JP4331099B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、
投影ビームにあるパターンの断面の形を与える働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
少なくとも照明システムおよび基板テーブルが設けられる少なくとも2つの独立している真空モジュールを備え、その第1の真空モジュールが少なくとも上記投影システムおよび/または照明システムを備え、および少なくとも第2の真空モジュールが上記基板テーブルを備えている真空システムとを備え、少なくとも2つの真空モジュールが閉鎖可能な接続部を介して相互に接続しているリソグラフィ装置を提供する。
基板を供給するステップと、
照明システムにより放射線の投影ビームを供給するステップと、
投影ビームにあるパターンの断面を与えるためにパターニング手段を使用するステップと、
基板の目標部分上に放射線のパターン化されたビームを投影するステップとを含み、
投影ビームおよび/またはパターン化されたビームの少なくとも上記供給は第1の真空モジュール内で行われ、基板は第2の真空モジュール内に供給され、第1の真空モジュールは、閉鎖できる接続部を介して第2の真空モジュールに接続しているデバイス製造方法を提供する。
放射線(例えば、UVまたはEUV放射線)の投影ビームPBを供給するための照明システム(照明装置)ILと、
パターニング手段(例えば、マスク)MAを支持し、品目PLに対してパターニング手段を正確に位置決めするために、第1の位置決め手段PMに接続している第1の支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジストでコーティングされたウェハ)Wを保持し、品目PLに対して基板を正確に位置決めするために第2の位置決め手段PWに接続している基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つまたはそれ以上のダイを備える)上にパターニング手段MAにより、投影ビームPBに与えられた形をしているパターンを画像形成するための投影システム(例えば、屈折投影レンズ)PLとを備える。
1.ステップ・モードの場合には、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTは本質的に固定されていて、一方、投影ビームに与えられた全パターンが、1回で(すなわち、1回の静的露光で)目標部分C上に投影される。基板テーブルWTは、次に、Xおよび/またはY方向にシフトされ、そのため異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の静的露光で画像形成される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードの場合、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTは同期状態で走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンが目標部分C上に投影される(すなわち、1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、拡大(縮小)および投影システムPLの画像の逆特性により決まる。走査モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の動的露光の際の目標部分の(走査方向でない方向の)幅が制限され、一方、走査運動の長さにより目標部分の(走査方向の)高さが決まる。
3.他のモードの場合、マスク・テーブルMTは、プログラマブル・パターニング手段を保持する本質的に固定状態に維持され、基板テーブルWTは、投影ビームに与えられたパターンの形が目標部分C上に投影されている間に移動または走査される。このモードの場合、通常、パルス放射線源が使用され、プログラマブル・パターニング手段が、基板テーブルWTの各運動の後で、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上記タイプのプログラマブル・ミラー・アレイのようなプログラマブル・パターニング手段を使用し、マスクを使用しないリソグラフィに容易に適用することができる。
IL 照明システム
MA パターニング手段
PL 投影システム
PM 第1の位置決め手段
MT 第1の支持構造
W 基板
PW 第2の位置決め手段
WT 基板テーブル
C 目標部分
SO 放射線源
M1,M2 マスク整合マーク
P1,P2 基板整合マーク
RH レチクル・ハンドラ
WH ウェハ・ハンドラ
100 真空システム
101〜107 真空モジュール
120〜128,130 ガス通路
140〜143 充填用通路
Claims (9)
- リソグラフィ装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための照明システム(IL)と、
投影ビームの横断面をあるパターンの形にする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造(MT)と、
基板を支持するための基板テーブル(WT)と、
前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システム(PL)と、
少なくとも前記照明システム(IL)と前記基板テーブルが位置し、少なくとも2つの別々の真空モジュール(101〜107)を備え、第1の真空モジュール(102,107)が、少なくとも前記投影システム(PL)および/または前記照明システム(IL)を備え、少なくとも第2の真空モジュール(101)が、前記基板テーブル(WT)を備える真空システム(100)とを備え、
少なくとも2つの前記真空モジュール(101〜107)が閉鎖することができる接続部(120〜128,130)を介して相互に接続しており、
少なくとも2つの前記真空モジュール(101〜107)の間の前記閉鎖できる接続部が、前記接続部(120〜128,130)を少なくとも部分的に閉鎖するための弁システムを備え、前記弁システムが、前記接続部の第1の真空モジュール側に第1の弁を備え、前記接続部の第2の真空モジュール側に第2の弁を備え、少なくとも2つの前記真空モジュール(101〜107)が前記真空システム(100)から保守、交換のために取り外し可能になっているリソグラフィ装置。 - 前記投影システム(PL)が位置する投影システム用真空モジュール(107)、
前記照明システム(IL)が位置する照明システム用真空モジュール(102)、
基板またはパターニング手段を取り扱うためのハンドラ(WH、RH)が位置するハンドラ用真空モジュール(105〜106)、および/または
支持構造が位置する支持構造用真空モジュール(104)、および
放射線源(SO)が位置する放射線源用真空モジュール(103)のうちの少なくとも1つをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記真空モジュール(101〜107)のうちの少なくとも1つの圧力を増大させて該真空モジュール(101〜107)内で保守を行いながら、他の少なくとも一つの前記真空モジュール(101〜107)の内側の真空を維持するステップを含む、請求項1または請求項2に記載のリソグラフィ装置上で整備を行うための方法。
- 前記真空モジュール(101〜107)のうちの少なくとも1つの圧力が、前記リソグラフィ装置が位置する環境の環境圧力程度に増大する、請求項3に記載の方法。
- 前記圧力が、前記リソグラフィ装置が位置する環境の環境圧力より上に増大する、請求項3または4に記載の方法。
- 前記真空モジュール(101〜107)のうちの少なくとも1つ内に漏洩検出ガスを導入することにより、前記圧力が少なくとも部分的に増大する、請求項3から5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの保守を行った真空モジュールに接続している他の真空モジュール内にガスを導入するステップをさらに含む、請求項3から6のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1または2のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置で使用するように配置されている真空モジュール(101〜107)。
- デバイス製造方法であって、
基板(W)を供給するステップと、
照明システム(IL)により、放射線の投影ビームを供給するステップと、
前記投影ビームの横断面をあるパターンの形にするためにパターニング手段(MA)を使用するステップと、
前記基板の目標部分上に放射線の前記パターン化したビームを投影するステップとを含み、
少なくとも投影ビームを供給する前記ステップおよび/または前記パターン化したビームを投影するステップが、第1の真空モジュール(102〜107)内で実行され、前記基板が第2の真空モジュール(101)内で供給され、
前記第1の真空モジュール(102〜107)が、閉鎖できる接続部を通して前記第2の真空モジュール(101)に接続しており、
少なくとも2つの前記真空モジュール(101〜107)の間の前記閉鎖できる接続部が、前記接続部(120〜128,130)を少なくとも部分的に閉鎖するための弁システムを備え、前記弁システムが、前記接続部の第1の真空モジュール側に第1の弁を備え、前記接続部の第2の真空モジュール側に第2の弁を備え、少なくとも2つの前記真空モジュール(101〜107)が前記真空システム(100)から保守、交換のために取り外し可能になっているリソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法。
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