JP4392990B2 - 電子顕微鏡および分光システム - Google Patents

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Description

【0001】
(発明の分野)
この発明は、試料分析システムに関する。好ましい実施例において、例えば電子顕微鏡が分光分析システム、例えばラマンまたは光ルミネセンスあるいは陰極ルミネセンス分光分析システムと組み合わされる。
【0002】
(発明の背景および要約)
このような組み合わせシステムは、フランス特許明細書FR2596863号および国際特許明細書WO95/20242号にすでに開示されている。
【0003】
FR2596863において、平面鏡が電子顕微鏡中にその軸線に対して45°で配置される。ラマン分光のため、照明レーザービームが電子顕微鏡ハウジングの窓を通過する。この45°反射鏡は、試料に向け、レーザービームを電子顕微鏡の軸線に沿って反射する。このビームは、カセグレン対物レンズによって試料上の一点に合焦される。ラマン散乱光は、カセグレン対物レンズによって集光され、反射鏡により窓を通って分光計に反射される。電子顕微鏡検査のため、電子ビームが45°反射鏡およびカセグレン対物レンズの中央開口を通って試料を照射する。電子顕微鏡検査およびラマン分光の両方による試料の同時検査がこれにより可能であり、カセグレン対物レンズは非常に弱いラマン散乱光の効率的な集光のために広い集光角を有する。しかしながら、市販の電子顕微鏡の試料チャンバにおける利用可能な限定された空間中に、この対物レンズおよび45°反射鏡の両方を取り付けることは、実際において困難である。このため、FR2596863は、電子レンズ系中にそれらを取り付けている。
【0004】
WO95120242は、この装置の種々の問題を指摘している。これは、取り外し可能なマウントに試料を取り付けることによって、これらの問題を克服することを提案している。ラマン分光のための光学系は、電子顕微鏡と同軸ではなく、試料はマウント上の一方から他方へと動かされる。しかしながら、これはラマンおよび電子顕微鏡システムによる同時検査を不可能にする。しかも、これは電子顕微鏡システムのそれぞれの分析個所と光学系との間で正確に試料を動かすために高価な精密ステージであるマウントを必要とする。
【0005】
1996年に George Turrell らにより編集された Academic Press Limited の書籍「Raman sepctroscopy:Developments and Applications」の第5章201〜216ページは、放物面鏡がカセグレン対物レンズおよび45°平面鏡の代わりに使用可能であることを示唆している。これは機械的により単純であって、電子顕微鏡の試料チャンバ内に取り付けることができる。ラマン分光のため、レーザー光が電子ビームの軸線を横切って導入される。放物面鏡は、これを電子ビームと同軸に90°反射し、試料上の一点にこれを合焦させる。電子ビームは、放物面鏡の中央開口を再び通過する。放物面鏡は、その焦点からラマンおよび他の散乱光を集光し、電子顕微鏡の試料チャンバから横路に沿って後方にこれを通過させる。
【0006】
しかしながら、このような反射鏡が使用中ではない場合、これは、試料の電子線照射によって引き起こされるX線についてのX線分光測定の如き他の分析技術を妨げる傾向がある。さらに、反射鏡が試料チャンバ内に配置される場合、これを正確に位置合わせする必要がある。中央開口が電子ビームと心合わせされる必要があるのみならず、反射鏡の光学焦点が電子ビームに対して試料上の同一個所に移動されなければならない。
【0007】
本発明の一形態は、(電子顕微鏡の如き)別の分析装置の試料チャンバ内に取り付けられる試料の分光分析を行うためのアダプタを提供し、前記分析装置が分析軸線を有すると共にこの分析軸線にほぼ沿って分析ビームを試料に向けて投射し、アダプタは、
