JP4388928B2 - リソグラフィ・ビーム形成方法及びシステム - Google Patents
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Description
本発明は、共通のビーム経路に投影される複数の放射源のビームを対象とするものである。
本明細書で使用する「個々に制御可能な要素の配列」という用語は、基板のターゲット部分に所望のパターンを形成できるように、入射する放射ビームにパターンを付与された断面を与えるために用いることのできる任意の手段を指すものと広く解釈すべきである。「光弁」及び「空間光変調器(SLM)」という用語も、この文脈で用いることができる。以下では、こうしたパターン形成の実施例について論じる。
図1は、リソグラフィ投影装置100の一実施例のブロック図である。装置100は、放射システム102、個々に制御可能な要素の配列104、対象物テーブル106(例えば基板テーブル)、及び投影システム(「レンズ」)108を含んでいる。
(1)ステップ・モード
個々に制御可能な要素の配列104のパターン全体を1回(即ち、ただ1回の「フラッシュ」)でターゲット部分120に投影する。次いで、異なるターゲット部分120がパターンの付与されたビーム110によって照射されるように、基板テーブル106をx及び/又はy方向に異なる位置へ移動させる。
(2)走査モード
所与のターゲット部分120を1回の「フラッシュ」で露光しないことを除けば、本質的にステップ・モードと同じである。その代わり、個々に制御可能な要素の配列104は、速度vで所与の方向(例えばy方向など、いわゆる「走査方向」)に移動可能であり、したがってパターンの付与されたビーム110は、個々に制御可能な要素の配列104全体を走査する。それと同時に、基板テーブル106を、速度V=Mv(ここで、Mは投影システム108の倍率)で同じ方向又は反対方向に同時に移動させる。この方法では、解像度を損なうことなく、比較的大きいターゲット部分120を露光できる。
(3)パルス・モード
個々に制御可能な要素の配列104を本質的に静止した状態に保ち、パルス式の放射システム102を用いてパターン全体を基板114のターゲット部分120に投影する。パターンの付与された投影ビーム110が基板106を横切るラインを走査するように、基板テーブル106を本質的に一定の速度で移動させる。連続するターゲット部分120が基板114の必要な位置で露光されるように、個々に制御可能な要素の配列104のパターンが放射システム102のパルスの間に必要に応じて更新され、パルスのタイミングが合わせられる。したがって、パターンの付与されたビーム110は基板114を横切って走査し、基板114の細長い部分に対して完全なパターンを露光できる。この工程は、1ラインずつ基板114全体が露光されるまで繰り返される。
(4)連続走査モード
実質的に一定の放射システム102が用いられ、パターンの付与されたビーム110が基板114を横切って走査してそれを露光する際に、個々に制御可能な要素の配列104のパターンが更新されることを除けば、本質的にパルス・モードと同じである。
(5)ピクセル格子結像モード
スポット生成装置130によって形成され、配列104へ向けられたスポットをその後露光することにより、基板114に形成されるパターンが得られる。露光されたスポットは、実質的に同じ形を有している。各スポットは、基板114上で実質的に格子状に印刷(プリント)される。一実施例では、スポット寸法はプリントされたピクセル格子のピッチより大きく、露光のスポット格子よりずっと小さい。プリントされるスポットの強度を変化させることによって、パターンが得られる。露光フラッシュの合間にスポット全体の強度分布を変化させる。
本発明は、ビーム送出システム、及びそうしたビーム送出システムを含むリソグラフィ装置、並びに関連する方法に関するものである。この方法では、複数の放射源の放射ビームを単一の共通のビーム経路に沿って偏向させることによって放射の投影ビームを形成し、その放射の投影ビームを供給する。
102 放射システム
104 個々に制御可能な要素の配列
106 基板テーブル、対象物テーブル
108 投影システム
110、122 放射ビーム
112 放射源
114 基板
116 位置決め装置
118、140 ビーム分割器
201、202、203、604 パルス、放射ビーム
300、400、600、700 ビーム送出システム
302、304、306 放射源、レーザー
402、404、606 偏光ビーム分割器
406、610 ポッケルス・セル
408 1/2波長板
410 中間板
602 放射源
608 波長板
612、702 可変減衰器
704 経路
Claims (21)
- 放射の投影ビームを供給する照明システムと、
前記投影ビームの断面にパターンを与えるように働く個々に制御可能な要素の配列と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターンの付与されたビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムとを有するリソグラフィ装置において、
前記照明システムが、少なくとも1つの放射ビーム偏向要素と、複数の放射源の放射ビームをそれぞれの放射源から受け取る少なくとも1つの放射入力部とを有するビーム送出システムを含み、前記少なくとも1つの放射ビーム偏向要素が、受け取った放射源の放射ビームのそれぞれを、単一の共通ビーム経路に沿って偏向させて、前記放射の投影ビームを供給するように構成され、
前記放射源の放射ビームがそれぞれ、周期的な一連の放射パルスを含むパルス式の放射ビームであり、
前記投影ビームが周期的な一連の放射パルス群を含み、各パルス群内には、異なる放射源からの放射パルスが存在し、各パルス群が、前記制御可能な要素の少なくとも1つの状態を変化させるのに十分な時間だけ離れ、
