JP4505924B2 - 半導体製造装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、カセットを保持するロードボートとウエハ処理室の間にウエハ搬送システムを配置した半導体製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体製造装置は、例えば図5のように構成されている。
すなわち、カセット1を保持するロードポート2とウエハ処理室3の間にロボット4a、4bを配置するとともに、ロボット4a、4bに、枚葉式でウエハを搬送するための搬送ツール5を固定し、さらに、ロボット4aを走行軸6により直線移動することができるようにしている。
以下、図6を参照しながら、前記ロボット4aがウエハを搬送する手順を説明する。
製造装置を始動すると、ロボット4aは、カセット1より未処理ウエハ(図示せず)を取り出し、バッファスペース7を介してロボット4bに送給する。その後、ウエハはロードロック室8aから、ウエハ処理室3に送られる。ロボット4aは、処理済ウエハをロードロック室8bより取り出し、カセット1へ戻す。そしてまたカセット1より未処理ウエハを取り出す、という動作を繰り返す。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、従来、ロードポートとウエハ処理室間のロボットは枚葉式と呼ばれる方式で1枚ずつウエハを搬送している。しかし、ウエハの大口径化への流れの中、半導体製造装置も大きくなり、それに伴いウエハを搬送する距離も長くなっている。しかし、ウエハ処理の時間に比べ、搬送にかかる時間が多くなるようなことがあればスループットが低下してしまうので、搬送にかかる時間は少ない方がよい。しかしながら、従来技術では、ロボット4aが未処理ウエハを取り出しながら、処理済ウエハを回収する必要があり、搬送時間の短縮化は、ロボット4aの動作性能で制限されていた。
そこで、図7に示すように、ウエハを搬送する時間を減らすために、装置内にロボット4cを1台増やして、未処理ウエハ搬送専用のロボット4cと処理済ウエハ搬送専用のロボット4aを持つ半導体製造装置が考えられている。ただし、ロボットの台数が増えるためコストはあがり、また、同じ走行軸上にロボットが2台存在しており、互いの動きが干渉することがあるので、制御が難しくなるという問題がある。
本発明は、このような問題を解消するためになされたもので、ウェハの搬送にかかる時間を減らし、更にコストのかからない半導体製造装置を提供することを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明は、複数のウエハを収納するカセットと、前記カセットを保持するロードポートと、前記ウエハを枚葉処理するウエハ処理室と、前記ウエハ処理室に送給される未処理の前記ウエハを収容する第1ロードロック室と、前記ウエハ処理室から送給される処理済みの前記ウエハを収容する第2ロードロック室と、前記カセットと前記ウエハ処理室との間で前記ウエハを搬送するウエハ搬送システムと、を備えた半導体製造装置において、前記ウエハ搬送システムは、1つのアームを有し、前記カセットから前記ウエハを取り出す第1ロボットと、前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に脱着可能であって、前記ウエハを1枚保持することができる1段搬送ツールと、前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に脱着可能であって、前記ウエハを複数枚保持することができる多段搬送ツールと、前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に前記1段搬送ツール或いは前記多段搬送ツールを脱着させる搬送ツール交換機構と、前記1段搬送ツールと前記多段搬送ツールとを保管可能なATCラックと、前記第1ロボットが搬送してくる前記未処理のウエハを複数枚収容可能なバッファカセットと、前記バッファカセットが収容する前記未処理のウエハを前記第1ロードロック室に1枚ずつ送給する第2ロボットと、を備え、前記第1ロボットは、前記1段搬送ツールを前記1つのアームの先端に装着して前記第2ロードロック室から前記処理済みのウエハを取り出して前記カセットに戻すとともに、前記バッファカセット内に収容された前記未処理のウエハがなくなったときだけ、前記搬送ツール交換機構によって前記1つのアームの先端を前記多段搬送ツールに交換し、前記カセットから前記未処理のウエハを複数枚同時に取り出して前記バッファカセットに送給すること、を特徴とする半導体製造装置としたものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
図1は本発明の半導体製造装置の実施例を示す斜視図である。
図において、10a、10bはロボットであり、20は走行軸であり、30はカセットであり、40はバッファカセットであり、50a、50bはロードロック室であり、60はウエハ処理室であり、70はATCラックである。
図2を参照しながら、ロボット10aがウエハを搬送する手順を説明する。
内部に未処理ウエハが保持されているカセット30をロードポート31上表面上に配置する。ロボット10aには多段の搬送ツールによって、カセット30から未処理ウエハを複数枚同時に取り出し、バッファカセット40へ未処理ウエハを送給する。ロボットl0bは、1段の搬送ツールで未処理ウエハをバッファカセット40からロードロック室50aに1枚ずつ搬送する。ロボット10aは、ウエハ処理室60でウエハが処理されている間に、ATCラック70に保管されている1段の搬送ツールと多段の搬送ツールとを自動的に交換する。そして、ロードロック室50bから処理済ウエハを取り出し、カセット30に戻す。バッファカセット40内のウエハがなくなるまで、ロボット10aはロードロック室50bとカセット30の往復をする。バッファカセット40内のウエハがなくなったときだけ、搬送ツールを1段のものから多段のものに取り替えて、未処理ウエハをカセット30からバッファカセット40に搬送すればよい。