前記分析軸線をほぼ横切る軸線に沿って入力光ビーム(例えば、レーザービーム)を受け入れるように配置される反射鏡を具え、前記反射鏡は、凹面であって前記入力光ビームを前記試料上の一点に合焦させ、かつ試料から与えられる散乱光を集光してこの散乱光を分光分析のために前記横切る軸線ほぼ沿って後方に指向させるものであり、
前記反射鏡は、前記分析軸線上の操作位置と前記分析軸線から離れた非操作位置との間を移動可能であって、合焦した前記点が前記試料上の同じ点に位置するように、前記入力光ビームの軸線と前記凹面鏡の軸線とのアライメントを維持する
【0008】
好ましくは、入力光ビームと散乱光とを処理するための光学系が設けられ、この光学系は、反射鏡が操作および非操作位置の間を移動するのに伴って反射鏡と共に移動可能である。好ましくは、光学系が前記散乱光から入射光ビームの波長を有する光を遮断するための1つまたはそれ以上のフィルタを有する。
【0010】
好ましくは、平行入力光ビームから試料上の一点に合焦させ(回折を制限することができる)、この点から集光される前記散乱光の平行出力光ビームを生じさせるため、凹面反射鏡が放物面鏡である。光学系は、この点から集光される散乱光のスペクトルを分析するため、分光分析システムに散乱光を出力することができる。
【0011】
本発明の第2の形態は、分光分析システムのための光の導入および遮断装置に関する。
【0012】
励起レーザー光が光路内に導入され、ダイクロイックフィルタによって試料の方に向けられる分光分析システムが欧州特許出願EP543578号から知られている。ダイクロイックフィルタは、光路に対して低い入射角、例えば10°のホログラムフィルタであることが好ましい。試料から散乱された後の光は、光路に沿ってダイクロイックフィルタまで後方に戻る。望ましい非弾性散乱光(例えばラマン)が分光計システムまでフィルタを通過すると同時に、望ましくない弾性散乱(レイリー)光がフィルタによって遮断される。
【0013】
このような装置におけるフィルタは、用いられるレーザーの波長を反射するように設計されなければならない。これは、試料に向けて入射するレーザー光を反射できると共に、レーザーと同じ波長を持つ弾性散乱光を遮断できることを確実にする。
【0014】
異なった励起波長を使用するため、レーザーを変更可能であることがしばしば望まれる。EP543578の装置に関し、これは新たな波長と合致するようにフィルタが交換される必要があることも意味している。フィルタの正確な位置決めのために特別な処置がもたらされないのであれば、新しいフィルタを有するシステムを再調整することの困難で時間のかかる作業を引き起こすかも知れない。
【0015】
この第2の形態において、本発明は(レーザーの如き)少なくとも2つの異なる単色光を用いる分光システムのための光の導入および遮断装置を提供し、この光の導入および遮断装置は、
このような分析を行うために分析されるべき試料と分光分析システムとの間に延在する光路と、
第1の波長で第1の励起ビームを受け入れるための第1入力ビームと、
前記第1の波長と異なる第2の波長で第2の励起ビームを受け入れるための第2の入力ビームと、
試料に向けて第1の入力ビームを指向させ、試料から与えられる第1の波長の弾性散乱光を遮断すると同時に分光分析システムに向けて分析のための非弾性散乱光を通過させるように、光路中に傾斜して配置される第1のフィルタと、
試料に向けて第2の入力ビームを指向させ、前記試料から与えられる第2の波長の弾性散乱光を遮断すると同時に分光分析システムに向けて分析のための非弾性散乱光を通過させるように、光路中に傾斜して配置される第2のフィルタと
を具え、試料が第1の波長で励起され場合に第2の波長の望ましい非弾性散乱光もまた、第2のフィルタによって光路から遮断され
記遮断されるけれども望ましい第2の波長の非弾性散乱光は他の非弾性散乱光と再結合されるか、あるいは個別に検出される。
【0016】
(好ましい実施例の説明)
本発明を例示する電子顕微鏡および分光分析の組み合わせシステムが添付図面を参照して以下に記述されよう。
【0017】
図1は、一般的な電子ビーム発生器と、焦点合わせおよび走査システム12とを有する走査型電子顕微鏡(SEM)10を示す。これは、周知の方法で分析軸線14にほぼ沿って電子ビームを試料16に照射する。
