JP4378357B2 - 露光装置及びその圧力制御方法並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
投影光学系空間28が高真空に保たれ、基板ステージ空間26が低真空に保たれている場合(投影光学系空間の圧力<基板ステージ空間の圧力)、圧力コントローラ100は、図1に例示的に示す圧力制御を行う。ここで、投影光学系空間28は、相対的にアウトガス発生量が少なく、基板ステージ空間26は、相対的にアウトガス発生量が多い。
投影光学系空間28に高純度のガスを供給して、基板ステージ空間26側からのコンタミ原因物質の混入を阻止しようとしている場合には、圧力コントローラ100は、図2に例示的に示す圧力制御を行う。すなわち、圧力コントローラ100は、投影光学系空間28の圧力が基板ステージ空間26の圧力よりも高い関係が維持された状態で両者を大気圧まで昇圧する(昇圧手順)。
PPO:投影光学系空間28の圧力
α:異物流入に対する圧力マージン
β:隔壁強度に対する圧力マージン
α(異物流入に対する圧力マージン)は、基板ステージ空間26から投影光学系空間28へのアウトガス拡散を防止するための圧力差についての圧力マージンである。高真空では分子同士の衝突がごく少ないため、通常の気体や流体のように差圧を設けることによって流入を防ぐ方法をとることができない。
露光時において、投影光学系空間28が高真空に保たれ、基板ステージ空間26が低真空に保たれる場合(投影光学系空間の圧力<基板ステージ空間の圧力)、圧力コントローラ100は、図5に例示的に示す圧力制御を行う。図5において、”希薄気体境界圧力”は、通常の気体と希薄気体との境界近傍の圧力であり、例えばクヌッセン数KnがKn=0.01となる圧力である。
露光時において、投影光学系空間28に高純度のガスを供給して基板ステージ空間26側からのコンタミ原因物質の混入を阻止している場合には、圧力コントローラ100は、図6に例示的に示すような圧力制御を行う。
図8に示すように、投影光学系空間28とレチクルステージ空間34を制御対象として、上記実施形態における基板ステージ空間26に対する圧力制御をレチクルステージ空間34に対して行う。
図9に示すように、レチクルステージ空間34と照明光学系空間37を制御対象とする。そして、上記実施形態におけるウエハステージ空間26に対する圧力制御をレチクルステージ空間34に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御を照明光学系空間37に対して行う。
図10に示すように、照明光学系空間37と光源空間38を制御対象とする。そして、上記実施形態における基板ステージ空間26に対する圧力制御を光源空間38に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御を照明光学系空間37に対して行う。
図11に示すように、照明光学系空間(37)と投影光学系空間(28)との間の隔壁(30)を取り払って1つ光学系空間54とする。そして、上記実施形態における投影光学系空間28に対する圧力制御を光学系空間54に対して行う。
適用例4における基板ステージ空間26に対する圧力制御をレチクルステージ空間34に対して行う。
適用例4における基板ステージ空間26に対する圧力制御を光源空間38に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御を光学系空間54に対して行う。
図12に示すように、照明光学系空間(37)とレチクルステージ空間(34)との間の隔壁(33)を取り払って1つのレチクル照明光学系空間65とする。そして、上記実施形態におけるウエハステージ空間26に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間65に対して行う。
上記(適用例7)において、ウエハステージ空間26に対する圧力制御を光源空間38に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間65に対して行う。
基板ステージ空間26に対する圧力制御とレチクルステージ空間34に対する圧力制御とを入れ替える。
基板ステージ空間26に対する圧力制御を光源空間38に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御を照明光学系空間37に対して行う。
投影光学系空間28に対する圧力制御を光学系空間54に対して行う。
投影光学系空間28に対する圧力制御を光学系空間54に対して行い、レチクルステージ空間34に対する圧力制御を光源空間38に対して行う。
基板ステージ空間26に対する圧力制御をレチクルステージ空間34に対して行い、投影光学系空間28に対する圧力制御を光学系空間54に対して行い、レチクルステージ空間34に対する圧力制御を光源空間38に対して行う。
レチクルステージ空間34に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間65に対して行う。
基板ステージ空間26に対する圧力制御を光源空間38に対して行い、レチクルステージ空間34に対する圧力制御をレチクル照明光学系空間65に対して行う。
次に上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図15は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷(ステップ7)する。
2 集光レンズ
3 ターゲットガス供給装置
4 プラズマ
5 EUV光
6 照明系第一ミラー
7 オプティカルインテグレータ
8 照明系第二ミラー
9 画角制限アパーチャ
10 照明系第三ミラー
11 反射型レチクル
12 レチクル保持装置
13 レチクルステージ機構
14 レチクルアライメント光学系
15 投影系第一ミラー
16 投影系第二ミラー
17 投影系第三ミラー
18 開口制限アパーチャ
19 投影系第四ミラー
20 投影EUV光
21 基板
22 基板チャック
23 基板ステージ機構
24 基板アライメント光学系
25 隔壁
26 基板ステージ空間
27 開口部
28 投影光学系空間
29 隔壁
30 隔壁
31 開口部
32 開口部
33 隔壁
34 レチクルステージ空間
35 隔壁
36 開口部(窓)
37 照明光学系空間
38 光源空間
39 排気系
40 排気系
41 排気系
42 排気系
43 排気系
44 給気バルブ
45 給気バルブ
46 給気バルブ
47 給気バルブ
48 給気バルブ
49 圧力計
50 圧力計
51 圧力計
52 圧力計
53 圧力計
54 光学系空間
61 圧力計
65 レチクル照明光学系空間
69 排気系
Claims (11)
- 光学系を有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学系の少なくとも一部を内包する第1空間と前記第1空間に隣接した第2空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁と、
前記第1空間内の圧力を調整する第1圧力調整器と、
前記第2空間内の圧力を調整する第2圧力調整器と、
前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器の操作量を出力する制御器とを有し、
前記制御器は、前記第1空間内の圧力が前記第2空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させるように、前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器の操作量を出力する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御器は、前記圧力関係が満たされるように前記第1空間内の圧力を上昇させた後、前記圧力関係を維持しながら前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力を真空から大気圧へ変化させるように、前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御器は、前記圧力関係を維持しながら前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力を大気圧から真空へ変化させるように、前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記制御器は、前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力が予め設定された圧力まで低下した後に、前記第1空間内の圧力が前記第2空間内の圧力より低い圧力関係を満たすように、前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器の操作量を出力することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記予め設定された圧力は、希薄気体境界圧力以下の圧力であることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器のそれぞれは、排気系および給気系を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1圧力調整器および前記第2圧力調整器のそれぞれは、圧力センサを更に含むことを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記光学系は、原版のパターンを前記基板に投影するための投影光学系および前記原版を照明するための照明光学系の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第2空間に配された、原版を移動させるための原版ステージ機構、前記第2空間に配された、前記基板を移動させるための基板ステージ機構、および前記第2空間に配された光源のいずれかを更に有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 光学系と、前記光学系の少なくとも一部を内包する第1空間と前記第1空間に隣接した第2空間とを仕切り、かつ光を通過させるための開口を有する隔壁とを有し、真空雰囲気中で前記光学系を介して基板を露光する露光装置に適用される圧力制御方法であって、
前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力を測定し、
前記測定に基づき、前記第1空間内の圧力が前記第2空間内の圧力より高い圧力関係を維持しながら前記第1空間内の圧力および前記第2空間内の圧力を真空から大気圧までの範囲にわたって変化させる、
ことを特徴とする圧力制御方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置を用いて、真空雰囲気中で基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップと、
前記現像された基板を処理する処理ステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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