JP4437603B2 - アルカリ現像型感光性ペースト組成物 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は、電子材料分野においてますます高まっている高密度化、ファインライン化に対応した、フォトリソグラフィー法で好適にパターン形成することが可能な導体および誘電体形成材料に関する。さらに詳細には、本発明は回路基板上などに導体/誘電体パターンを形成するうえで、従来実現されていなかった高膜厚でのファインパターンの形成を可能とする導体および誘電体形成材料を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、Ag、Cu等の金属粉末、または黒色ガラス等の隠ぺい力の高い粉末を用いたペーストが、基板上への導体および誘電体パターン形成のために使用されている。しかしながら、かかるペーストを使用した場合、フォトリソグラフィー法によるパターン形成において、焼成後の膜厚を20μm以上の高い膜厚にすると、解像度が不充分になることが避けられなかった。
【0003】
たとえば、特開平05−67405号公報に記載の発明では、グリシジルメタクリレート付加体をバインダーとして、光重合開始剤にフェニルケトン系開始剤のみを用いているが、この様な短波長のみに吸収波長を持つ開始剤が使用される場合においては、高膜厚で隠蔽力の強い系におけるパターン形成は、非常に困難である。
【0004】
また、特開平11−43501号公報においては、カルボキシル基を含有しないセルロース誘導体樹脂をバインダーとして、光重合開始剤に、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドとジメチルベンジルケタールの組み合わせを用いることが実施例に開示されている。この場合、水現像可能であるといった利点はあるものの、アルカリエッチングのような高解像度を得ることはできない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このように、高膜厚であっても高解像度が得られ、ファインパターン形成を可能とする導体/誘電体形成材料は、これまでに提案されていない。本発明はかかる現状に鑑みてなされたものであり、特定の感光性バインダー系を所定量配合して、従来に見られない高効率の光重合開始が可能な組成物を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記の目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、
a)無機粉末40〜97重量部、
b)カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂0.5〜30重量部、
c)光反応性モノマー0.5〜30重量部、
d)光重合開始剤0.2〜20重量部、および
e)有機溶媒1〜30重量部
を含むアルカリ現像型ペースト組成物を用いることで、基板上に高膜厚で適用した場合にあっても優れたライン形成、すなわち、導体/誘電体の微細なパターン形成が可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
前記カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂(b)として、好ましくは、以下の化学式I:
【0008】
【化3】
【0009】
[式I中、R1は同じでも異なっていてもよく、水素原子、C1〜C4のアルキル基、−OCR2COOH(R2は、C2〜C4のアルキル基、フェニル基もしくはシクロヘキシル基を表す)、−C3H6OH、−C2H4OHまたは−COCH3を表し、グルコースユニットあたり少なくとも0.1モルの−OCR2COOHを含む]に示すカルボキシル基含有セルロース誘導体、当該カルボキシル基含有セルロース誘導体のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート付加体、または当該カルボキシル基含有セルロース誘導体のグリシジルメタクリレート付加体が選択される。また、前記カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂(b)として、以下の化学式II:
【0010】
【化4】
【0011】
[式II中、R3は、水素原子もしくはCH3を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、R4は、C1〜C18のアルキル基、フェニル基もしくはアリールアルキル基を表し、l、mおよびnは1以上の整数を表す]に示すカルボキシル基含有アクリル系樹脂、または
化学式IIに示す化合物にグリシジル(メタ)アクリレートが付加された、カルボキシル基とメタクリロイル基とを含有する樹脂も好ましい。これらのバインダー樹脂を用いれば、特に上記無機粉末を高膜厚でファインパターン形成させることができる点で好ましい。
【0012】
また、上記アルカリ現像型ペースト組成物において、前記光重合開始剤(d)は、アシルホスフィンオキシド基を含有するものを単独で、またはアシルホスフィンオキシド基を含有するものとフェニルケトン基含有開始剤とを併用系として使用することができる。この系は、光の吸収波長帯が広く量子収率が高いため、高膜厚の場合においても深部まで効率よく硬化させることができ、結果として良好な解像度を得ることができる。
