JP4497014B2 - 偏光分離素子の製造方法 - Google Patents
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上記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンの合成に使用されるアルコキシシランとしては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
次に、上記工程で得られたポリシロキサン材料を含む液体材料を調製する。上記工程で得られたポリシロキサン材料をそのまま液体材料として用いてもよいし、必要に応じてジエチレングリコールエチルエーテルアセテート等の溶剤等を添加してもよい。
本実施形態では、ガラス基板表面上に100〜140nmのピッチを有するワイヤーグリッドタイプのアルミニウムの微細パターンを形成する例を説明する。微細パターンの形成方法は、液体材料に上記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンを含む液体材料を用いるほかは、従来公知のインプリントリソグラフィー法を適用することができる。特に、本実施形態では、上記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンを含む液体材料を用いるため、ナノオーダーの微細パターンを形成するナノインプリントリソグラフィーに適用することが可能である。
1L容スリ付三つ口フラスコに、1Nの水酸化ナトリウム水溶液22.5g(水として1.2mol含有)、テトラヒドロフラン600ml及び表1に示すアルコキシシランの混合物120mmolを加え、60℃で3時間撹拌した後、放冷した。その溶液に1Nの塩酸水溶液22.5mlを添加し、テトラヒドロフランを留去した。そして、トルエン50mlを添加して、溶媒相と水相を分離し、溶媒相を分取して水相を廃棄した。分取した溶媒相を蒸留水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水することにより、籠型ポリシルセスキオキサンを得た。
(1)で得られた1〜8の籠型ポリシルセスキオキサン1.00部に、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート2.00部をそれぞれ混合した。混合した溶液を、ポアサイズ0.2μmのフィルターを用いて濾過した。得られた濾過液に、光重合剤A又はBを0.01部添加し、所望のコーティング液を得た。
アルミ基板をスピンコーターにセットし、そのアルミ基板の表面に上記のコーティング液を塗布した。そして、まず700rpm、5秒の条件でスピンコートを行い、引き続き1200rpm、20秒の条件でスピンコートを行った。これにより、アルミ基板の表面にコーティング液の膜を形成した。このアルミ基板を、150℃に加熱したホットプレートにて3〜5分乾燥した。乾燥後、アルミ基板の表面にメタルハイドレートランプにて5分間光照射し、膜を仮硬化させた。次に、表面に所定の微細パターンが形成されたSiO2/Si製の型を用い、仮硬化した膜に25kgf/cm2の圧力で10分間プレスした。型を取り除いた後、空気雰囲気、常圧で、200℃、3時間加熱を行い、膜を完全硬化させ、所望のパターンが形成されたアルミ基板を得た。そして、ドライエッチング法により、アルミニウム薄膜をエッチングすることにより、100nmのピッチを有するワイヤーグリッドタイプの偏光板を得た。
Claims (2)
- 基板上に金属薄膜を形成する工程と、
下記一般式(1)で示される籠型ポリシルセスキオキサンを含む液体材料を該金属薄膜表面に塗布して液体材料膜を形成する工程と、
該液体材料膜を仮硬化させて仮硬化膜を形成する工程と、
微細パターンが形成された型材により該仮硬化膜に該型材のパターンを転写する工程と、
該被加工材料表面を完全硬化させる工程と、
該金属薄膜をエッチングする工程と、
を備えた偏光分離素子の製造方法。
(式中、R1〜R9すべて同時に又はそれぞれ独立に、メタクリル基、エポキシ基、メチル基、フルオロアルキル基、CF3(CF2)n−R10を意味する。ここで、R10は炭素数1ないし12個の非置換または置換二価炭化水素基を意味し、nは0〜10の整数を意味する。) - 前記籠型ポリシルセスキオキサンは、その主成分が、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシランからなる群から選択される1種又は2種以上である、請求項1記載の偏光分離素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005106253A JP4497014B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 偏光分離素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005106253A JP4497014B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 偏光分離素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006285017A JP2006285017A (ja) | 2006-10-19 |
JP4497014B2 true JP4497014B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=37407002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005106253A Expired - Fee Related JP4497014B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 偏光分離素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4497014B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101180344B (zh) | 2005-03-24 | 2012-01-11 | 株式会社普利司通 | 具有低挥发性有机化合物(voc)释放的配混二氧化硅补强橡胶 |
JP4679388B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2011-04-27 | パナック株式会社 | 離型性を有する積層体およびその製造方法 |
JP4983262B2 (ja) * | 2007-01-10 | 2012-07-25 | Jnc株式会社 | ナノインプリント用組成物 |
JP5189772B2 (ja) | 2007-02-09 | 2013-04-24 | 昭和電工株式会社 | 微細パターン転写材料 |
US7915368B2 (en) * | 2007-05-23 | 2011-03-29 | Bridgestone Corporation | Method for making alkoxy-modified silsesquioxanes |
US8501895B2 (en) | 2007-05-23 | 2013-08-06 | Bridgestone Corporation | Method for making alkoxy-modified silsesquioxanes and amino alkoxy-modified silsesquioxanes |
