JP4413829B2 - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents
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Description
10 処理容器
11 受け渡し部
12 現像処理部
13 搬送機構
50 現像液供給ノズル
51 エア吹出しノズル
80 洗浄液供給ノズル
W ウェハ
Claims (19)
- 基板の現像処理装置であって,
処理容器内に,処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と,基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え,
前記処理容器内には,前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を,基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ,
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって,前記搬送機構による基板の搬送路の上方には,基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと,基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられ,
前記現像処理部には,基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする,現像処理装置。 - 前記洗浄液供給ノズルは,前記搬送機構による基板の搬送方向に対して直角方向に水平移動しながら基板に洗浄液を供給できることを特徴とする,請求項1に記載の現像処理装置。
- 前記洗浄液供給ノズルは,基板の上面に洗浄液を供給する上部ノズルと,基板の下面に洗浄液を供給する下部ノズルを,前記現像処理部内の基板を挟むようにして備え,
前記上部ノズルと前記下部ノズルは,前記基板の搬送方向の基板の一端部から他端部にわたり洗浄液を吐出できるように形成されていることを特徴とする,請求項2に記載の現像処理装置。 - 前記洗浄液供給ノズルは,前記現像処理部内の基板の上面と,当該基板の前記基板受け渡し部と反対の側面と,前記基板の下面とを囲む略U字型に形成されていることを特徴とする,請求項3に記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の上方には,ノズル保持部が設けられ,
前記ノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記基板の搬送路の下方側にも,気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の現像処理装置。
- 基板の現像処理装置であって,
処理容器内に,処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と,基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え,
前記処理容器内には,前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を,基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ,
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって,前記搬送機構による基板の搬送路の上方には,基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと,基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと,基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,現像処理装置。 - 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の上方には,ノズル保持部が設けられ,
前記ノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記洗浄液供給ノズル,前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項7に記載の現像処理装置。 - 前記基板の搬送路の下方にも洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする,請求項7又は8のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基板の搬送路の下方にも気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,請求項9に記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の下方には,ノズル保持部が設けられ,
前記基板の搬送路の下方のノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記洗浄液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項10に記載の現像処理装置。 - 前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間にエアカーテンを形成するエア供給部を備えていることを特徴とする,請求項1〜11のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記気体吹出しノズルは,前記エア供給部を共用していることを特徴とする,請求項12に記載の現像処理装置。
- 前記処理容器には,前記基板受け渡し部側に給気口を形成され,前記現像処理部側に排気口が形成されていることを特徴とする,請求項1〜13のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部には,基板を支持する支持部材が設けられ,
前記搬送機構は,前記支持部材上の基板の外側面を把持できることを特徴とする,請求項1〜14のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記搬送機構は,基板の搬送方向に対し直角方向の基板の両側面を把持する把持部材と,当該把持部材を支持して前記直角方向に移動させる移動部材を備え,
前記把持部材と前記移動部材との間には,弾性体が介在されていることを特徴とする,請求項1〜15のいずれかに記載の現像処理装置。 - 把持する基板の反対側に位置する前記把持部材の後方側には,前記移動部材に固定された固定部材が設けられ,
前記固定部材と前記把持部材とは,弾性体を介して接続されていることを特徴とする,請求項16に記載の現像処理装置。 - 前記把持部材における基板の外側面との接触端面は,側面から見て内側に凹むように湾曲していることを特徴とする,請求項16又は17のいずれかに記載の現像処理装置。
- 請求項7〜11のいずれかに記載の現像処理装置を用いた現像処理方法であって,
基板受け渡し部の基板の外側面を前記搬送機構により把持する工程と,
現像液供給ノズルから現像液を吐出した状態で,基板受け渡し部の基板を前記搬送機構によって現像処理部に搬送し,前記基板上に現像液の液膜を形成する工程と,
前記現像処理部において基板を静止現像する工程と,
洗浄液供給ノズルから洗浄液を吐出した状態で,前記現像処理部と前記基板受け渡し部との間で基板を前記搬送機構により往復させ,前記基板上に洗浄液の液膜を形成する工程と,
気体吹出しノズルから気体を吹き出した状態で,前記現像処理部の基板を前記搬送機構により前記基板受け渡し部に搬送して,基板上の洗浄液を除去する工程と,を有することを特徴とする,現像処理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005225249A JP4413829B2 (ja) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
US11/495,732 US7766566B2 (en) | 2005-08-03 | 2006-07-31 | Developing treatment apparatus and developing treatment method |
TW095128376A TWI305371B (en) | 2005-08-03 | 2006-08-02 | Developing treatment apparatus and developing treatment method |
CN2006101091639A CN1908819B (zh) | 2005-08-03 | 2006-08-03 | 显影处理装置以及显影处理方法 |
CN2010102509889A CN101930184B (zh) | 2005-08-03 | 2006-08-03 | 显影处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005225249A JP4413829B2 (ja) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007042860A JP2007042860A (ja) | 2007-02-15 |
JP4413829B2 true JP4413829B2 (ja) | 2010-02-10 |
Family
ID=37699951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005225249A Expired - Fee Related JP4413829B2 (ja) | 2005-08-03 | 2005-08-03 | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4413829B2 (ja) |
CN (1) | CN1908819B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103823334A (zh) * | 2014-03-06 | 2014-05-28 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 图形化光刻胶的形成方法 |
JP6346509B2 (ja) * | 2014-07-07 | 2018-06-20 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置及び基板搬送方法 |
CN106033713B (zh) * | 2015-03-10 | 2018-11-16 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种区域隔离装置、区域隔离***和刻蚀方法 |
CN106711062B (zh) * | 2015-11-17 | 2019-07-12 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 一种工艺反应腔体气流场的实现装置及其实现方法 |
CN107390481B (zh) * | 2017-09-15 | 2020-11-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种烘烤设备及烘烤方法 |
CN108469719A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-08-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显影装置及方法 |
JP7097759B2 (ja) * | 2018-06-22 | 2022-07-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN109324484B (zh) * | 2018-09-27 | 2020-03-27 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法 |
CN111352314A (zh) * | 2018-12-20 | 2020-06-30 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 用于半导体器件的显影装置及显影方法 |
WO2020194766A1 (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 株式会社イズミフードマシナリ | 洗浄装置および抽出システム |
CN111208714A (zh) * | 2020-01-09 | 2020-05-29 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显影设备及显影方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0152324B1 (ko) * | 1994-12-06 | 1998-12-01 | 양승택 | 웨이퍼 측면파지 이송 반도체 제조장치 |
JP3118443B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2000-12-18 | 島田理化工業株式会社 | ウェーハ洗浄装置 |
-
2005
- 2005-08-03 JP JP2005225249A patent/JP4413829B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-08-03 CN CN2006101091639A patent/CN1908819B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1908819B (zh) | 2010-11-10 |
CN1908819A (zh) | 2007-02-07 |
JP2007042860A (ja) | 2007-02-15 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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