【0013】
さらに、前記無機粉末(a)として、Au、Ag、Cu、Pd、Pt、Ni、Al、W、MoおよびMnの金属粉末からなる群より選択される少なくとも1種以上を選択すると、導体を形成するためのペースト組成物とすることができ、また、Si、Pb、B、Zn、Al、Ca、MgおよびBaの酸化物の1種以上、またはかかる金属酸化物の1種以上を構成成分として含有するガラス粉末の少なくとも1種以上を選択すると、誘電体層を形成するためのペースト組成物とすることができる。そして、前記無機粉末として、Au、Ag、Cu、Pd、Pt、Ni、Al、W、MoおよびMnの金属粉末からなる群より選択される少なくとも1種以上と、Si、Pb、B、Zn、Al、Ca、MgおよびBaの酸化物の1種以上、またはそれら金属酸化物の1種以上を構成成分として含有するガラス粉末の少なくとも1種以上との組み合わせて用いてもよい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、先ず本発明のペースト組成物に配合される各成分について説明する。
【0015】
(a)無機粉末
導体層および/または誘電体層を形成するために必須の成分であり、従来より知られている種々のものを使用することができる。
【0016】
(a−1)導体層を形成は回路の導通をとるために必須であり、そのために、Au、Ag、Cu、Pd、Pt、Ni、Al、W、Mo、Mnからなる群の中の少なくとも1種である導電性粉末を用いることができ、また一般に導電ペーストに配合されるように、たとえばAg−Pd、Ag−Pt、Ag−Pt−Pd、Mo−Mn等、2種類以上を組み合わせて併用しても差し支えない。
【0017】
(a−2)誘電体層を形成させるため、もしくは焼成後の導体と基板との接着性を得るために、Si、Pb、B、Zn、Al、Ca、Mg、Baの酸化物が好適に使用される。また、同様の目的で、B2O3・Bi2O3系、PbO・B2O3系、PbO・SiO2系、PbO・B2O3・SiO2系、PbO・Al2O3・SiO2系・ZnO・PbO・B2O3系、ZnO・B2O3系、CaO・B2O3系、CaO・B2O3・SiO2系、CaO・PbO・SiO2系、CaO・PbO・B2O3・SiO2系、 MgO・B2O3系、MgO・B2O3・SiO2系、MgO・PbO・SiO2系、MgO・PbO・B2O3・SiO2系のガラスフリットを1種類もしくは2種類以上含むガラス由来の粉末を使用してもよい。
【0018】
(a−3)さらに、上記(a−1)の導電性粉末と、(a−2)に記載の金属酸化物またはガラスとを併用し、導通を確保しつつ基板への導体の固着を強固にするようにしてもよい。
【0019】
また、必要に応じ、導電性粉末として示した金属の酸化物、珪化物、または、Bi2O3等も適量を併用することができる。
【0020】
以上の無機粉末は、ペースト化した際、印刷、ブレードコート等に適した粘性となること;およびライン幅をおよそ20μmとするために、粒径は、20μm以下であることが好ましい。したがって、平均粒径が0.1〜15μmで最大粒径が20μm以下のものが好適に使用できる。
【0021】
無機粉末の添加量は、少なすぎると導体層および/または誘電体層を適正にパターン形成することができなくなりエッチングにも支障を来し、また多すぎても基板への固着が不可能となる場合があるので、前記した割合に調整することが好ましい。
【0022】
(b)カルボキシル基含有バインダー樹脂
本発明のペースト組成物の第2成分であるバインダー樹脂は、アルカリ可溶型感光性樹脂であって、カルボキシル基を含有しているものである。この樹脂は、未硬化時にはアルカリ可溶性で、光硬化した部分のみアルカリに対して不溶化するという特性を有し、フォトリソグラフィー法によりパターン形成するためのバインダー樹脂として好適に利用可能なものであり、非常に高いコントラスト比がもたらされる。
【0023】
このバインダー樹脂の分子量は、1000〜100000であることが、エッチング性および作業性の面から望ましい。分子量が1000未満の場合、得られるペースト組成物の粘度が低くなりすぎるため、印刷性等が劣ることになる。また、分子量が100000を超える場合には、バインダー能が高すぎるため、アルカリエッチング時におけるエッチング性が劣る。
【0024】
かかる感光性バインダー樹脂として好ましいものは、
(b−1)化学式I:
【0025】
【化5】
【0026】
[式I中、R1は同じでも異なっていてもよく、水素原子、C1〜C4のアルキル基、−OCR2COOH(R2は、C2〜C4のアルキル基、フェニル基もしくはシクロヘキシル基を表す)、−C3H6OH、−C2H4OHまたは−COCH3を表し、グルコースユニットあたり少なくとも0.1モルの−OCR2COOHを含む]で示される、カルボキシル基を含有するセルロース誘導体のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート付加体、または同誘導体のグリシジル(メタ)アクリレート付加体であるバインダー樹脂;
(b−2)化学式II:
【0027】
【化6】
【0028】