図3は搬送ツールの交換をする機構の構成を示す断面図である。
ロボット側は、搬送ロボットのアーム12の先端中央部にガイド13が取り付けられている。
また搬送ツール側は、圧縮コイルばね14の両側に配置した1対の搬送ツールストッパ15を、搬送ツールストッパカバ16で上方から覆うことで、搬送ツール11に取り付けている。従って、圧縮コイルばね14の伸縮によって、搬送ツールストッパ15の開閉運動が可能となる。
図4は搬送ツール交換の手順を示す斜視図である。
まず、搬送ツール11をロボットのアーム12に取り付ける手順を説明する。
図1中、ATCラック70近傍にはエアシリンダ71が配置されており、このエアシリンダ71先端で搬送ツールストッパ15を上方から挟み、エアシリンダ71先端を開閉させることにより、搬送ツールストッパ15を開閉させることができる。エアシリンダ71によって搬送ツールストッパ15を閉じた状態で、ロボットアーム12を動作させ、搬送ツールストッパ15がガイド13の切り欠きの奥まで嵌合するまで通し、エアシリンダ71先端を開き、搬送ツールストッパ15を開くと、搬送ツール11とガイド13が結合する。取り外す手順は取付けと同様、搬送ツールストッパ15をエアシリンダ71先端で閉めた状態で、ロボットアーム12を動作させ、搬送ツールストッパ15からガイド13の切り欠きを抜けばよい。
搬送ツール11をガイド13に固定するには、搬送ツールストッパ15とガイド13の接触面にテーパを形成しておくことなどが考えられる。
【0006】
【発明の効果】
本発明の半導体製造装置は、複数枚のウエハを搬送することができるロボットを配置することによって、従来の技術に比べ、カセットとバッファカセット間の往復動作を減らすことができるので、搬送にかかる時間を実質的に減らすことができ、また、ロボットの台数を減らすことができるので、コストがかからないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体製造装置の実施例を示す斜視図である。
【図2】図1に示す本発明の半導体製造装置におけるロボット10aがウエハを搬送する手順を示したフローチャートである。
【図3】本発明の半導体製造装置における搬送ツールの交換をする機構の構成を示す断面図である。
【図4】本発明の半導体製造装置における搬送ツール交換の手順を示す斜視図である。
【図5】従来の半導体製造装置を示す斜視図である。
【図6】図5に示す従来の半導体製造装置におけるロボット4aがウエハを搬送する手順を示したフローチャートである。
【図7】従来の半導体製造装置にバッファカセット7とロボット4cを加えた半導体製造装置を示す図である。
【符号の説明】
10a、l0b ロボット
11 搬送ツール
12 ロボットアーム
13 ガイド
14 圧縮コイルばね
15 搬送ツールストッパ
16 搬送ツールストッパカバ
20 走行軸
30 カセット
31 ロードポート
40 バッファカセット
50a、50b ロードロック室
60 ウエハ処理室
70 ATCラック
71 エアシリンダ
Claims (1)
- 複数のウエハを収納するカセットと、前記カセットを保持するロードポートと、前記ウエハを枚葉処理するウエハ処理室と、前記ウエハ処理室に送給される未処理の前記ウエハを収容する第1ロードロック室と、前記ウエハ処理室から送給される処理済みの前記ウエハを収容する第2ロードロック室と、前記カセットと前記ウエハ処理室との間で前記ウエハを搬送するウエハ搬送システムと、を備えた半導体製造装置において、
前記ウエハ搬送システムは、
1つのアームを有し、前記カセットから前記ウエハを取り出す第1ロボットと、
前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に脱着可能であって、前記ウエハを1枚保持することができる1段搬送ツールと、
前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に脱着可能であって、前記ウエハを複数枚保持することができる多段搬送ツールと、
前記第1ロボットの前記1つのアームの先端に前記1段搬送ツール或いは前記多段搬送ツールを脱着させる搬送ツール交換機構と、
前記1段搬送ツールと前記多段搬送ツールとを保管可能なATCラックと、
前記第1ロボットが搬送してくる前記未処理のウエハを複数枚収容可能なバッファカセットと、
前記バッファカセットが収容する前記未処理のウエハを前記第1ロードロック室に1枚ずつ送給する第2ロボットと、
を備え、
前記第1ロボットは、前記1段搬送ツールを前記1つのアームの先端に装着して前記第2ロードロック室から前記処理済みのウエハを取り出して前記カセットに戻すとともに、前記バッファカセット内に収容された前記未処理のウエハがなくなったときだけ、前記搬送ツール交換機構によって前記1つのアームの先端を前記多段搬送ツールに交換し、前記カセットから前記未処理のウエハを複数枚同時に取り出して前記バッファカセットに送給すること、を特徴とする半導体製造装置。
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JPH10256346A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Tokyo Electron Ltd | カセット搬出入機構及び半導体製造装置 |
JPH11354604A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板移載装置およびそれを用いた基板処理装置 |
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