JP4469178B2 - 光硬化性有機ポリマー組成物 - Google Patents

Description

本発明は光硬化性有機ポリマー組成物に関し、詳しくは、電子線等の光エネルギーの照射により速やかに硬化して、防湿性を有する硬化物を形成し、エージング後、接着性を発現する光硬化性有機ポリマー組成物に関する。

光硬化性有機ポリマー組成物は、電子線等の光放射により速やかに硬化することから、電子部品のコーティング剤等に使用されている。例えば、特開昭６１−１２７７１８号公報（米国特許第４５２８０８１号明細書）には、トリメチルシリル末端基を有するシリコーンオイル、光増感剤、および縮合反応用触媒を含有する反応性ポリオルガノシロキサンからなる硬化性ポリオルガノシロキサン組成物が開示されている。前記の反応性ポリオルガノシロキサンは、前記の縮合反応用触媒の存在下での、シラノール基封鎖ポリオルガノシロキサンとアクリルトリアルコキシシランあるいはアクリルトリアリルオキシシランの反応により得られる。さらに、特開平６−３２９８５号公報（米国特許第５３７１１１６号明細書）には、シラノール基封鎖ポリオルガノシロキサン、メタアクリル官能性アルコキシシラン、錫系化合物、アルコキシ−α−シリルエステル、光重合開始剤、および硬化触媒からなる光硬化性の硬化性ポリオルガノシロキサン組成物が開示されている。

しかし、これらの光硬化性ポリオルガノシロキサン組成物は、十分な耐湿性を与えることができず、そのため、前記組成物によりコーティングされた電子部品が高湿度雰囲気下で使用される場合には、電気回線が腐食してしまう。

また、アルコキシシラン等の接着促進剤を含有する光硬化性有機ポリマー組成物により電子部品をコーティングすることも知られているが、接着性が乏しく、電子部品を腐食から十分に保護できない。
特開昭６１−１２７７１８号公報 特開平６−３２９８５号公報

本発明の目的は、紫外線、電子線等の光照射により速やかに硬化して、防湿性を有する硬化物を形成し、エージング後、接着性を発現する光硬化性有機ポリマー組成物を提供することにある。

本発明の光硬化性有機ポリマー組成物は、
（Ａ）一分子中に少なくとも１個の水酸基を有する液状有機ポリマー、
（Ｂ）放射線硬化性アルコキシシラン、
（Ｃ）縮合反応用触媒、および
（Ｄ）光重合開始剤
から少なくともなる。

また、本発明の光硬化性有機ポリマー組成物は、
（Ｆ）一分子中の少なくとも１個の水酸基が放射線硬化性アルコキシシロキシ基で置換された液状有機ポリマー、および
（Ｄ）光重合開始剤
から少なくともなる。

液状有機ポリマー（Ａ）は、一分子中に少なくとも１個の水酸基を有するが、本組成物の主成分である。（Ａ）成分の２５℃における粘度について、特に限定はないが、その粘度が１０〜１,０００,０００mPa・sの範囲内であり、好ましくは、５０〜１００,０００mPa・sの範囲内であることが推奨される。上記の液状有機ポリマー（Ａ）のタイプについても、一分子中に少なくとも１個の水酸基を有していれば、特に限定はない。例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール共重合体、ポリエチレングリコール・ポリブチレングリコール共重合体、およびこれらの水添物である。

（Ａ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を５０〜９５重量％の範囲内となる量、好ましくは、７０〜９０重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ａ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、組成物から形成される硬化物の機械的強度が低下する。また、（Ａ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、得られる組成物の光硬化性が低下する傾向がある。

（Ｂ）成分は、本組成物に光硬化性を付与するために用いられる。（Ｂ）成分は少なくとも１個の放射線硬化性基を有する放射線硬化性アルコキシシランである。そのアルコキシシランは、次の一般式：
Ｒ'_xＳi(ＯＲ")_(4-X)
で示される。