【0018】
本発明は、走査型電子顕微鏡の代わりに、透過型電子顕微鏡を含む他の型式の分析システムや、さらにイオンビーム照射システムの如き装置と共に使用することも可能である。
【0019】
放物面または他の凹面鏡18は、通常、試料16の上方の軸線14上に取り付けられ、電子ビームが通過可能となるように中央開口20を有する。放物面鏡18は、以下に記述されるミラーホルダアームアセンブリィ22上に取り付けられ、SEMの分析軸線14に対してほぼ横切る光軸24を有する。ミラーホルダ22は、両端矢印26により示されるように、(図示のような)操作位置と(分析軸線14から離れて格納される)非操作位置との間に放物面鏡18を格納可能である。従って、放物面鏡18が非操作位置にある場合、電子ビームを試料16に照射することにより発生するX線を検出するために使用可能なX線検出器28の如き走査型電子顕微鏡内の他の機器と干渉しない。
【0020】
光学系30は光学台32に取り付けられ、この光学台はミラーホルダアームアセンブリィ22に順に取り付けられる。以下でより詳細に記述されるように、このミラーホルダ22は、放物面鏡18と共に光学系30を動かし、これら2つの間のアライメントを保持するようになっている。光学系30は、入力および出力光ファイバ接続部34A,B,Cを有する。これらは、レーザーからの入力を受け入れ、1つまたはそれ以上の出力を Renishaw Mk III Raman Spectrometer の如き外部の分光計に案内する。光学系30のさらなる詳細は、以下に記述される。
【0021】
光学系は、45°反射鏡36,29を介し、ミラーホルダアームアセンブリィ22の光軸24に沿って入力レーザービームを放物面鏡18に指向させ、この放物面鏡は試料16上の(好ましくは回折が制限された)一点にこれを合焦する。また、放物面鏡18は、この点から散乱光を集光し、これを平行にして光学系30に対して光軸24に沿った戻り方向にこれを逆送する。例えば、これらはラマン散乱、あるいは蛍光発光や光ルミネセンスの如き非弾性散乱光であってよい。これは、レーザー波長において弾性散乱(レイリー)光をも含んでいよう。代わりに、あるいはさらに、反射鏡18によって試料16から集光される光がレーザー入力を必要とせずに試料に対する電子ビームの作用により引き起こされる陰極ルミネセンスであってもよい。非弾性散乱光の調査が電子顕微鏡検査と同時か、あるいは電子顕微鏡検査の直前または直後に設定を変更する必要なく実行可能であることが理解されよう。従って、分光結果と電子顕微鏡検査結果とを関連付けることが容易である。
【0022】
ミラーホルダは、走査型顕微鏡の真空室内で放物面鏡を0.1mmの感度で移動する能力を持っていなければならない。この許容公差は、反射鏡を垂直に貫通する1mmの開口が、電子顕微鏡の対物レンズと放物面鏡の焦点に位置決めされる試料との間の無限遠の視線と共に、電子顕微鏡の対物レンズの軸線上に位置合わせされるという必要条件により達成される。ミラーホルダアームの軸線24と直角な放物面鏡の移動の総量は、ほんの数ミリメートルである必要があり、完全なシステムにおける製造および組み立て許容公差を補償するのに十分である。アームの軸線に沿ったその移動は、放物面鏡が顕微鏡の試料領域の空き部分に格納されるように、少なくとも50mmである必要がある。この移動は、SEMの真空室に影響を与えずに行われなければならない。しかも、この移動は、放物面鏡とレーザー光源との間の非常に重要な光学的位置合わせを妨げるべきではない。後者は、なぜアームが光学台32に強固に取り付けられるのかという理由であり、従って光学台はアームが調整されるようにこれを動かす必要がある。我々は、レーザービームが光学系と放物面鏡との間で平行にされるという事実に頼ることが非常に困難であることを見い出し、ビームの軸線と放物面鏡の軸線との間のごく瞬間的な心ずれは、焦点合わせが反射鏡のそれぞれ格納後に再調整される必要があることを意味しよう。
【0023】