[式II中、R3は、水素原子もしくはCH3を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、R4は、C1〜C18のアルキル基、フェニル基もしくはアリールアルキル基を表し、l、mおよびnは1以上の整数を表す]で示されるメタクリル酸−メタクリレート系共重合バインダー樹脂(この中にはコモノマーとしてスチレンを含有していても良い);および
(b−3)(b−2)に記載された共重合バインダー樹脂のグリシジルメタクリレート付加体である、カルボキシル基とメタクリロイル基とを含有するバインダー樹脂等である。
【0029】
上記(b−1)における、化学式Iで示されるセルロースのカルボン酸誘導体には、グルコースユニットあたり0.1〜1.0モルの−OH基、そしてグルコースユニットあたり少なくとも0.1モル、好ましくは0.1〜1.0モルの−COOH基を含有するものが好適に使用できる。
【0030】
−OH基がグルコースユニットあたり0.1モル未満では、グリシジル(メタ)アクリレートもしくは、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートで導入される重合性基の比率が低すぎるために、解像度が劣ることがある。また、−OH基がグルコースユニットあたり1.0モルを超えると、硬化後の膜が硬くなりすぎてエッチング性に劣るようになる。そして、−COOH基がグルコースユニットあたり0.1未満では、アルカリ性水溶液への溶解性が低くなってエッチング性に劣り、−COOH基がグルコースユニットあたり1.0モルを超えると、硬化後の膜の耐水性が低下するため解像度が劣ることとなる。
【0031】
化学式Iで示されるセルロースのカルボン酸誘導体へのグリシジル(メタ)アクリレート付加量は、−OH基1モル当たり0.3モル〜2.0モルであることが好ましい。かかるグリシジル(メタ)アクリレート付加量が、−OH基1モル当たり0.3モル未満の場合、導入される重合性基の比率が低いために解像度が劣り、一方グリシジル(メタ)アクリレート付加量が−OH基1モル当たり2.0モルを超える場合、硬化後の膜が硬くなりすぎてエッチング性に劣る。
【0032】
また、化学式Iで示されるセルロースのカルボン酸誘導体へのメタクロイルオキシエチルイソシアネート付加量は、−OH基1モル当たり0.2モル〜1.0モルであることが好ましい。メタクロイルオキシエチルイソシアネート付加量が−OH基1モル当たり0.2モル未満の場合、導入される重合性基の比率が低すぎるため解像度が劣り、この付加量が−OH基1モル当たり1.0モルを超えれば、硬化した際膜が硬くなりすぎて、アルカリ水溶液によるエッチング性に劣ることとなる。
【0033】
上記(b−2)における、化学式IIで示される(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリレート系共重合バインダー樹脂は、(メタ)アクリル酸と、C1〜C18のアルキルもしくはアリールアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体である。化学式IIにおいて、lは好ましくは0〜30、mは好ましくは5〜95、そしてnは好ましくは5〜70であり、もって前述のごとき分子量とされたものが好適に使用される。
【0034】
また、上記(b−3)の、化学式IIで示される(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリレート系共重合バインダー樹脂のグリシジルメタクリレート付加体の付加量は、如上の共重合体に含まれるカルボキシル基1モルに対して、0.05〜1.00モル当量とすることが、未硬化部のアルカリ性水溶液への溶解性、および光による硬化性のバランスの点で好ましい。
【0035】
以上詳説したバインダー樹脂の添加量は、少なすぎれば当然のことエッチング不良でパターン形成が困難になり、また多すぎてもエッチング性が損なわれて好解像度が得られなくなってしまうので、前記した割合に調整することが好ましい。
【0036】
(c)光反応性モノマー
本発明のペースト組成物において、上記アルカリ可溶型感光性バインダー樹脂を希釈し、粘度の調整をすると同時に、硬化部分の物性を調節するために、光反応性モノマーを添加する。
【0037】
ここで用いる光反応性モノマーは、たとえば以下の化学式III:
【0038】
【化7】
【0039】
[式中、R5はHもしくはメチル基、R6はC2〜C9のアルキル基、分子量44〜1000のポリエチレンオキシド基、分子量56〜1000のポリプロピレンオキシド基、もしくは
【0040】
【化8】
【0041】
[式中、nは1〜10の整数を表す]、そしてR7はHもしくはメチル基を表す]、および以下の化学式IV:
【0042】
【化9】
【0043】
[式中、R8はHもしくはメチル基、R9はC1〜C18のアルキル基、C7〜C26のアリールアルキル基、C8〜C18のアルキルアリール基を表す]などに示される様なものであり、通常の紫外線硬化樹脂組成物として用いられているものをいずれも使用することができる。
【0044】
例示するなら、C1〜C18のアルキル(メタ)アクリレート、C1〜C8のアルコールエチレンオキサイド誘導体(メタ)アクリレート、C1〜C18の(アルキル)フェノールエチレンオキサイド誘導体(メタ)アクリレート、C2〜C9のジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド誘導体ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド誘導体ジ(メタ)アクリレート、以下の化学式:
