JP4509990B2 - マルチレンズアレイのフィールド湾曲を補正するシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
図6aは、本発明の一実施形態にしたがって補正面を提供するために使用可能な第1の構成を示す。図示するように、集束要素アレイ20は、ベースプレート21を備える。複数のレンズ22が、ベースプレート21の第1面21a上に設けられるか、形成されるか、または配置される。ベースプレート21は、焦点要素アレイとともに使用される放射に対して実質的に透明である材料で形成することができる。補正面は、ベースプレート21の第2面21bに適用される。第2面21bは、ベースプレート21の第1面21aの反対側にある。ベースプレート21の第2面21bの元の表面21cを研磨するか、エッチングするか、または機械加工することで、補正面を形成することができる。
図6bは、本発明の別の実施形態にしたがって補正面を集束要素アレイに適用可能である第2の構成を示す。図示するように、集束要素アレイ30はベースプレート31を含む。ベースプレートの第1面31aには、複数のレンズ32が形成されるか、設けられるか、または配置される。ベースプレート31は、使用される放射に対して実質的に透明でああってよい。補正面33aは、補正プレート33の第1面に形成される。補正プレート33は、使用される放射に対して実質的に透明である材料で形成することができる。補正プレートは、ベースプレート31と熱膨張係数が同一である材料で形成することができる。したがって、使用中に発生し得るような集束要素アレイのいかなる加熱によっても、ベースプレート31と補正プレート33の膨張量が異なることにはならず、結果として、集束要素アレイに対する補正面の少なくとも一部の相対移動と、および/または部品内部の応力が発生する。補正プレート33用の材料は、ベースプレート31の材料と実質的に同一の屈折率を有するように選択してもよい。したがって、ベースプレート31と補正プレート33の間の境界における放射の反射を最小限にすることができる。補正プレート33は、ベースプレート31と同一の材料で形成してもよい。
図6cは、本発明のさらに別の実施形態にしたがって補正面を集束要素アレイに適用可能である別の構成を示す。この構成は、図6bに示した実施形態に関して述べたものと類似しており、対応する説明は繰り返さない。この構成では、ベースプレート31と補正プレート33の間の結合が、固定具で置き換えられている。図示の例では、固定具は、補正プレート33をベースプレート31に保持する一つまたは複数のクランプ35である。代替的にまたは追加的に、ボルトおよび/または磁気クランプおよび/または真空クランプなどの他の固定法も利用可能であることは言うまでもない。このような構成では、例えば補正プレートを交換したり修正したりするために、補正プレートの取り外しが容易になる。このような構成では、例えば集束要素アレイをアレイが使用されている装置に取り付けた状態で、補正プレート33を取り外すことが可能になる。ベースプレート31に対する補正プレート33の位置が修正可能となるように、固定具を構成してもよい。これにより、集束要素アレイがアレイを使用している装置に取り付けられた後、ベースプレート31に対する補正プレート33の位置合わせ精度を改善したり、および/またはベースプレート31に対する補正プレート33の位置合わせを修正したりすることが可能になる。
図7は、本発明のさらに別の実施形態にしたがって補正面を集束要素アレイに適用可能である別の構成を示す。図示するように、集束要素42を支持して集束要素アレイを形成するベースプレート41は、補正プレート43の厚さと比較して相対的に薄い。補正プレート43は、ベースプレート41が接続される補正面43aを有する。特に、集束要素42が接続されるか、取り付けられるか、または支持されている面とは反対側の、ベースプレート41の一面41aは、集束要素アレイのベースプレート41が変形して補正面43aの形状と一致するように補正面43aに接続される。集束要素アレイの変形の結果、集束要素に対応する焦点45の相対位置は、焦点が所与の平面44により近付くように調整される。
本発明の別の実施形態によると、集束要素アレイ自身ではなく、集束要素アレイを使用する装置内の別の部品に対して代替的にまたは追加的に補正面を適用することができる。例えば、個別制御可能な要素のアレイが(図2で示したような)リソグラフィ装置の投影系で使用されている場合、投影系内の他の部品に補正面を適用することができる。例えば、投影系内の光学部品L1、AL、L2の一つまたは複数の表面を改良して補正面を組み込むことができる。代替的にまたは追加的に、投影面を組み込んだ追加の光学要素を投影系に採用することができる。このような構成は、反射型集束要素アレイとともに用いるのに特に有益なものとなり得る。これは、例えばほとんどの材料によって容易に吸収されるEUV放射などの放射を用いて作動し、したがって、反射型光学要素とともに通常使用される装置に必要とされうる。このような構成では、投影系内部の既存のリフレクタに容易に補正面を適用することができる。すなわち、既存のリフレクタの形状を改良することができる。代替的にまたは追加的に、補正面を備える一つまたは複数の追加の反射要素を投影系に備えてもよい。
本発明の様々な実施形態について説明したが、それらは例示のみを目的として示されたものであり、限定ではないことを理解すべきである。本発明の趣旨と範囲から逸脱することなく、形態および詳細における様々な変更をなし得ることは、当業者にとって明らかである。したがって、本発明の広がりおよび範囲は、上述の例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、添付の請求項およびそれらの等価物にしたがってのみ定義されるべきである。
Claims (19)
- 放射ビームを調整するパターニング用デバイスと、
調整後の放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系と、を備え、
前記投影系は、
アレイ内の各集束要素が調整後の放射ビームの一部の焦点を基板上に合わせるように構成された、集束要素アレイと、
非平面の補正面であって、前記投影系が調整後の放射ビームを基板上に投影するとき、補正面が平面である場合よりも前記集束要素の焦点の位置を単一平面に近付けるような形状にされた補正面と、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記集束要素アレイは、放射ビームに対して実質的に透明であるベースプレートと、前記ベースプレートの第1面にあるレンズアレイと、を備え、
第1面の反対側である前記ベースプレートの第2面が、前記非平面の補正面を形成するような形状であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記集束要素アレイは、ベースプレートで支持される複数の集束要素と、前記非平面の補正面が形成された補正プレートと、を備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記補正プレートが前記ベースプレートと結合されていることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースプレートと前記補正プレートが放射ビームに対して実質的に透明であり、
前記集束要素は、前記ベースプレートの第1面にあるレンズであり、
前記補正プレートは、第1面の反対側のベースプレートの第2面に結合されていることを特徴とする請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記補正プレートが固定具によって前記ベースプレートと接続されていることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースプレートと前記補正プレートが放射ビームに対して実質的に透明であり、
前記集束要素は、前記ベースプレートの第1面上のレンズであり、
前記非平面の補正面は、前記補正プレートの第1面に形成されており、
前記補正プレートは、第1面と反対側のベースプレートの第2面と、第1面と反対側の補正プレートの第2面とが互いに保持し合うように、前記ベースプレートに固定されることを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ベースプレートは、前記補正面の形状と一致するようにベースプレートが変形するような状態で前記補正面に接続されることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースプレートと前記補正プレートが実質的に同一の熱膨張係数を有することを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースプレートと前記修正プレートが実質的に同一の屈折率を有することを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 非平面の補正面であって、放射ビームが集束要素アレイに入射するとき、補正面が平面である場合よりも、該集束要素アレイ内の各集束要素の焦点の位置が単一平面に近接するような形状とされた補正面を備え、
放射ビームが集束要素アレイに入射するとき、所与の放射波長について、各焦点要素が放射ビームの一部をそれぞれの焦点に合わせることを特徴とする集束要素アレイ。 - 集束要素アレイを備える投影系を使用して調整後の放射ビームを基板上に投影し、
前記集束要素アレイ内の各集束要素を用いて、調整後の放射ビームの一部の焦点を基板上に合わせ、
投影系が調整後の放射ビームを基板上に投影するとき、補正面が平面である場合よりも、集束要素の焦点の位置が単一平面に近付くような形状をした非平面の補正面を使用することを特徴とするデバイス製造方法。 - 放射ビームが集束要素アレイに入射するとき、集束要素アレイの焦点の位置を測定するステップと、
前記測定ステップに基づいて、非平面の補正面の形状を決定するステップであって、集束要素アレイに補正面を適用するとき、前記測定ステップでの位置よりも前記焦点の位置を単一平面に近付けるような補正面の形状を決定するステップと、
前記決定ステップにしたがって形成された補正面を有する集束要素アレイを設けるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 放射ビームに対して実質的に透明であるベースプレートを設け、ベースプレートの第1面にレンズアレイを結合することを含む、集束要素アレイを形成するステップをさらに含み、
前記補正面を有する集束要素アレイを設けるステップは、第1面と反対側のベースプレートの第2面に前記補正面の形状を形成することを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 前記補正面を有する集束要素アレイを設けるステップは、前記補正面の形状を補正プレートに形成し、該補正プレートを前記集束要素アレイに取り付けることを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 各集束要素が調整後の放射ビームのそれぞれの部分の焦点を基板上に合わせるような集束要素のアレイを備える投影系を有するリソグラフィ装置を構成する方法であって、
集束要素アレイが調整後の放射ビームのそれぞれの部分の焦点を合わせる点の位置を測定するステップと、
補正面が投影系に備えられるとき、前記集束要素が調整後の放射ビームのそれぞれの部分の焦点を合わせる点が前記測定ステップでの位置よりも単一平面に近付くように、非平面の補正面の形状を決定するステップと、
前記決定ステップにしたがって形成された補正面を前記投影系に設けるステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記集束要素アレイは、調整後の放射ビームに対して実質的に透明であるベースプレートと、前記ベースプレートの一面上のレンズアレイと、を備え、
前記補正面を投影系に設けるステップは、第1面と反対側のベースプレートの第2面に前記補正面の形状を形成することを含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記補正面を投影系に設けるステップは、補正プレートに前記補正面の形状を形成し、該補正プレートを投影系に取り付けることを含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記補正プレートを投影機に取り付けるステップでは、該補正プレートを集束要素アレイに取り付けることを特徴とする請求項18に記載の方法。
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