直線移動が可能な真空シールを作り出すために2つの方法が利用可能である。1つは、摺動Oリング装置である。しかしながら、我々はベローズ装置の方を登用する。ベローズは、よりずっと信頼性の高いシール形式であって、より低い圧力に対して適しており、また、これらは傾きおよびわずかな横移動も許容する。Oリングシールは、より安価に製造されるが、少しの傾きを許容せず、使用に伴って劣化の傾向がある。好ましい実施例において、エッジ溶接ベローズを使用することが決定されたのは、より安価な油圧成形ローズよりも、これがより大きな伸張をもたらすからである。
【0024】
直線軸受軌道およびねじ駆動を含め、この伸長を行わせる種々の手段が可能であるが、最も簡単かつ最も安価な解決法は、最小限の重量および部品を持った剛性および感度の両方を与える単純なねじ止めカラー装置であると思われる。
【0025】
図1に示されるように、アームアセンブリィ22は、移行部品Bを介して顕微鏡に装着される主本体部品Aからなる。移行部品は、要求される顕微鏡の種類または型式の何れにも適合するように設計され、本体が標準物品となることを可能にする。移行部品および本体は、別体のスプリットクランプPにより本体側で圧縮されたOリングシールにより接合される。このクランプは、回転調整をもたらすように本体が回されることを可能にする。
【0026】
放物面鏡18を支持する管状の光学アームCは、エッジ溶接ベローズDにより本体に装着される。ねじ山を切ったリングにより保持されるOリングシールされた光学平面Eは、光を取り出すための真空室窓をもたらす。
【0027】
ベローズと真空アームとの連結部は、Fのねじ山を切った対向するピンを2組直角にセットすることにより支持される。これらのピンの調整は、顕微鏡に対して光学アームの端部を動かし、その結果として放物面鏡を顕微鏡内で動かす。これらのピンは、本体Aに摺動可能に取り付けられたシリンダG内に配置される。シリンダGは、反対の端部において左ねじのねじ山が切られている。このシリンダは、調整カラーHにねじ止めされ、この調整カラーは主本体Aに右ねじ山を介して順にねじ止めされている。この調整カラーを回転させることは、シリンダGが本体から内側または外側に摺動することをもたらし、そして顕微鏡への放物面鏡の並進運動をもたらす。
【0028】
調整カラーが回されると、トルクがベローズと光学アームとに加えられよう。ベローズはアームが回転するのを阻止するけれども、主本体に固定されてシリンダのスロット内を走行するIの3本の位置合わせペグを組み込むことが賢明であると思われる。これらは、あらゆる負荷がベローズに加えられるのを阻止する。ぼろ隠しの円筒状のカバーJがスロットとペグとを覆っている。主本体Aの一端は、その円周を取り囲む2つのOリングを有し、これらは、さらなる支持と安定場所とをもたらすようにシリンダを支えている。
【0029】
Fの直交するアジャスタによりもたらされるアームの傾斜を制御するため、PTFEリングがKにて主本体に固定されており、その中心を通って延在する光学アームを支えている。このリングは、傾斜する際に動くアームの枢支点を規定している。
【0030】
すべての光学機器が取り付けられた光学台アセンブリィ32は、ミラーアームCの一端にボルト止めされ、放物面反射鏡に対して固定される。従って、アームが傾けられると、光学台は放物面鏡ではなくて顕微鏡に対して移動する。顕微鏡に対するトルクを減少し、かつ寸法を最小にするため、光学台はアームの長さに沿って折り返し、Mのばね付きボールの形態の単一の軸受により支持される。この軸受は、KのPTFEリングと同じ鉛直軸線上に配置され、それで水平な傾斜が起こる軸線を規定する。理想的には、我々は顕微鏡の一端での光学台に対してさらなる支持をもたらすことができるが、これは傾斜を制限せずには不可能である。45°反射鏡29は、放物面鏡から光学台の高さまで光を導く。追加の反射鏡36は、光学台に光を偏向する。
【0031】
ベローズはステンレス鋼から製造される。他のすべての部品は、同じステンレス鋼であるアームCを除き、剛性および製造の容易性のためにアルミニウムである。エッジ溶接ベローズは、フランジのそれぞれの端部に標準ナイフエッジシールを有する。銅ガスケットよりもむしろ再利用可能なヴィトンシール(viton seal)がこれらのフランジで使用される。