【0045】
【化10】
【0046】
[式中、R10〜R12は同じでも異なっていてもよく、Hもしくはメチル基を表し、またm、lおよびoはそれぞれ0以上の整数を表し、m+l+o=0〜10である。]で示されるトリメチロールプロパン誘導体(メタ)アクリレート、好ましくは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレートおよびトリメチロールプロパンプロレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレート、以下の化学式:
【0047】
【化11】
【0048】
[式中、R13〜R15は同じでも異なっていてもよく、Hもしくはメチル基を表し、またp、qおよびrはそれぞれ0以上の整数を表し、p+q+r=0〜10である。]で示されるグリセリン誘導体(メタ)アクリレート、好ましくは、グリセリンエチレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレートおよびグリセリンプロレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレート、ならびに以下の化学式:
【0049】
【化12】
【0050】
[式中、R16〜R18は同じでも異なっていてもよく、Hもしくはメチル基を表し、またR19はHもしくは(メタ)アクリロイル基を表す。]で示される、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【0051】
(d)光重合開始剤
光重合開始剤(d)は、露光部を硬化させるための重合を開始するために添加する成分である。
【0052】
特に、本発明のように隠蔽力の高い系においては吸光度係数が高いものというよりはむしろ、吸収した光エネルギーから効率良くラジカルを発生するもの、換言すれば量子収率の高い光重合開始剤が求められる。
【0053】
このような光重合開始剤として、アシルホスフィンオキシド基を含有する化合物単独、もしくはアシルホスフィンオキシド基を含有する化合物とフェニルケトン基を含有するものとの併用系処方が挙げられる。
【0054】
アシルホスフィンオキシド基を含有する化合物としては、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス(2,6−ジクロロベンゾイル)4−プロピルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2、4、6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドやその誘導体等が挙げられる。
【0055】
フェニルケトン基を含有する化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−ヒドロキシ2−メチル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−12−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ−フェニル)ブタノン−1等を例示することができる。
【0056】
また、必要に応じ、アミノ安息香酸類や、色素等の増感助剤を適量併用しても差し支えない。
【0057】
光開始剤の添加量は、少なすぎても多すぎても、ペースト組成物の使用性を損ね、実用に供し難いものとなってしまうことがあるので、前記した割合に調整することが好ましい。
【0058】
(e)有機溶媒
本発明のペースト組成物のペーストとしての取り扱いをよくするため、粘度の調整用として、テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、またはそれらの酢酸エステル、ペンタンジオールアルキルエーテル、ジブチルフタレートやγ−ブチロラクトン、その他、芳香族系、アルコール、エステル系、ケトン系などの有機溶媒が添加される。
【0059】
その添加量は、少なすぎるとペースト組成物の粘度が高くなりすぎて使用性に劣るものとなり、また多すぎると逆に低粘度となりライン形成が困難になり、特に膜厚が確保され難い場合が生じ得、また基板への塗布後に乾燥させることによって無視できない歪みが生じる可能性もあるため不都合であるので、前記した割合に調整することが好ましい。
【0060】
さらに、当該技術分野において知られている熱重合禁止剤、酸化防止剤、安定化剤等を、如上の本発明のペースト組成物の特徴を損ねない範囲で適宜添加してもよい。
【0061】
本発明のペースト組成物を製造するためには、以上説明したような各成分を配合し、常法にてロール等を用いて混錬してペースト化すればよい。
【0062】
かかるペースト組成物の使用方法は、従来の感光性導電ペーストの使用方法と実質的に同様である。すなわち、焼結済みセラミック基板やグリーンシート上に本発明のペースト組成物を塗布し、パターンマスクで被覆後に露光して所定部分を硬化させ次いでアルカリ現像液に浸漬してエッチングを行う。このようにして、高膜厚でも微細なパターンも現像することができ、高解像度に所望のファインパターン形成が成し遂げられるのである。
【0063】