各パルス群の時間的な幅は、そのパルス群に含まれる複数のパルスが実質的に前記基板の同じ領域に当たるように設定されているリソグラフィ装置。 - 前記投影ビームが一連の別個の放射パルスを含み、前記投影ビーム内の各放射パルスが、それぞれ単一の放射源の放射ビームからのそれぞれ単一のパルスにより形成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 各パルス群が、それぞれの放射源の放射ビームから1つのパルスを含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 各パルス群内の連続するパルスは時間的に離れている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 各パルス群に含まれる各パルスのタイミングは、その各パルスを形成する放射源と前記単一の共通ビーム経路との間の光学経路の長さを制御することによって制御される請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記放射源の放射ビームがそれぞれ、実質的に同じ放射波長であり、前記周期的な一連の放射パルスがそれぞれ、実質的に同じ繰り返し周波数を有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 各群の放射強度が確実に所定の制限範囲内になるように、前記ビーム送出システムが、各群内の少なくとも1つのパルスの強度を制御するように構成された群強度制御装置をさらに有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記群強度制御装置が、前記パルス群に対する前記少なくとも1つのパルスの供給を選択的に抑制するように構成されている請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記群強度制御装置が、前記少なくとも1つのパルスの強度を制御可能に減衰させるように構成されている請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つのパルスが各群の最後のパルスを含み、前記群強度制御装置が、前記群内の測定された他のパルスの強度によって前記最後のパルスの強度を制御するように構成されている請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つのパルスが各群の最後のパルスを含み、前記群強度制御装置が、前記群内の測定された各パルスの強度によって前記最後のパルスの強度を制御するように構成されている請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記群強度制御装置は、
前記最後のパルスを形成する放射源と前記単一の共通ビーム経路との間の光学経路上に、前記単一の共通ビーム経路に隣接して配置され、前記最後のパルスの強度を制御する可変減衰器を含み、
前記最後のパルスを形成する放射源と前記単一の共通ビーム経路との間の光学経路は、
前記最後のパルスを形成する放射源で、或いはその近くで測定された前記最後のパルスのエネルギーに対して前記可変減衰器の透過度を所望のレベルに設定するのに十分な時間が与えられるような長さを有する請求項10または11に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つの放射ビーム偏向要素が制御可能な放射ビーム偏向要素を含み、受け取られる放射源の放射ビームがそれぞれ、前記制御可能な放射ビーム偏向要素に入射し、前記制御可能な放射ビーム偏向要素が、受け取った放射源の放射ビームのそれぞれを単一の共通ビーム経路に沿って偏向させるように働く請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記放射源の放射ビームのそれぞれが偏光され、前記少なくとも1つの放射ビーム偏向要素が少なくとも1つの偏光ビーム分割器を含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ビーム送出システムが、入射放射の偏光状態を変更するように構成された制御可能な偏光変更要素をさらに有する請求項14に記載されたリソグラフィ装置。
- 複数の放射源の放射ビームを供給するそれぞれの放射源をさらに有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 基板にパターンを投影する方法において、
複数の放射源の放射ビームを複数の対応する放射源から受け取る段階と、
前記複数の放射源の放射ビームを共通のビーム経路に沿って偏向させ、それによって放射の投影ビームを形成する段階と、
個々に制御可能な要素の配列によって前記放射の投影ビームに断面パターンを与える段階と、
パターンの付与された放射の投影ビームを基板のターゲット部分に投影する段階とを含み、
前記複数の放射源の放射ビームがそれぞれ、周期的な一連の放射パルスを含むパルス式の放射ビームであり、
前記投影ビームが周期的な一連の放射パルス群を含み、各パルス群内には、異なる放射源からの放射パルスが存在し、各パルス群が、前記制御可能な要素の少なくとも1つの状態を変化させるのに十分な時間だけ離れ、
各パルス群の時間的な幅は、そのパルス群に含まれる複数のパルスが実質的に前記基板の同じ領域に当たるように設定される、パターンの投影方法。 - 前記放射の投影ビームが一連の別個の放射パルスを含み、前記放射の投影ビーム内の各放射パルスが、それぞれの放射源の放射ビームからのそれぞれのパルスで形成されている請求項17に記載されたパターンの投影方法。
- 前記放射源の放射ビームがそれぞれ、実質的に同じ放射波長であり、前記周期的な一連の放射パルスがそれぞれ、実質的に同じ繰り返し周波数を有する請求項17に記載されたパターンの投影方法。
- 各パルス群が、それぞれの放射源の放射ビームから1つのパルスを含む請求項17に記載されたパターンの投影方法。
- 各群放射強度全体が確実に所定の制限範囲内になるように、前記ビーム送出システムが、各群内の少なくとも1つのパルスの強度を制御する請求項17に記載されたパターンの投影方法。
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