【0032】
調整装置の感度は、Fのアジャスタのねじ山ピッチにより決定される。ねじ山を切ったカラーGは、両端に2.5mmのピッチを有し、1回転当たり5mm、つまり1度当たり14μmの横方向移動をもたらす。Fのアジャスタは、カラーの1度当たりの移動に付き、およそ1.4μmをもたらす0.5mmピッチである。これは、放物面鏡に同様な感度を移送するけれども、その正確な量は、アームの長さおよびその延在範囲に依存しよう。
【0033】
アライメントを維持するように、光学系30が反射鏡18と共に出入りして動くことは上述されている。固定した光学系を使用することが望ましい場合、アームアセンブリィ22は、操作位置における運動学的支持体に光学アームCを付勢するように配置されることができよう。
【0034】
図2は、アームアセンブリィ22と光学台32上の光学系30との間の光路23中の反射鏡29,36を示している。さらに、光学台に取り付けられるのは、光路中に配置可能な格納式の反射鏡38である。陰極ルミネセンスが試料の電子照射によって作り出される個所において、光学台上の光ファイバコネクタ31に向けて陰極ルミネセンスが指向するように反射鏡38を差し込むことにより、これを検出することができる。これは、大開口光ファイバに光の焦点合わせをする合焦レンズを有する。大開口ファイバの使用は、放物面鏡18の焦点からだけではなく、試料16上の広い視野からの陰極ルミネセンスの受け取りを可能にする。典型的に、6mmの合焦レンズおよび100μmのファイバは、試料において100μmの視野をもたらすように使用可能である。従って、電子ビームはその視野および結果として集光されるすべての陰極ルミネセンスに亙って走査可能である。
【0035】
光ファイバコネクタ31からの陰極ルミネセンスの出力は、適当な検出装置に受け取られる。これは、光電子増倍管やアバランシェフォトダイオードによって求められる陰極ルミネセンスの望ましい波長を選択するための可変調フィルタを構成することができる。光電子増倍管またはアバランシェフォトダイオードの出力がコンピュータに受け取られ、走査型電子顕微鏡の電子ビームシステム12の走査と同期してリアルタイムでこの出力を処理することにより、陰極ルミネセンスの2次元マップを一般的な方法で作成する。
【0036】
希望するのであれば、ビームスプリッタ33,35が反射鏡38とファイバコネクタ31との間に配置可能である。ビームスプリッタ33は、試料16を照明するために光源37からの白色光の導入を可能とする。さらにまた、試料は、この試料と、電子顕微鏡および/または分光分析装置によって見出される特徴の相互関係との設定を援助するため、ビームスプリッタ35を介してビデオカメラ39、例えばCCDカメラにより検査可能である。
【0037】
試料が白色光源37によって照明される場合、ストッパ27(例えば可変アイリス絞り)がビーム路中に設置可能である。これは、放物面鏡18によりもたらされる球面収差を減少するためにビーム径を減少させる。
【0038】
希望するのであれば、格納式の反射鏡38は、光路中に恒久的に配置されるビームスプリッタにより置き換え可能である。しかしながら、これは非弾性散乱光の一部がビームスプリッタで失われ、光路23に沿って後方を通過しないという欠点を有する。
【0039】
レーザー光の導入およびレイリー散乱光の遮断のための装置が以下に記述されよう。
【0040】
図3は、図1および図2において立面図で示された光路23の平面図を示している。第1の、より低波長の青色または緑色の如き、例えば514nmのレーザー光は、図1のファイバコネクタ34Aを介し光ファイバを通って導入される。これは、光ファイバおよびコリメートレンズ44のためのマウント42を具えている。これは、10°の如き低い入射角で光路23に設置されるホログラムノッチフィルタ46に向けられる。このホログラムノッチフィルタ46は、514nmの入力レーザービームを反射するように設計される。従って、これは、図1で示された電子顕微鏡に向けて光路23に沿って通過する。
【0041】