【実施例】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、これら実施例は単なる例示に過ぎず、もとより本発明を限定するものでないことはもちろんである。
【0064】
[合成例1]アルカリ可溶型感光性バインダー樹脂の合成
攪拌器、コンデンサー、エア導入管および温度計を取り付けた1Lのフラスコに、ハイドロキノンを0.005g、カルボン酸変性セルロース誘導体▲1▼(表1参照、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートレート、信越化学社製、商品名:HPMCP)を90.0g、ブチルカルビトールアセテート210.0gを仕込み、70℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しながらグリシジルメタクリレートを16.1g仕込み、90℃まで昇温させた。次いでそのまま90〜95℃で5時間攪拌を継続した。反応終了は、IRスペクトルによって、オキシラン環に帰属される820cm-1の吸収の消失により確認した。
【0065】
[合成例2]アルカリ可溶型感光性バインダー樹脂の合成
攪拌器、コンデンサー、エア導入管、温度計を取り付けた1Lのフラスコにハイドロキノンを0.005g、カルボン酸変性セルロース誘導体▲2▼(表1参照、ヒドロキシプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレート、信越化学社製、商品名:HPMCHHP)を90.0g、ブチルカルビトールアセテート210.0gを仕込み、70℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しながらメタクリルロイルオキシエチルイソシアネートを11.0g仕込み、90℃まで昇温させた。次いでそのまま90〜95℃で5時間攪拌を継続した。反応終了は、フリー−NCOを定法により化学滴定によって、−NCOが0.1mmol/g以下になることにより確認した。
【0066】
[合成例3]アルカリ可溶型感光性バインダー樹脂の合成
攪拌器、コンデンサー、エア導入管、温度計を取り付けた1Lのフラスコにハイドロキノンを0.005g、カルボン酸変性セルロース誘導体▲3▼(表1参照、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレート、信越化学社製、商品名:HPMCAP)を90.0g、ブチルカルビトールアセテート210.0gを仕込み、70℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しながらグリシジルメタクリレートを13.9g仕込み、90℃まで昇温させた。次いでそのまま90〜95℃で5時間攪拌を継続した。反応終了は、IRスペクトルによって、オキシラン環に帰属される820cm-1の吸収の消失により確認した。
【0067】
【表1】
【0068】
以下、これらの合成例1〜3にて得られたアルカリ可溶型感光性バインダー樹脂、表1記載のカルボキシル基含有セルロース誘導体、または、▲4▼:メチルメタクリレート−メタクリル酸−ブチルアクリレート=65/25/10 mol%共重合体、または▲5▼:ヒドロキシプロピルセルロース(ハーキュレス社製、商品名:KULCEL)のメタクロイルオキシエチルイソシアネートをバインダー樹脂として用いて、誘電体ペースト組成物または導体ペースト組成物(それぞれ、表2および表3に示す)を製造した。
【0069】
各ペースト組成物に配合された成分は、それぞれ以下のとおりである。
(a)無機粉末
A:ZnO・PbO・B2O3系ガラスフリット(旭硝子社製、商品名:ASF−1550)、
B:PbO・B2O3・SiO2系ガラスフリット(日本電気硝子社製、商品名:GA−9)、または
C:CaO・PbO・B2O3・SiO2系ガラスフリット(旭硝子社製、商品名:YFT−061)
(c)光反応性モノマー
TMPTMA(トリメチロールプロパントリメタクリレート、第一工業製薬社製、ニューフロンティアNFバイソマーTMPTMA)、
PEM−200(ポリエチレングリコール200ジメタクリレート、第一工業製薬社製、ニューフロンティアNFバイソマーPEM−200)および
TEGDMA(トリエチレングリコールジメタクリレート、第一工業製薬社製、ニューフロンティアNFバイソマーTEGDMA)
(d)光重合開始剤
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤Aとして、
I:ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
II:メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
III:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、
IV:ビス(2,6−ジクロロベンゾイル)4−プロピルフェニルホスフィンオキシド、または
V:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドフェニルケトン基含有(アセトフェノン系)光重合開始剤Bとして、
VI:2―ヒドロキシ−1−フェニルプロパン−1−オン、
VII:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、
