テーブル・データを得るために前記加算増分フィードフォワード・テーブル・データをフィルタリングするローバスティフィケーション・フィルタとを備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記フィードフォワード信号計算器が、関連する周波数範囲における前記第1の制御システムの逆プロセス感度に実質的に等しい伝達関数を備えた、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード信号計算器が低域通過フィルタをさらに備えた、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の可動部が、パターン形成された放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されたパターニング・デバイスを支持するように構成されたパターン・サポートを備えた、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2の可動部が、基板を保持するように構築された基板サポートを備えた、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置量が、位置、速度、加速度、ジャーク及びスナップのうちの1つ又は複数を含む、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 第1及び第2の可動要素の位置量を制御するためのコントローラであって、
前記第1の可動要素の第1の位置量を制御するための第1の制御システムと、
前記第2の可動要素の第2の位置量を制御するための第2の制御システムと、
フィードフォワード・テーブル・データを備え、前記第1及び第2の制御システムに提供される設定値信号に同期してフィードフォワード信号を生成するために使用されるように構成されたフィードフォワード・テーブルであって、前記第1の位置量を適合させることによって前記第1の位置量と第2の位置量の間の相対誤差を小さくするために、前記フィードフォワード信号を前記第1の制御システムに提供するように構成されたフィードフォワード・テーブルと、
前記第1及び第2の制御システムに提供される前記設定値信号に応答して、前記第1の可動要素の前記位置量と前記第2の可動要素の前記位置量の間のトラッキング誤差を登録するための誤差テーブルと、
前記登録されたトラッキング誤差及び前記フィードフォワード・テーブル・データから次のフィードフォワード・テーブル・データを導出するための処理ユニットとを備え、
前記第1の可動要素が前記第2の可動要素よりも広い帯域幅または小さい共振傾向を有していることを特徴とするコントローラ。 - 前記処理ユニットが、
前記誤差テーブルに登録されている前記トラッキング誤差からフィードフォワード増分信号を決定するためのフィードフォワード信号計算器と、
加算増分フィードフォワード・テーブル・プログラミングを得るために前記フィードフォワード増分信号を前記フィードフォワード・テーブル・データに加算する加算器と、
前記フィードフォワード・テーブルに記憶する次のフィードフォワード・テーブル・プログラミングを得るために前記加算増分フィードフォワード・テーブル・データをフィルタリングするローバスティフィケーション・フィルタとを備えた、請求項8に記載のリソグラフィ装置。 - 第1及び第2の可動要素の位置量を制御するための方法であって、
前記第1の可動要素の位置量を制御するステップと、
前記第2の可動要素の位置量を制御するステップと、
第1及び第2の制御システムに提供される設定値信号に同期してフィードフォワード信号を生成するステップと、
第1の位置量を適合させることによって前記第1の位置量と第2の位置量の間の相対誤差を小さくするために、前記フィードフォワード信号を前記第1の制御システムに提供するステップと、
前記第1及び第2の制御システムに提供される前記設定値信号に応答して、前記第1の可動要素の前記位置量と前記第2の可動要素の前記位置量の間のトラッキング誤差を登録するステップと、
前記生成ステップの一部として、フィードフォワード・テーブルからフィードフォワード・データを探索するステップと、
前記登録されたトラッキング誤差及びフィードフォワード・テーブル・データから次のフィードフォワード・テーブル・データを導出するステップとを含み、
前記第1の可動要素が前記第2の可動要素よりも広い帯域幅または小さい共振傾向を有していることを特徴とする方法。 - 前記導出するステップが、
誤差テーブルに登録されている前記トラッキング誤差からフィードフォワード増分信号を決定するステップと、
加算増分フィードフォワード・テーブル・データを得るために前記フィードフォワード増分信号を前記フィードフォワード・テーブル・データに加算するステップと、
前記次のフィードフォワード・テーブル・データを得るために前記加算増分フィードフォワード・テーブル・データをフィルタリングするステップと、
前記フィードフォワード・テーブルに前記次のフィードフォワード・テーブル・データを記憶するステップとを含む、請求項10に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/090,698 US7468782B2 (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Lithographic apparatus, position quantity controller and control method with feedforward signal |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006310849A JP2006310849A (ja) | 2006-11-09 |
JP4511491B2 true JP4511491B2 (ja) | 2010-07-28 |
Family
ID=37186501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006118781A Active JP4511491B2 (ja) | 2005-04-25 | 2006-04-24 | リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7468782B2 (ja) |
JP (1) | JP4511491B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070206456A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-09-06 | Sullivan Jeffrey S | Trajectory mapping for improved motion-system jitter while minimizing tracking error |
US7446854B2 (en) * | 2006-02-07 | 2008-11-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7774287B2 (en) * | 2006-03-14 | 2010-08-10 | Asml Netherlands B.V. | System and method for moving a component through a setpoint profile, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2008188950A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Seiko I Infotech Inc | 画像記録・カッティング装置 |
US8014881B2 (en) * | 2007-02-15 | 2011-09-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL1036292A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Controller for a positioning device, method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device. |
US20100302526A1 (en) * | 2008-11-13 | 2010-12-02 | Nikon Corporation | Drive control method for moving body, exposure method, robot control method, drive control apparatus, exposure apparatus and robot apparatus |
JP5235707B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-07-10 | キヤノン株式会社 | 制御装置 |