同様に、より長い波長、例えば785nmの赤色または赤外光の励起のため、赤色または赤外レーザー光を伝送する光ファイバのためのファイバマウント50とコリメートレンズ52とを具えたファイバコネクタ34Bが設けられている。赤色または赤外レーザー光は、光路23中のホログラムノッチフィルタ54に指向される。これは、そのノッチが785mnの入射光を反射するように設計されていること以外、ホログラムノッチフィルタ46と同じ方法で形成される。
【0042】
このシステムは、種々の形態で次のように使用可能である。
【0043】
例えば半導体の如き試料を検査することに関し、514nmのレーザーが試料16を照明するためにコネクタ34Aに接続可能である。従って、レーザー線のストークス側ラマン散乱光は、光路23を介して逆進し、そしてフィルタ46を真っ直ぐ通り抜ける。このフィルタは、514nmの波長を持つレイリー散乱光を遮断する。従って、このフィルタの785nmのノッチが5000cm-1を越えて存在しているので、ストークスラマン散乱光(およそ5000cm-1まで)は、フィルタ54に邪魔されずに真っ直ぐ通り抜けよう。従って、これは、また合焦レンズ60およびファイバマウント62を具えた第3のファイバコネクタ34Cに向けて反射鏡56により反射される。この方法において、これは514nmのレイリーの散乱光をさらに遮断するように設計された追加のホログラムノッチフィルタ64を選択的に通過させることができる。
【0044】
ファイバコネクタ34Cからの光出力は、光ファイバを介して分析のための適当な分光計、例えば Renishaw Mk III Raman Spectrometer に取り込まれる。
【0045】
レーザー線から5000cm-1を越えて延在する光ルミネセンスの如き非弾性散乱光を分析することが望まれるなら、その場合には、この光の一部が785nmのノッチフィルタ54により光路から遮断されことが理解されよう。この光は、次のように回収される。可動反射鏡66がフィルタ54と光ファイバコネクタ34Bとの間で動かされ、フィルタ54によって光路23から遮断された望ましい光を受け入れる。これは、785nmの光を反射するけれども他のすべての光を通過させるように設計された追加のホログラムノッチフィルタ68にそれを反射する。この追加のホログラムノッチフィルタ68は、フィルタ54により遮断された光をファイバコネクタ34Cに向けて反射鏡56から受け取られる残りの光と再結合する。従って、光ルミネセンスの全波長域が調査のために分光計に送られる。
【0046】
他の操作形態は、次の通りである。これは、例えば有機的および生物学的材料,重合体,フォトレジストなどに対して適当である。
【0047】
このような材料の多くは、あらゆるラマン散乱光が蛍光発光により邪魔される傾向があるという問題を持っている。これは、より長い励起波長、例えば(進路の外に動かされる反射鏡66と共に)ファイバコネクタ34Bに接続される光ファイバによって導入される785nmを使用することにより克服される。この励起光は、ホログラムノッチフィルタ54によって反射され、試料14に向けて光路22に沿ってフィルタ46を真っ直ぐ通り抜ける。戻りのラマン散乱光は、再びフィルタ46を影響されずに通り抜ける。これは、785nmのレイリー散乱光を遮断するフィルタ54により伝送される。ラマン散乱光は、反射鏡56によって反射され、さらなるレイリー遮断を行う第2の785nmホログラムノッチフィルタ68を通過する。次に、これは光ファイバコネクタ34Cを介して前のような分光計に取り込まれる。
【0048】
図3のシステムの1つの問題は、1つの操作形態から他に変更する場合、反射鏡66を動かす必要があるということである。この反射鏡の心合わせは著しく困難ではないけれども(これはレーザービームの焦点合わに影響を与えないので)ら)、それにもかかわらず使用者によるこのような調整を必要としないシステムを作り出すことが望ましいと思われる。このようなシステムの一例が図4に示される。
【0049】
図4において、部品は図3に示されたものと同じである。従って、これらは同じ参照符号を与えられ、それらの説明は繰り返されない。