VIII:2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタノン、
IX:2−メチル−1−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1、または
X:2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ−フェニル)ブタノン−1
(e)有機溶媒
α−テルピネオール。
【0070】
[実施例1〜5] 誘電体ペーストの製造と誘電体層の形成
表2に示した組成の各成分を予備混合後、EXAKT社製セラミック3本ロールで混錬し、ペースト化した。
【0071】
得られたペーストは、#325メッシュのステンレススクリーンを用い、硝子基板上にベタ印刷後、80℃×10分間の乾燥を5回繰り返し乾燥膜厚で、100μmとした。そこへ、図1に示すクロムマスク10をのせて、800mJの平行光で露光した。かかる図1に示すクロムマスク10は、図2の部分拡大図に示すように、ライン幅Wおよびギャップ幅Gが共に50μmである第1の領域1と、いずれも75μmである第2の領域2とが形成されたものである。次いで、0.5重量%のNa2CO3水溶液に2分間浸漬後、シャワーリングして現像した。さらに、ベルトコンベア式焼成炉にて空気中、ピーク温度600℃×10分間で焼成した。なお、焼成後の膜厚は60μmであった。
【0072】
こうして得られたサンプルについて、ライン/ギャップ:75/75μm(図2、第1の領域1)、および50/50μm(図2、第2の領域)におけるパターンを×80の倍率の実体顕微鏡で観察することによって、ライン形成性を評価した。ライン形成性の評価は、「◯:全体がパターン化され、未露光部は完全にエッチングされており断線、短絡線等の欠陥がない;△:全体がパターン化されているが、未露光部のエッチングが不充分であり断線、短絡線等の欠陥がある;および×:エッチングができないか、または全体が溶解してしまって現像ができない」とした。
【0073】
【表2】
【0074】
表2に明らかなとおり、本発明にかかるペースト組成物によると、好ましいライン形成性にて高膜厚の誘電体層を形成することができた。
【0075】
[実施例6〜10] 導体ペーストの製造と導体層の形成
表3に示した組成の各成分を予備混合後、EXAKT社製セラミック3本ロールで混錬しペースト化した。無機粉末としては、ガラスフリット由来の粉末と金属粉末とを併用した。
【0076】
得られたペーストは、#325メッシュステンレススクリーンを用い、アルミナ基板上にベタ印刷、80℃×10分間乾燥を3回繰り返し、乾燥膜厚を60μmとした。そこへ、図1に示すクロムマスクをのせて、800mJの平行光で露光した。次いで、0.5重量%のNa2CO3水溶液に2分間浸漬後、シャワーリングして現像した。
【0077】
さらに、ベルトコンベア式焼成炉にて、Ag含有ペースト組成物は空気中、Cu含有ペースト組成物およびNi含有ペースト組成物はN2中にて、ピーク温度850℃×10分間で焼成した。次いで、得られたサンプルの形状を観察し、上記実施例1〜5にて記載したと同様、ライン形成性を評価した。なお、焼成後の膜厚は、30μmであった。
【0078】
比較例1として、カルボキシル基含有バインダー樹脂を用いず、ヒドロキシプロピルセルロースのメタクロイルオキシエチルイソシアネート▲5▼を用いて同様のペースト組成物製造し、導体層形成を試みた。
【0079】
【表3】
【0080】
表3に明らかなとおり、本発明にかかるペースト組成物によると、好ましいライン形成性にて高膜厚の誘電体層を形成することができた。一方、比較例1によるとライン形成性が不良であった。
【0081】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によって、回路基板上などに導体/誘電体パターンを形成するうえで、高効率の光重合開始に基づき20μm以上の高い膜厚でも高解像度でアルカリエッチングが成し遂げられ、もってファインパターンのライン形成を実現することができる導体/誘電体形成材料が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるペースト組成物を適用する際に利用されるクロムマスクの形状を示す平面図である。
【図2】図2に示したクロムマスクの部分拡大図である。
【符号の説明】
1…第1の領域
2…第2の領域
10…クロムマスク
Claims (1)
- a)無機粉末40〜97重量部、
b)カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂0.5〜30重量部、
c)光反応性モノマー0.5〜30重量部、
d)光重合開始剤0.2〜30重量部、および
e)有機溶媒1〜30重量部
を含むアルカリ現像型ペースト組成物において、
無機粉末として、Si、Pb、B、Zn、Al、Ca、MgおよびBaの酸化物の1種以上、またはそれら金属酸化物の1種以上を構成成分として含有する少なくとも1種のガラス粉末を含有し、光重合開始剤が、アシルホスフィンオキシド基を含有するもの単独、またはアシルホスフィンオキシド基を含有するものとフェニルケトン基含有開始剤との併用系であることを特徴とするアルカリ現像型ペースト組成物。
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