NL2004847A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-04 | Asml Holding Nv | Method for controlling the position of a movable object, a control system for controlling a positioning device, and a lithographic apparatus. |
US8666556B2 (en) * | 2009-12-10 | 2014-03-04 | Alcon Research, Ltd. | Systems and methods for dynamic feedforward |
US20120319637A1 (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-20 | Nikon Corporation | Synchronization control devices and methods |
US20130116814A1 (en) * | 2011-11-07 | 2013-05-09 | Nikon Corporation | Feedforward control adjusted with iterative learning |
JP6396483B2 (ja) * | 2013-10-30 | 2018-09-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィにおける対象物の位置決め |
US11086234B2 (en) * | 2017-11-08 | 2021-08-10 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder and a method of manufacturing a device |
JP7148295B2 (ja) * | 2018-07-04 | 2022-10-05 | キヤノン株式会社 | 制御装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH088159A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2004311904A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び露光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5699145A (en) * | 1993-07-14 | 1997-12-16 | Nikon Corporation | Scanning type exposure apparatus |
EP1265104A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-11 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US6788385B2 (en) * | 2001-06-21 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Stage device, exposure apparatus and method |
-
2005
- 2005-04-25 US US11/090,698 patent/US7468782B2/en active Active
-
2006
- 2006-04-24 JP JP2006118781A patent/JP4511491B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH088159A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2003264134A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Nikon Corp | ステージ制御装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2004311904A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7468782B2 (en) | 2008-12-23 |
JP2006310849A (ja) | 2006-11-09 |
US20060238739A1 (en) | 2006-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4511491B2 (ja) | リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 | |
JP4820354B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US7525638B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
KR100937967B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP4663663B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US7630059B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US7999912B2 (en) | Lithographic apparatus and sensor calibration method | |
KR100696733B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 | |
JP4787282B2 (ja) | デバイス製造方法、コンピュータプログラム、及び、リソグラフィ装置 | |
JP2007294958A (ja) | 改善されたフィードフォワードデータを取得する方法、その方法を実行するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4880665B2 (ja) | リソグラフィ装置、ステージシステムおよびステージ制御方法 | |
JP2005354088A (ja) | リソグラフィ運動制御システム及び方法 | |
KR100674701B1 (ko) | 기판노광방법 및 리소그래피 투영장치 | |
JP2007251162A (ja) | 設定値プロファイルを介した構成要素を移動するシステムおよび方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
NL2018184A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US20070236163A1 (en) | Method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device | |
JP4429296B2 (ja) | リソグラフィ装置、投影装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009152604A (ja) | 位置決めデバイスのためのコントローラ、位置決めデバイスを制御する方法、位置決めデバイスおよび位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置 | |
US8830442B2 (en) | Servo control system, lithographic apparatus and control method | |
JP4567658B2 (ja) | デバイス製造方法およびコンピュータプログラム製品 | |
JP5405615B2 (ja) | リソグラフィ方法及びアセンブリ | |
US7379156B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2010087484A (ja) | デバイス製造方法、制御システム、コンピュータプログラムおよびコンピュータ可読媒体 | |
JP4902685B2 (ja) | ステージシステム、当該ステージシステムを含むリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | |
US7847919B2 (en) | Lithographic apparatus having feedthrough control system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20061208 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100409 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100506 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4511491 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |