JP4509094B2 - 汚染を検出するためのモニタデバイスを有するリソグラフィ装置 - Google Patents
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- リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントが、前記ディテクタとしても作用する水晶モニタまたは表面弾性波ディテクタである、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントが、前記少なくとも第2の放射ビームの放射に対して少なくとも部分的に透明であり、前記少なくとも1つのダミーエレメントが、汚染受け表面のアレイを提供するように構築され、前記少なくとも第2の放射ビームの少なくとも一部が前記アレイのすべての前記汚染受け表面を少なくとも一度通過する、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントが、前記少なくとも第2の放射ビームの放射に対して少なくとも部分的に透明であり、互いに間隔を隔てた複数の汚染受け表面を提供するための複数の前記ダミーエレメントを備え、隣接するダミーエレメントの汚染受け表面が互いに向かい合って配置された、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントが少なくとも2つの放射反射器の間に配置され、該反射器が、前記第2の放射ビームの放射を前記ダミーエレメントを介して互いに向けて反射するようになされた、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面が、前記第2の放射ビームの実質的にすべての放射を反射するように構成された、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ディテクタが電子を検出するように構築された、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記モニタデバイスが、前記ダミーエレメントの温度を制御するための熱コントローラを備えた、リソグラフィ装置。 - 前記熱コントローラが、前記ダミーエレメントの温度を複数のモニタ温度間で循環させるようになされた、請求項7に記載の装置。
- リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される第2の放射ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えており、
前記ダミーエレメントの前記モニタ表面が、前記投影システムの放射受け表面の材料と同じ材料を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板のターゲット部分に第1の放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記装置の内部空間に存在する少なくとも1つの汚染種を検出するための少なくとも1つのモニタデバイスとを備え、
モニタデバイスは、
前記内部空間と接触する少なくとも1つの汚染受け表面を有する少なくとも1つのダミーエレメントと、
前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影される電子ビームまたはイオン化ビームを放出するように構成された少なくとも1つのエミッタと、
前記ダミーエレメントの前記少なくとも1つの汚染受け表面が汚染されたかどうかを検出するように構築されかつ配置されたディテクタとを備えている、
リソグラフィ装置。 - 前記ディテクタが、前記汚染受け表面への前記電子ビームまたはイオン化ビームの投影の結果として前記汚染受け表面により放出されおよび/または反射される二次電子またはイオンを検出するように構築された、請求項10に記載の装置。
- 少なくとも第4の放射ビームを放出するように構成された少なくとも第2のエミッタをさらに備え、前記第4の放射ビームの波長と前記第2の放射ビームの波長が異なり、前記第4の放射ビームが同じく前記ダミーエレメントの前記汚染受け表面の少なくとも一部に投影され、ディテクタが、前記ダミーエレメントにより透過したおよび/または反射した前記第4の放射ビームの一部を受けるようになされ、前記少なくとも第4の放射ビームの放射が、可視光、赤外光、紫外光、深紫外光、極端紫外光およびマイクロ波放射の放射タイプからなるグループから選択される、請求項10に記載の装置。
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