上式中、ｘは１または２であり、好ましくは、１である。Ｒ'は、一価炭化水素基、およびアクリロキシ基、メタクリロキシ基およびエポキシ基からなる群より選択される放射線硬化性基からなる群より独立して選択され、但し、少なくとも１個のＲ'は放射線硬化性基である。Ｒ'の一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；クロロメチル基、３−クロロプロピル基、３,３,３−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が例示される。Ｒ'のアクリロキシ基としては、アクリロキシメチル基、アクリロキシエチル基、γ−アクリロキシプロピル基が例示される。Ｒ'のメタクリロキシ基としては、メタクリロキシメチル基、メタクリロキシエチル基、γ−メタクリロキシプロピル基が例示され、好ましくは、γ−アクリロキシプロピル基、γ−メタクリロキシプロピル基である。Ｒ'のエポキシ基としては、１,２−エポキシエチル基、２,３−エポキシプロピル基、３,４−エポキシブチル基、５,６−エポキシヘキシル基、９,１０−エポキシデシル基、グリシドキシメチル基、α−グリシドキシエチル基、β−グリシドキシエチル基、α−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、２−(３,４−エポキシシクロヘキシ)エチル基、３−(３,４−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、３,４−エポキシシクロヘキシルブチル基が例示される。Ｒ"はアルキル基である。Ｒ"のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。入手可能であり、費用や反応性の点から、メトキシシラン、エトキシシランが最も好ましい。

（Ｂ）成分のアクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有アルコキシシランは、次の一般式：

で示される。

上式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基であり、好ましくは、水素原子である。Ｒ²は炭素数１〜１０の二価炭化水素基である。そのような二価炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基等のアルキレン基；フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基等のアリーレン基；ベンジレン基、フェネチレン基等のアリーレンアルキレン基が例示される。Ｒ²の最も好ましい基は、メチレン基、エチレン基、またはプロピレン基である。Ｒ³は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；クロロメチル基、３−クロロプロピル基、３,３,３−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の一価炭化水素基である。上記の一価炭化水素基は置換されていても非置換であってもよい。上式中、Ｒ⁴は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基である。上式中、ａは０または１である。

このアルコキシシランとしては、次の式で例示される。

（Ｂ）成分のエポキシ基含有アルコキシランとしては、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが例示され、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが好ましく、特に、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが好ましい。

（Ｂ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を１〜５０重量％の範囲内となる量、好ましくは、５〜３０重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｂ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られる組成物の硬化性が低下する傾向がある。また、（Ｂ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物から得られる硬化物の機械的強度が低下する。

（Ｃ）縮合反応用触媒は、上記（Ａ）成分中の水酸基と上記（Ｂ）成分中のケイ素原子結合アルコキシ基との縮合反応を促進したり、本組成物から得られる硬化物に接着性を付与する。（Ｃ）成分としては、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレートエステル、スタナスオクトエート等の錫化合物；テトラブチルチタネート、ジイソプロポキシ−ビス(アセチルアセトネート)チタン、ジイソプロポキシ−ビス(エチルアセトアセテート)チタン等のチタン化合物が例示される。

（Ｃ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を０.００１〜１０重量％の範囲内となる量、好ましくは、０.０１〜２重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｃ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られる組成物の硬化性が低下したり、また硬化後の接着性が低下する傾向がある。また、（Ｃ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物の貯蔵安定性が低下する。

（Ｄ）光重合開始剤は、本組成物の光重合反応を促進するために用いられる成分である。この成分としては、ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤、またはそれらの混合物が例示される。そのラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル−α−ヒドロキシケトン、α−アミノケトン、ビス−アシルフォスフィンオキサイド、およびこれらの誘導体が例示される。そのカチオン光重合開始剤としては、オニウム塩、スルホン酸のジアリルヨウドニウム塩、スルホン酸のトリアリルスルホニウム塩、ホウ酸のジアリルヨウドニウム塩、ホウ酸のトリアリルスルホニウム塩が例示される。上記の光重合開始剤は、二種以上を組み合わせて使用することができる。

（Ｄ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を０.０１〜２０重量％の範囲内となる量、好ましくは、０.１〜１０重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｄ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られる組成物の光硬化性が低下する傾向がある。また、（Ｄ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物から得られる硬化物の機械的特性が低下する。

本組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、および（Ｄ）成分からなる。必要に応じて、接着促進剤を任意の成分（Ｅ）として添加することができる。（Ｅ）成分として好適な化合物として、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有アルコキシシラン；カルバシラトラン誘導体、シラトラン誘導体が例示される。カルバシラトラン誘導体は、限定されないが、次の式で例示される。

シラトラン誘導体は、限定されないが、次の式で例示される。

例えば、特開平１０−１９５０８５号公報に開示されているように、上記のカルバシラトラン誘導体は、アルコールの存在下でアミノ基含有アルコキシシランとエポキシ基含有アルコキシシランとのを反応させることにより調製することができる。さらに、例えば、特開平１０−１８２６６９号公報、特開平１１−１１６５８４号公報（米国特許第５９３６１１０号明細書）、および特開平１１−２７９１８２号公報（米国特許第５９４５５５５号明細書）に開示されているように、上記のシラトラン誘導体は、エポキシ基含有アルコキシシラン化合物とヒドロキシアミン化合物またはアンモニアとの反応、あるいはエポキシ化合物とアルコキシシラン化合物とアンモニアまたはアミン化合物との反応により調製することができる。

（Ｅ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を１５重量％以下となる量、好ましくは、０.５〜１０重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｅ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物から得られる硬化物の機械的特性が低下する。

組成物の流動特性を制御したり、上記の組成物から得られる硬化物の機械的強度や耐熱性等を向上させるため、本組成物に、本発明の目的を損なわない範囲で充填剤を含有することができる。このような充填剤としては、乾式法シリカ、湿式法シリカ、石英微粉末、珪藻土等のシリカ；固体状シリコーンレジン；酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウム、アルミナ等の金属酸化物；希土類水酸化物、水酸化アルミニウム、カーボンブラック、グラファイト、炭化ケイ素、マイカ、タルク、顔料、防かび剤、抗菌剤が例示される。

さらに、光硬化性有機ポリマー組成物について詳細に説明する。
（Ｆ）液状有機ポリマーは、一分子中の少なくとも１個の水酸基が放射線硬化性アルコキシシロキシ基によって置換されている。そのアルコキシシロキシ基は、次の一般式：
Ｒ'_xＳi(ＯＲ")_(3-X)−Ｏ−
で示される。

上式中、ｘは１または２であり、好ましくは、１である。Ｒ'は、一価炭化水素基、およびアクリロキシ基、メタクリロキシ基およびエポキシ基からなる群より選択される放射線硬化性基からなる群より独立して選択され、但し、少なくとも１個のＲ'は放射線硬化性基である。その一価炭化水素基としては、前記と同様である。そのアクリロキシ基としては、前記と同様である。そのメタクリロキシ基としては、前記と同様である。そのエポキシ基としては、前記と同様である。Ｒ"はアルキル基である。そのアルキル基としては、前記と同様であり、好ましくは、メチル基である。

上式中、好ましいＲ'はアクリロキシ基またはメタクリロキシ基である。そのアクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有アルコキシシロキシ基は、次の一般式：

で示される。

上式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基であり、好ましくは、水素原子である。Ｒ²は炭素数１〜１０の二価炭化水素基であり、前記と同様であり、好ましくは、アルキレン基である。Ｒ³は前記と同様の一価炭化水素基である。Ｒ⁴は前記と同様のアルキル基である。ａは０または１である。前記の（Ｆ）成分の原料として用いられる液状有機ポリマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール共重合体、ポリエチレングリコール・ポリブチレングリコール共重合体、およびこれらの水添物が例示され、一分子中に少なくとも１個の水酸基を有するものであれば、これら例示に限定されず、同様の化合物を用いることができる。

