JP2009267403A - 照明システムおよびリソグラフィ方法 - Google Patents
照明システムおよびリソグラフィ方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009267403A JP2009267403A JP2009098190A JP2009098190A JP2009267403A JP 2009267403 A JP2009267403 A JP 2009267403A JP 2009098190 A JP2009098190 A JP 2009098190A JP 2009098190 A JP2009098190 A JP 2009098190A JP 2009267403 A JP2009267403 A JP 2009267403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- raster
- illumination
- optical element
- spatial
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/42—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of the same original
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【解決手段】放射ビームを複数の放射チャネルに分割する第1のラスタエレメント110を含む第1の光エレメント100と、複数の放射チャネルを受ける、第2のラスタエレメント150を含む第2の光エレメント160とを含むリソグラフィ装置の照明システムILが開示される。放射チャネルの各々に対して、第1のラスタエレメントのラスタエレメントは、第1の光エレメントからオブジェクト面への連続的ビームパスを提供するために第2のラスタエレメントのそれぞれのラスタエレメントと関連付けられる。フィルタSFは、照明システムILの瞳内に所望の空間強度分布を生成するために放射ビームが通り抜けたパスに配置されている。
【選択図】図3
Description
Claims (16)
- 放射ビームを受けるための第1の光エレメントであって、前記放射ビームを複数の放射チャネルに分割する第1のラスタエレメントを含む第1の光エレメントと、
前記複数の放射チャネルを受けるための第2の光エレメントであって、第2のラスタエレメントを含む第2の光エレメントと、
前記第2の光エレメントおよび瞳を介して前記放射チャネルを受けるように構成されたオブジェクト面と
を含み、
前記放射チャネルの各々に対して、前記第1のラスタエレメントのラスタエレメントは、前記第1の光エレメントから前記オブジェクト面への連続的ビームパスを提供するために前記第2のラスタエレメントのそれぞれのラスタエレメントと関連付けられ、前記関連付けは、前記第1のラスタエレメントの空間分布がそれぞれの関連付けられた第2のラスタエレメントの空間分布と一致しないような関連付けであり、
空間フィルタは、照明モードを生成するために前記放射ビームが通り抜けたパスに配置されている、照明システム。 - 前記空間フィルタは、放射源と前記第1の光エレメントとの間に配置され、前記放射源は、前記放射ビームを前記照明システムに提供するように構成されている、請求項1に記載の照明システム。
- 前記照明システムの使用中、前記空間フィルタは、前記第1の光エレメント上に衝突する放射および前記第1の光エレメントから反射する放射の両方が前記フィルタを通り抜けるように構成されている、請求項1または2に記載の照明システム。
- 前記空間フィルタは、使用中において前記放射ビームの放射を少なくとも部分的に遮蔽する本体内に構成された複数の透過型エリアを有する、請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の照明システム。
- 前記空間フィルタの前記複数の透過型エリアは、対応する、選択された複数の第1のラスタエレメントと並置登録で配置されている、請求項4に記載の照明システム。
- 前記選択された複数の第1ラスタエレメント選択は、瞳面内の所望の空間強度分布を提供するように構成されている、請求項5に記載の照明システム。
- 前記所望の空間強度分布は、ダイポール照明、四極照明および輪帯照明を含む照明モードに対応する、請求項6に記載の照明システム。
- 前記空間フィルタは、全てがフィルタ交換デバイスの一部である1組の空間フィルタの一部である、請求項1〜7のうちのいずれか一項に記載の照明システム。
- 請求項1〜8のうちのいずれか一項に記載の照明システムを含むリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスを使用して照明システムから出る放射ビームの断面にパターンを付与することと、
前記パターンを基板上に投影することと
を含むリソグラフィ方法であって、前記照明システムは、
前記放射ビームを複数の放射チャネルに分割する第1のラスタエレメントを含む第1の光エレメントと、
前記複数の放射チャネルを受けるための第2の光エレメントであって、第2のラスタエレメントを含む第2の光エレメントと、
前記第2の光エレメントおよび瞳を介して前記放射チャネルを受けるように構成されたオブジェクト面と
を含み、
前記第1のラスタエレメントの各ラスタエレメントは、前記第2のラスタエレメントのそれぞれのラスタエレメントと関連付けられ、前記第1のラスタエレメントの空間分布は、それぞれの関連付けられた第2のラスタエレメントの空間分布と一致せず、
前記方法は、瞳内に選択された強度分布を生成するために前記放射ビームを空間フィルタリングすることをさらに含む、リソグラフィ方法。 - 前記空間フィルタリングは、放射源と前記第1の光エレメントとの間に発生し、前記放射源は、前記放射ビームを前記照明システムに提供するように構成されている、請求項10に記載のリソグラフィ方法。
- 前記空間フィルタリングは、前記第1の光エレメント上に衝突する放射および前記第1の光エレメントから反射する放射の両方による空間フィルタの通り抜けを含む、請求項10または11に記載のリソグラフィ方法。
- 前記空間フィルタリングは、前記放射ビームの放射を少なくとも部分的に遮蔽する本体内に構成された複数の透過型エリアを有する空間フィルタを使用することと、前記空間フィルタの前記複数の透過型エリアを、対応する、選択された複数の第1のラスタエレメントと並置登録で配置することとを含む、請求項10〜12のうちのいずれか一項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記選択された複数の第1ラスタエレメントを構成する第1のラスタエレメントの選択が、瞳面内の所望の空間強度分布を提供するように構成することを含む、請求項13に記載のリソグラフィ方法。
- 前記所望の空間強度分布は、ダイポール照明、四極照明および輪帯照明を含む照明モードに対応する、請求項14に記載のリソグラフィ方法。
- 前記空間フィルタリングは、前記選択された空間強度分布を生成するために空間フィルタを使用することを含み、別の選択された空間強度分布を生成するために前記空間フィルタを別の空間フィルタと交換することをさらに含む、請求項10〜15のうちのいずれか一項に記載のリソグラフィ方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7131208P | 2008-04-22 | 2008-04-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009267403A true JP2009267403A (ja) | 2009-11-12 |
Family
ID=41200848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009098190A Pending JP2009267403A (ja) | 2008-04-22 | 2009-04-14 | 照明システムおよびリソグラフィ方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090262328A1 (ja) |
JP (1) | JP2009267403A (ja) |
NL (1) | NL1036771A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012244184A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法 |
JP2018523849A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-08-23 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ方法及び装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015217603A1 (de) * | 2015-09-15 | 2017-03-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002203784A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-07-19 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 照明の設定が変更可能な照明系 |
JP2003506881A (ja) * | 1999-07-30 | 2003-02-18 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | Euv照明光学系の射出瞳における照明分布の制御 |
JP2003309057A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Canon Inc | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004128449A (ja) * | 2002-03-18 | 2004-04-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造法 |
JP2008042203A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Cark Zeiss Smt Ag | 波長≦193nmによる投影露光装置用の照明システム |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6710855B2 (en) * | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US5552856A (en) * | 1993-06-14 | 1996-09-03 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
DE10138313A1 (de) * | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Zeiss Carl | Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm |
US7170587B2 (en) * | 2002-03-18 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2009
- 2009-03-26 NL NL1036771A patent/NL1036771A1/nl not_active Application Discontinuation
- 2009-04-14 JP JP2009098190A patent/JP2009267403A/ja active Pending
- 2009-04-20 US US12/426,804 patent/US20090262328A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003506881A (ja) * | 1999-07-30 | 2003-02-18 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | Euv照明光学系の射出瞳における照明分布の制御 |
JP2002203784A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-07-19 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 照明の設定が変更可能な照明系 |
JP2004128449A (ja) * | 2002-03-18 | 2004-04-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造法 |
JP2003309057A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Canon Inc | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2008042203A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Cark Zeiss Smt Ag | 波長≦193nmによる投影露光装置用の照明システム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012244184A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法 |
JP2018523849A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-08-23 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ方法及び装置 |
US10401734B2 (en) | 2015-08-21 | 2019-09-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic method and apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090262328A1 (en) | 2009-10-22 |
NL1036771A1 (nl) | 2009-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI616724B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
JP4310302B2 (ja) | 光学的に位置を評価する機器及び方法 | |
JP4880635B2 (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
JP4955028B2 (ja) | デバイス製造方法、リソグラフィ装置及びそれによって製造されたデバイス | |
JP2008258605A (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
JP2006013518A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
KR20120105473A (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 | |
KR20040048355A (ko) | 리소그래피장치 및 디바이스제조방법 | |
KR20120102145A (ko) | 조명 시스템, 리소그래피 장치 및 조명 방법 | |
KR20120052386A (ko) | 조명 시스템, 리소그래피 장치, 및 조명 모드를 조정하는 방법 | |
US9134629B2 (en) | Illumination system, lithographic apparatus and method of forming an illumination mode | |
JP2006165552A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2004289116A (ja) | リソグラフィ装置と測定系 | |
KR100696736B1 (ko) | 오목 및 볼록거울을 포함하는 컬렉터를 구비한 리소그래피투영장치 | |
JP4851422B2 (ja) | リソグラフィ装置及び露光方法 | |
JP5885418B2 (ja) | リソグラフィ装置、収差ディテクタ、およびデバイス製造方法 | |
KR20170063797A (ko) | 조명 시스템 | |
JP2011529629A (ja) | リソグラフィ装置におけるコレクタデバイスのアライメント | |
JP2010524231A (ja) | パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法 | |
US8030628B2 (en) | Pulse modifier, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2009267403A (ja) | 照明システムおよびリソグラフィ方法 | |
JP2004343058A (ja) | 計測ビームの操作および方向付けするための装置および方法 | |
JP4791179B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2014203905A (ja) | 照明方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
JP2009111361A (ja) | リソグラフィ装置および方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121120 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130823 |