【0050】
しかしながら、図4は可動反射鏡66を特徴にしていない。代わりに、光ファイバコネクタ34Bが2つの異なる役割を2つの異なる操作形態において果たしている。より長い(785nm)励起波長を使用する場合、これは図3のように光ファイバコネクタ34Bに入される。しかしながら、光ファイバコネクタ34Aを介してより短い(514nm)励起波長を使用する場合、このフィルタ54は、およそ785nmの光ルミネセンスおよび他の非弾性散乱光を遮断しよう。これは、光ファイバコネクタ34Bを通過する。
【0051】
従って、この形態において、両方の光ファイバコネクタ34Bおよび34Cは、システムからの出力に用いられる。これらは、分光と検出システムとを分離するように処理可能であり、この結果は、両方の出力を受け入れるコンピュータで再結合される。しかしながら、これらは70の Renishaw Mk III Raman System に2つの別々な入力として取り込まれるのが理想的である。このシステムは、多数の光ファイバ入力を受け入れ、共通のCCD検出器の相隔てた場所におけるこれらの入力から、それぞれのスペクトルに分光する能力を有している。次に、この出力はCCDから読み取られ、そしてコンピュータにて再結合される。代わりに、これらは共にCCDチップに格納可能である。
【0052】
信号を再結合する場合、コンピュータはこれらに適切な係数を乗算することにより、これらを正規化することができる。これは、異なる信号が異なる数の光学部品を通過し、異なる減衰量を受けているかも知れないという事実を考慮している。また、これは光ファイバへの光の焦点合わせおよび光ファイバの心合わせによりもたらされる強度の差をも補償している。
【0053】
レーザー入力のため、我々はコネクタ34A,34Bに接続される単一モード光ファイバを使用することを選択する。これは、試料16上の照明個所を伝送ファイバの両端と共焦にする共焦操作を可能にする。コネクタ34C(および図4中のコネクタ34B)に接続される出力ファイバは、単一モードまたは多モードであってよく、多モードファイバは広帯域の集光がより容易である。
【0054】
希望するのであれば、3つのファイバコネクタ34A,B,Cのすべてに出力光ファイバを接続することにより、陰極ルミネセンスがレーザー励起なしで集光可能である。この場合、光ファイバコネクタ34Aは、514nmのノッチフィルタ46に遮断された光を集光する。また、信号は個別の検出後に、または Renishaw Mk III Raman System で再結合可能である。
【0055】
図3および図4両方の利点は、レーザー励起波長を変える場合、使用者がホログラムノッチフィルタを取り替えて再度位置合わせする必要がないということである。使用者は、光ファイバコネクタ34A,B,Cに適切な方法で再接続する必要があるだけである。
【0056】
図3および図4の装置は、もちろん、図1に示された電子顕微鏡システムと別個に使用可能である。例えば、図3および図4中の光路23は、一般的な光学顕微鏡に対してEP543578に示された方法で導くことができる。従って、これは多種多様な試料から光ラマン,光ルミネセンスなどの光の分析に使用可能である。例えば、窒化ガリウムに基づくIII-V族半導体材料からラマンおよび光ルミネセンスを調査するため、可視レーザー励起がコネクタ34Bとコネクタ34Aを介したUVレーザー励起とを介して供給可能であり、ホログラムノッチフィルタ46,54が相応して選択される。このような材料は、それらがスペクトルの青色部分での発光であるので有益であり、UV励起はそれらの光ルミネセンスの調査を可能にする。
【0057】
他のダイクロイックフィルタがホログラムノッチフィルタの代わりに使用可能である。例えば、これらはエッジフィルタまたはバンドパスフィルタであってよく、また、これらはホログラムではなく、誘電またはうねり(rugate)フィルタであってよい。
【0058】
