JP4440688B2 - レーザ描画装置、レーザ描画方法及びフォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係るレーザ描画装置は、フォトマスク等を製造する際にレジスト上に所望のパターンを描画する装置である。
そして、本発明に係るレーザ描画装置は、図5に示すように、描画ヘッド1とは別個に、露光対象物となる基板101に膜厚測定用光束Mを照射する光学ヘッド25を設けて構成してもよい。
2 出射レンズ
3 光源
4 変調素子
5 偏向素子
6 移動ステージ
24 膜厚測定回路
25 光学ヘッド
101 基板
102 レジスト膜
Claims (9)
- 表面部にレジスト膜が形成された露光対象物に露光用光束を照射する描画ヘッドと、
前記露光対象物上における前記露光用光束の照射位置を移動させる走査手段と、
前記露光対象物からの前記露光用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定する膜厚測定手段と、
予め設定された描画パターン及び前記膜厚測定手段による測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させる変調手段と、を備え、
前記露光用光束に基づいて前記レジスト膜の膜厚が測定されるとともに、描画が行われることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスク用レーザ描画装置。 - 前記露光対象物からの前記露光用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定する膜厚測定は、予め算出された、出射される露光用光束の変調強度に応じた、反射光の強度と膜厚との関係に基づき行われることを特徴とする請求項1に記載の大型フォトマスク用レーザ描画装置。
- 表面部にレジスト膜が形成された露光対象物に露光用光束を照射する描画ヘッドと、
前記露光対象物に膜厚測定用光束を照射する光学ヘッドと、
前記露光対象物上における前記露光用光束及び前記膜厚測定用光束の照射位置を移動させる走査手段と、
前記露光対象物からの前記膜厚測定用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定する膜厚測定手段と、
予め設定された描画パターン及び前記膜厚測定手段による測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させる変調手段と、を備え、
前記露光対象物に対して前記露光用光束を照射させながら前記膜厚測定用光束が照射され、且つ前記露光対象物において前記露光用光束が照射される位置に、この露光用光束に先行して前記膜厚測定用光束が照射されることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスク用レーザ描画装置。 - 前記露光対象物上における前記露光用光束の照射位置と、前記露光対象物上における前記膜厚測定用光束の照射位置との間隔は、10mm以下となされていることを特徴とする請求項3記載のレーザ描画装置。
- 前記レーザ描画装置に使われる描画方式はラスタスキャン方式であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の、少なくとも一辺が300mm以上の大型マスク用レーザ描画装値。
- 表面部にレジスト膜が形成された露光対象物に描画ヘッドにより露光用光束を照射し、
前記露光対象物上における前記露光用光束の照射位置を移動させ、
前記レジスト膜を描画するとともに前記露光対象物からの前記露光用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定し、
予め設定された描画パターン及び前記レジスト膜の膜厚の測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスク用レーザ描画方法。 - 表面部にレジスト膜が形成された露光対象物に描画ヘッドにより露光用光束を照射させながら、前記露光対象物に膜厚測定用光束を照射し、
前記露光対象物上において、前記膜厚測定用光束が、前記露光用光束が照射される位置にこの露光用光束に先行して照射されるように、前記露光対象物上における前記露光用光束及び前記膜厚測定用光束の照射位置を移動させ、
前記露光対象物からの前記膜厚測定用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定し、
予め設定された描画パターン及び前記レジスト膜の膜厚の測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスク用レーザ描画方法。 - 表面部にレジスト膜を有するフォトマスクブランクに描画ヘッドにより露光用光束を照射し、
前記フォトマスクブランク上における前記露光用光束の照射位置を移動させ、
前記レジスト膜を描画するとともに前記フォトマスクブランクからの前記露光用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定し、
予め設定された描画パターン及び前記レジスト膜の膜厚の測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスクの製造方法。 - 表面部にレジスト膜を有するフォトマスクブランクに描画ヘッドにより露光用光束を照射させながら、前記フォトマスクブランクに膜厚測定用光束を照射し、
前記フォトマスクブランク上において、前記膜厚測定用光束が、前記露光用光束が照射される位置にこの露光用光束に先行して照射されるように、前記フォトマスクブランク上における前記露光用光束及び前記膜厚測定用光束の照射位置を移動させ、
前記フォトマスクブランクからの前記膜厚測定用光束の反射光束に基づいて、前記レジスト膜の膜厚を測定し、
予め設定された描画パターン及び前記レジスト膜の膜厚の測定結果に基づいて、前記露光用光束の強度を変調させることを特徴とする少なくとも一辺が300mm以上の大型フォトマスクの製造方法。
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