上記の（Ｆ）成分を調製する方法について、特に限定はないが、（Ｃ）成分の縮合反応用触媒の存在下で、（Ａ）成分の一分子中に少なくとも１個の水酸基を有する液状有機ポリマーと（Ｂ）成分の放射線硬化性アルコキシシランを縮合反応させることにより、この成分を調製することが推奨される。

上記の方法において、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、および（Ｃ）成分は前記と同様である。その反応条件について、特に限定はないが、その反応は室温乃至５０℃で行うことが推奨される。（Ａ）成分、（Ｂ）成分、および（Ｃ）成分の添加量について、特に限定はないが、（Ａ）成分は、上記各成分の合計に対して５０〜９５重量％の範囲内となる量、好ましくは、７０〜９０重量％の範囲内となる量を添加することが推奨される。（Ｂ）成分の添加量は、上記各成分の合計に対して１〜５０重量％の範囲内となる量、好ましくは、５〜３０重量％の範囲内となる量であることが推奨される。（Ｃ）成分は、上記各成分の合計に対して０.００１〜１０重量％の範囲内となる量、好ましくは、０.０１〜２重量％の範囲内となる量で添加することが推奨される。（Ａ）成分の添加量が上記範囲の下限未満であると、組成物から得られる硬化物の機械的強度が低下する。また、（Ａ）成分の添加量が上記範囲の上限を超えると、得られる有機ポリマーの光硬化性が低下する。（Ｂ）成分の添加量が上記範囲の下限未満であると、得られる有機ポリマーの光硬化性が低下する。また、（Ｂ）成分の添加量が上記範囲の上限を超えると、光硬化性有機ポリマー組成物から得られる硬化物の機械的強度が低下する。（Ｃ）成分の添加量が上記範囲の下限未満であると、縮合反応を十分に促進することが難しくなる。また、（Ｃ）成分の添加量が上記範囲の上限を超えると、得られる有機ポリマーの安定性が低下する傾向がある。上記の方法により調製される（Ｆ）成分には、未反応の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、および（Ｃ）成分を含有していてもよい。

（Ｆ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を本組成物の８０〜９９.９９重量％の範囲内となる量、好ましくは、９０〜９９.９重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｆ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、組成物から形成される硬化物の機械的強度が低下する。また、この成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、得られる組成物の光硬化性が低下する。

（Ｄ）成分である光重合開始剤は、本組成物の光重合反応を促進するために用いられる。（Ｄ）成分としては、前記と同様の光重合開始剤である。この光重合開始剤は、二種以上組み合わせて使用することができる。

（Ｄ）成分の含有量について、特に限定はないが、この成分を本組成物の０.０１〜２０重量％の範囲内となる量、好ましくは、０.１〜１０重量％の範囲内となる量で用いることが推奨される。（Ｄ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、得られる組成物の光硬化性が低下する。また、この成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物から形成される硬化物の機械的特性が低下する。

本組成物は、（Ｆ）成分および（Ｄ）成分からなる。必要に応じて、任意の成分（Ｅ）を接着促進剤として用いることができる。（Ｅ）成分としては、前記と同様の接着促進剤が例示される。（Ｅ）成分の含有量について、特に限定はないが、その含有量が１５重量％以下となる量、好ましくは、０.５〜１０重量％の範囲内となる量を用いることが推奨される。この成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、組成物から形成される硬化物の機械的特性が低下する。

組成物の流動特性を制御したり、上記の組成物から得られる硬化物の機械的強度や耐熱性等を向上させるため、本組成物に、本発明の目的を損なわない範囲で充填剤を含有することができる。このような充填剤としては、前記と同様である。

