JP4380522B2 - マイクロレンズアレイ用複製型の製造方法 - Google Patents
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Description
図15(a)〜(c)は従来の光学基板の製造方法(=マイクロレンズアレイ用複製型の製造方法)を示した工程図である。
基板の上面に耐ブラスト性を有するマスク材を形成した後、前記各マイクロレンズを形成する各開口部を所定のピッチ及び所定の幅で形成すると共に、隣り合う開口部間をマスク部で覆う工程と、
前記マスク材上に粒径にばらつきのあるブラスト微粉末研磨材を吹き付けて、前記開口部から露出した前記基板に所定深さのマイクロレンズ用の第1凹部と、該マイクロレンズ用の第1凹部の内面に沿ってサブレンズ用の第2凹部の下地を形成する工程と、
前記基板の上面に設けた前記マスク材を除去する工程と、
前記基板上からエッチングを行って、前記マイクロレンズ用の第1凹部内に前記サブレンズ用の第2凹部を複数形成すると共に、隣り合う前記マイクロレンズ用の第1凹部同士を接合するようにする工程とを含むことを特徴とするマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法を提供する。
図2は一般的な凸レンズにおいて、曲率半径Rの凸レンズの焦点距離fを説明するための図、
図3は図1に示したマイクロレンズアレイにおいて、一つのマイクロレンズを拡大して示した図である。
D:マイクロレンズ12aの底面が真円以外の場合にマイクロレンズ12aの底面の中心を通る各線上で前記底面の最大幅と最小幅とを加算して2分したマイクロレンズ底面幅、又は、マイクロレンズ12aの底面が真円である場合にマイクロレンズ底面直径、
Ds:サブレンズ12bの底面が真円以外の場合にサブレンズ12bの底面の中心を通る各線上で前記底面の最大幅と最小幅とを加算して2分したサブレンズ底面幅、又は、サブレンズ12bの底面が真円である場合にサブレンズ底面直径、
Dsav:複数の前記サブレンズ底面幅Dsを平均化した平均サブレンズ底面幅、又は、複数の前記サブレンズ底面直径Dsを平均化した平均サブレンズ底面直径、
とした時に、視野角を拡大させる条件は、Dsav/Dの比率によって決まる。
図7(d)〜(f)は本発明に係る実施例1のマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法を模式的に示した工程図その2、
図8(g)〜(i)は本発明に係る実施例1のマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法を模式的に示した工程図その3である。
次に、図6(c)に示した露光工程では、ネガマスク23の上方から紫外線24を照射する。この紫外線24はネガマスク23の各黒色パターン部23aを透過せず、一方、ネガマスク23の各透明パターン部23bを透過する。これに伴って、ネガマスク23の下方に設置したドライフィルム22上では、ネガマスク23の各黒色パターン部23aと対応する位置に各未硬化部22aが形成される一方、ネガマスク23の各透明パターン部23bと対応する位置に各硬化部22bが形成される。
で求まる。
マイクロレンズアレイ用複製型となる基板として厚み3mmのソーダガラス基板21を用意し、このソーダガラス基板21の上面21aに厚み50μmのドライフィルム22を加熱した状態で圧力をかけて貼り合わせた。
実験例2では、ドライフィルム22上で隣り合う開口部22a1のピッチPxを例えば130μmに設定し、且つ、開口部22a1の幅Axを可変した以外は実験例1と同様に処理した。この結果を下記の表2に示す。尚、表2において、Dは前記したマイクロレンズ底面幅又はマイクロレンズ底面直径であり、Dsavは複数のサブレンズ底面幅Dsを平均化した平均サブレンズ底面幅、又は、複数の各サブレンズ底面直径Dsを平均化した平均サブレンズ底面直径である。
実験例1に対してドライフィルム22上で隣り合う開口部22a1のピッチPxを25μmとした以外は同じ条件でマイクロレンズアレイ12を作製した。この際はエッチング量が75μmでサブレンズは形成されなかった。
実験例2に対してドライフィルム22上で隣り合う開口部22a1のピッチPxを55μmとした以外は同じ条件でマイクロレンズアレイ12を作製した。この際はエッチング量が75μmでサブレンズは形成されなかった。
図11(d)〜(f)は本発明に係る実施例2のマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法を模式的に示した工程図その2、
図12(g)〜(j)は本発明に係る実施例2のマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法を模式的に示した工程図その3である。
10’…実施例2のマイクロレンズアレイ素子、
11…レンズ基板、11a…上面、
12…実施例1のマイクロレンズアレイ、
12’…実施例2のマイクロレンズアレイ、
12a…マイクロレンズ、12b…サブレンズ、
21…実施例1のマイクロレンズアレイ用複製型(基板)、
21’…実施例2のマイクロレンズアレイ用複製型(基板)、
21a…上面、21b…マイクロレンズ用の第1凹部(マイクロレンズ用凹部)、
21c3…サブレンズ用の第2凹部(サブレンズ用凹み)、
22…マスク材{感光性フィルム(ドライフィルム)}、
22a…未硬化部、22a1…開口部、22b…マスク部(硬化部)、
23…ネガマスク、23a…黒色パターン部、23b…透明パターン部、
24…紫外線、25…現像液容器、26…希釈した炭酸ソーダ(Na2CO3)、
27…ブラストノズル、28…ブラスト微粉末研磨材、
31…紫外線硬化樹脂、32…紫外線、
R…マイクロレンズの曲率半径、Rs…サブレンズの曲率半径、
D…マイクロレンズの底面が真円以外の場合にマイクロレンズの底面の中心を通る各線上で前記底面の最大幅と最小幅とを加算して2分したマイクロレンズ底面幅、又は、マイクロレンズの底面が真円である場合にマイクロレンズ底面直径、
Ds…サブレンズの底面が真円以外の場合にサブレンズの底面の中心を通る各線上で前記底面の最大幅と最小幅とを加算して2分したサブレンズ底面幅、又は、サブレンズの底面が真円である場合にサブレンズ底面直径、
Dsav…複数のサブレンズ底面幅Dsを平均化した平均サブレンズ底面幅、又は、複数のサブレンズ底面直径Dsを平均化した平均サブレンズ底面直径、
Ts…サブレンズの突出量、
Tsav…複数のサブレンズの各突出量Tsを平均化した平均突出量。
Claims (1)
- 凸状に突出したマイクロレンズを2次元面上で密接して複数配列させ、且つ、各マイクロレンズの表面に沿って該マイクロレンズの曲率半径よりも曲率半径が小さい凸状のサブレンズを複数突出形成させたマイクロレンズアレイを作製するためのマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法であって、
基板の上面に耐ブラスト性を有するマスク材を形成した後、前記各マイクロレンズを形成する各開口部を所定のピッチ及び所定の幅で形成すると共に、隣り合う開口部間をマスク部で覆う工程と、
前記マスク材上に粒径にばらつきのあるブラスト微粉末研磨材を吹き付けて、前記開口部から露出した前記基板に所定深さのマイクロレンズ用の第1凹部と、該マイクロレンズ用の第1凹部の内面に沿ってサブレンズ用の第2凹部の下地を形成する工程と、
前記基板の上面に設けた前記マスク材を除去する工程と、
前記基板上からエッチングを行って、前記マイクロレンズ用の第1凹部内に前記サブレンズ用の第2凹部を複数形成すると共に、隣り合う前記マイクロレンズ用の第1凹部同士を接合するようにする工程とを含むことを特徴とするマイクロレンズアレイ用複製型の製造方法。
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