希望するのであれば、1つまたはそれ以上のさらなる光ファイバコネクタを設けることによって、3つまたはそれ以上の励起波長を使用可能にすることができる。1つまたはそれ以上の追加ノッチフィルタがフィルタ46,54と同じ方法で光路23に連続して配置され、これら追加フィルタのノッチは、追加の励起波長に対応している。
【図面の簡単な説明】
【図1】 組み合わせたシステムの概念図であって、システムの間のアダプタが断面で示されている。
【図2】 光学系の概略図である。
【図3】 図2のシステムと共に用いられる光の導入および遮断システムの他の概念配置図である。
【図4】 図2のシステムと共に用いられる光の導入および遮断システムの他の概念配置図である。

Claims (8)

  1. 別の分析装置の試料チャンバに取り付けられた試料の分光分析を行うためのアダプタであって、前記分析装置が分析軸線を有すると共にこの分析軸線にほぼ沿って分析ビームを試料に向けて投射し、前記アダプタは、
    前記分析軸線をほぼ横切る軸線に沿って入力光ビームを受け入れるように配置される反射鏡を具え、この反射鏡は、凹面であって前記入力光ビームを前記試料上の一点に合焦させ、かつ前記試料から与えられる散乱光を集光してこの散乱光を分光分析のために前記横切る軸線に沿って後方に指向させるものであり、
    前記反射鏡は、前記分析軸線上の操作位置と前記分析軸線から離れた非操作位置との間を移動可能であって、合焦した前記点が前記試料上の同じ点に位置するように、前記入力光ビームの軸線と前記凹面鏡の軸線とのアライメントを維持する
  2. 請求項1に記載のアダプタであって、前記入力光ビームと前記散乱光とを処理するために光学系が設けられ、この光学系は、前記反射鏡が前記操作および非操作位置の間を移動するのに伴って前記反射鏡と共に移動可能である。
  3. 請求項1または請求項2に記載のアダプタであって、前記入力光ビームと前記散乱光とを処理するための光学系が設けられ、前記反射鏡が前記操作位置にある場合にその位置が調整可能であり、前記光学系は前記反射鏡が調整されるのに伴ってこれと共に移動可能である。
  4. 請求項2または請求項3に記載のアダプタであって、前記光学系は前記散乱光から前記入力光ビームの波長を有する光を遮断するための1つまたはそれ以上のフィルタを有する。
  5. 請求項2,請求項3または請求項4に記載のアダプタであって、前記光学的分析が分光分析によるものであり、前記光学系が前記分光分析のための光の導入および遮断装置である。
  6. 請求項4に記載のアダプタであって、前記光学系が少なくとも2つの異なる単色光を用いる分光分析システムのための光の導入および遮断装置であり、
    このような分析を行うために分析されるべき試料と分光分析システムとの間に延在する光路と、
    1の波長で第1の励起ビームを受け入れるための第1の入力ビームと、
    前記第1の波長と異なる第2の波長で第2の励起ビームを受け入れるための第2の入力ビームと、
    前記試料に向けて前記第1の入力ビームを指向させ、前記試料から与えられる前記第1の波長の弾性散乱光を遮断すると同時に前記分光分析システムに向けて分析のための非弾性散乱光を通過させるように、前記光路中に傾斜して配置される第1のフィルタと、
    前記試料に向けて前記第2の入力ビームを指向させ、前記試料から与えられる前記第2の波長の弾性散乱光を遮断すると同時に前記分光分析システムに向けて分析のための非弾性散乱光を通過させるように、前記光路中に傾斜して配置される第2のフィルタと
    を具え、前記試料が前記第1の波長で励起された場合に前記第2の波長の望ましい非弾性散乱光もまた、前記第2のフィルタによって前記光路から遮断され、
    前記遮断されるけれども望ましい前記第2の波長の非弾性散乱光は、他の非弾性散乱光と再結合されるか、あるいは個別に検出される。
  7. 請求項1から請求項6の何れかに記載のアダプタであって、前記反射鏡が放物面である
  8. 請求項1から請求項7の何れかに記載のアダプタであって、前記反射鏡が運動学的支持体により前記操作位置に保持されている
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