本発明の光硬化性液状ポリマー組成物は、紫外線、電子線等の照射により速やかに硬化して、防湿性を有する硬化物を形成できる。その後のエージングにより、硬化物は接着性を発現する。このエージング方法について、特に限定はないが、一般に、エージングは、加熱、あるいは室温で保持することにより行われる。

本発明の光硬化性有機ポリマー組成物を実施例、比較例により詳細に説明する。なお、粘度は２５℃における値である。

［実施例１］
分子鎖両末端が水酸基で封鎖された、粘度６０００mPa・sの液状ポリブタジエン（出光石油化学株式会社製のＰｏｌｙ ｂｄ Ｒ−４５ＨＴ）１００重量部、式：

で示される有機ケイ素化合物１５重量部、およびジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン０.２重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン２重量部、メチルトリメトキシシラン２重量部、式：

で示されるカルバシラトラン誘導体２重量部を混合して光硬化性ポリブタジエン組成物を調製した。

上記の光硬化性ポリブタジエン組成物をアルミニウム板、ガラス板、あるいは銅板上の塗布し、高圧水銀灯により、３J/cm²照射して硬化させた。その後、被覆された板を、２３℃、５５％の条件下で１週間静置し、上記の披着体に対するポリブタジエン硬化物の接着性を観察した。これらの結果を表１に示した。また、上記の光硬化性ポリブタジエン組成物をフッ素樹脂板上の塗布し、高圧水銀灯により、３J/cm²照射して硬化させた。その後、被覆された板を、２３℃、５５％の条件下で１週間静置した。その後、得られた厚さ１mmのポリブタジエン硬化物シートのＪＩＳ Ｋ ６２５３に規定のタイプＥデュロメータ硬さを測定した。また、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に規定の透湿カップ方法に準じて、４０℃、相対湿度９０％での透湿度を測定した。それらの結果を表１に示した。

［実施例２］
分子鎖両末端が水酸基で封鎖された、粘度６０００mPa・sの液状ポリブタジエン（出光石油化学株式会社製のＰｏｌｙ ｂｄ Ｒ−４５ＨＴ）１００重量部、式：

で示される有機ケイ素化合物１５重量部、およびジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン０.２重量部を室温１６時間混合した。その結果、分子中の水酸基の一部を、式：

で示される基で置換した液状ポリブタジエンを調製した。

次に、この液状ポリブタジエンに、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン２重量部を混合して光硬化性ポリブタジエン組成物を調製した。得られた組成物の接着性を試験し、またポリブタジエン硬化物の硬さを測定した。それらの結果を表１に示した。

［実施例３］
実施例２の組成物に、メチルトリメトキシシラン２重量部、式：

で示されるカルバシラトラン誘導体２重量部を付加的に混合して光硬化性ポリブタジエン組成物を調製した。

得られた光硬化性ポリブタジエン組成物の接着性、ポリブタジエン硬化物の硬さ、および透湿度について試験した。これらの試験および測定は実施例１と同様にして行った。それらの結果を表１に示した。

［実施例４］
実施例３において、実施例３のポリブタジエンの代わりに、分子鎖両末端が水酸基で封鎖された、粘度８０００mPa・sの液状ポリイソプレン（出光石油化学株式会社製のＰｏｌｙ ｉｐ）を用いた以外は同様にして光硬化性ポリイソプレン組成物を調製した。得られた光硬化性ポリイソプレン組成物の接着性、ポリイソプレン硬化物の硬さ、および透湿度について試験した。これらの試験および測定は実施例１と同様にして行った。それらの結果を表１に示した。

［比較例１］
粘度２０００mPa・sのポリジメチルシロキサン１００重量部、式：

で示される有機ケイ素化合物２重量部、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン０.２重量部、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン２重量部を混合して光硬化性ポリジメチルシロキサン組成物を調製した。得られたポリジメチルシロキサン組成物の接着性、ポリジメチルシロキサン硬化物の硬さ、および透湿度について試験した。これらの試験および測定は実施例１と同様にして行った。それらの結果を表１に示した。

［比較例２］
分子鎖両末端の水酸基をアクリル酸でエステル化した、粘度４０００mPa・sのポリブタジエン（大阪有機化学株式会社製のＢＡＣ−４５）１００重量部、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン０.２重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン２重量部、メチルトリメトキシシラン２重量部、式：

で示されるカルバシラトラン誘導体２重量部を混合して光硬化性ポリブタジエン組成物を調製した。

得られた光硬化性ポリブタジエン組成物の接着性、ポリブタジエン硬化物の硬さ、および透湿度について試験した。それらの結果を表１に示した。

本発明の光硬化性液状ポリマー組成物は、紫外線、電子線等の照射により速やかに硬化して、防湿性を有する硬化物を形成することができ、エージング後、硬化物が接着性を発現するという効果がある。上記の特徴のため、本組成物は、種々の部材の製造、種々の部材のコーティング剤、ポッティング剤として用いることができる。特に、本組成物は、電気回路を保護するためのコーティング剤、ポッティング剤として好適である。また、本組成物は、紫外線、電子線等の照射により速やかに硬化することから、液晶パネル等の耐熱性の低い電気部品のコーティング剤、接着剤として好適である。

Claims (7)

1. （Ａ）一分子中に少なくとも１個の水酸基を有する、液状ポリブタジエンまたは液状ポリイソプレン、
   （Ｂ）一般式：
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ ² は炭素数１〜１０の二価炭化水素基であり、Ｒ ³ は独立した一価炭化水素基であり、Ｒ ⁴ は独立したアルキル基であり、ａは０または１である。）
   で示される放射線硬化性アルコキシシラン、
   （Ｃ）縮合反応用触媒、および
   （Ｄ）ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル−α−ヒドロキシケトン、α−アミノケトン、ビス−アシルフォスフィンオキサイド、またはこれらの誘導体から選ばれる光重合開始剤
   からなることを特徴とする光硬化性有機ポリマー組成物。
2. （Ａ）成分の含有量が５０〜９５重量％であり、（Ｂ）成分の含有量が１〜５０重量％であり、（Ｃ）成分の含有量が０.００１〜１０重量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０.０１〜２０重量％である、請求項１記載の光硬化性有機ポリマー組成物。
3. （Ｆ）（Ａ）一分子中に少なくとも１個の水酸基を有する、液状ポリブタジエンまたは液状ポリイソプレンと
   （Ｂ）一般式：
   

   

   （式中、Ｒ ¹ は水素原子またはメチル基であり、Ｒ ² は炭素数１〜１０の二価炭化水素基であり、Ｒ ³ は独立した一価炭化水素基であり、Ｒ ⁴ は独立したアルキル基であり、ａは０または１である。）
   で示される放射線硬化性アルコキシシランを
   （Ｃ）縮合反応用触媒の存在下で縮合反応させてなる、
   一分子中に少なくとも１個の放射線硬化性アルコキシシロキシ基を有する、液状ポリブタジエンまたは液状ポリイソプレン、および
   （Ｄ）ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンジル−α−ヒドロキシケトン、α−アミノケトン、ビス−アシルフォスフィンオキサイド、またはこれらの誘導体から選ばれる光重合開始剤
   からなることを特徴とする光硬化性有機ポリマー組成物。
4. （Ｆ）成分の含有量が８０〜９９.９９重量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０.０１〜２０重量％である、請求項３記載の光硬化性有機ポリマー組成物。
5. さらに、（Ｅ）接着促進剤を含有する、請求項１または３の光硬化性有機ポリマー組成物。
6. （Ｅ）成分の含有量が１５重量％以下である、請求項５の光硬化性有機ポリマー組成物。
7. コーティング剤、ポッティング剤、または接着剤である、請求項１または３の光硬化性有機ポリマー組成物。