JP2009010271A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Showa Denko Kk | 微細パターンの形成方法および微細パターン形成用組成物 |
US20110129689A2 (en) * | 2007-11-30 | 2011-06-02 | Showa Denko K.K. | Curable composition for transfer materials and method for forming micropattern using the curable composition |
US8962746B2 (en) | 2007-12-27 | 2015-02-24 | Bridgestone Corporation | Methods of making blocked-mercapto alkoxy-modified silsesquioxane compounds |
US8513371B2 (en) | 2007-12-31 | 2013-08-20 | Bridgestone Corporation | Amino alkoxy-modified silsesquioxanes and method of preparation |
US8794282B2 (en) | 2007-12-31 | 2014-08-05 | Bridgestone Corporation | Amino alkoxy-modified silsesquioxane adhesives for improved metal adhesion and metal adhesion retention to cured rubber |
JP2010013513A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物、並びに、液晶表示装置用部材 |
JP2010155439A (ja) * | 2009-01-05 | 2010-07-15 | Asahi Kasei Corp | 凹凸パターンを有するポリマーシートの製造方法 |
JP5448649B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2014-03-19 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
US8642691B2 (en) | 2009-12-28 | 2014-02-04 | Bridgestone Corporation | Amino alkoxy-modified silsesquioxane adhesives for improved metal adhesion and metal adhesion retention to cured rubber |
JP5983151B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2016-08-31 | Dic株式会社 | ドライエッチングレジスト材料、レジスト膜及びパターン形成物 |
JP6084055B2 (ja) * | 2013-02-05 | 2017-02-22 | 東京応化工業株式会社 | インプリントによるパターン形成方法 |
JP6772143B2 (ja) | 2014-12-31 | 2020-10-21 | 株式会社ブリヂストン | 合金鋼をゴムに接着するためのアミノアルコキシ変性シルセスキオキサン接着剤 |
JP6779235B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2020-11-04 | リンテック株式会社 | 硬化性組成物、硬化性組成物の製造方法、硬化物、硬化性組成物の使用方法、および光デバイス |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000131522A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 偏光子とその製造方法及びこれを用いた導波型光デバイス |
JP2000334881A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-05 | Konica Corp | かご状シルセスキオキサン含有皮膜 |
JP2003100609A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Japan Science & Technology Corp | Sogを用いた室温ナノ−インプリント−リソグラフィー |
JP2004143449A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-05-20 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 官能基を有するかご型シルセスキオキサン樹脂とその製造方法 |
WO2004081085A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-23 | Chisso Petrochemial Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
-
2005
- 2005-04-01 JP JP2005106253A patent/JP4497014B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000131522A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 偏光子とその製造方法及びこれを用いた導波型光デバイス |
JP2000334881A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-05 | Konica Corp | かご状シルセスキオキサン含有皮膜 |
JP2003100609A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Japan Science & Technology Corp | Sogを用いた室温ナノ−インプリント−リソグラフィー |
JP2004143449A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-05-20 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 官能基を有するかご型シルセスキオキサン樹脂とその製造方法 |
WO2004081085A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-23 | Chisso Petrochemial Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006285017A (ja) | 2006-10-19 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070702 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100212 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A521 | Written amendment |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |