JP4322890B2 - 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体 - Google Patents
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Description
被検査物表面からの光の光強度分布を算出する工程と、上記光強度分布に基づいて、上記照射手段および撮像手段の少なくとも一方を調整する工程と、該調整を行った後の撮像手段の撮像結果に基づいて、被検査物表面に形成された起伏の状態を判定する工程とを、コンピュータに実行させることを特徴とする。
2 ライン照明
3 エリアセンサ
4 ラインセンサ
5 基板駆動ステージ
6 照明駆動ステージ
8・8x・8y 制御装置
9 表示モニタ
10 カラーフィルタ基板
19 記憶部
20 20x 画像処理部
21 21x 照明駆動制御部
22 基板駆動制御部
23 欠陥判定処理部
70 光束調節部
71 スリット
77 シリンドリカルレンズ
80 指向フィルタ(縦格子)
90 指向フィルタ(横格子)
110 正反射領域
111 乱反射領域
112 低反射領域
Claims (15)
- カラーフィルタ基板の表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する起伏検査装置であって、
上記カラーフィルタ基板に光照射を行う照射手段と、
該光照射に対するカラーフィルタ基板表面からの光についてその光強度分布を取得する光強度取得手段と、
上記カラーフィルタ基板表面からの光のうち所定の光だけを取得する撮像手段と、
上記光強度取得手段から得られる光強度分布に基づいて、上記照射手段および撮像手段の少なくとも一方を調整する調整手段と、
該調整を行った後の撮像手段の撮像結果に基づいて、カラーフィルタ基板表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する判定手段とを備え、
上記調整手段は、上記光強度分布に基づいて正反射領域、乱反射領域および低反射領域を識別するとともに上記撮像手段が上記乱反射領域と低反射領域との境界近傍領域の光を取得できるように、上記照射手段あるいは撮像手段を調整し、
上記撮像手段は、上記調整が終了した後に撮像を開始することを特徴とする起伏検査装置。 - 上記光強度取得手段は、上記カラーフィルタ基板表面からの光をエリア状に取得するエリアセンサを備えることを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- 上記照射手段はライン状に光照射を行うライン照明であり、上記撮像手段は上記カラーフィルタ基板表面からの光をライン状に取得するラインセンサを備えることを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- 上記照射手段に石英ロッドが用いられていることを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- 上記カラーフィルタ基板表面からの光が、該カラーフィルタ基板表面での反射光であることを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- 上記カラーフィルタ基板は光透過性を有し、該カラーフィルタ基板表面からの光が、該カラーフィルタ基板の裏面から表面へ透過するとともに該表面で反射した光であることを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- 上記調整手段は、照射手段あるいは撮像手段を移動させることで両者の相対的位置関係を調整することを特徴とする請求項1記載の起伏検査装置。
- カラーフィルタ基板の表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する起伏検査装置であって、
上記カラーフィルタ基板に光照射を行う照射手段と、
上記カラーフィルタ基板の表面からの光のうち所定の光だけを取得する撮像手段と、
照射手段を移動させつつ上記撮像手段による撮像を行うことで上記カラーフィルタ基板表面からの光の光強度分布を取得し、この光強度分布に基づいて上記照射手段および撮像手段の相対的位置関係を設定する設定手段と、
該設定を行った後の撮像手段の撮像結果に基づいて、カラーフィルタ基板表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する判定手段とを備え、
上記設定手段は、上記光強度分布に基づいて正反射領域、乱反射領域および低反射領域を識別するとともに上記撮像手段が上記乱反射領域と低反射領域との境界近傍領域の光を取得できるように、上記照射手段および撮像手段の相対的位置関係を設定し、
上記撮像手段は、上記設定が終了した後に撮像を開始することを特徴とする起伏検査装置。 - 上記照射手段はライン状に光照射を行うライン照明であり、上記撮像手段は上記カラーフィルタ基板表面からの光をライン状に取得するラインセンサを備えることを特徴とする請求項8記載の起伏検査装置。
- カラーフィルタ基板に光照射を行う照射手段と該カラーフィルタ基板表面からの光のうち所定の光だけを取得する撮像手段とを用い、該カラーフィルタ基板の表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する起伏検査方法であって、
上記カラーフィルタ基板に光照射を行い、該光照射に対する該カラーフィルタ基板表面からの光についてその光強度分布を取得する光強度取得ステップと、
上記光強度取得ステップで得られる光強度分布に基づいて、上記照射手段あるいは撮像手段を調整する調整ステップと、
該調整を行った後の上記撮像手段の撮像結果に基づいて、上記カラーフィルタ基板表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する判定ステップとを含み、
上記調整ステップでは、上記光強度分布に基づいて正反射領域、乱反射領域および低反射領域を識別し、上記撮像手段が上記乱反射領域と低反射領域との境界近傍領域の光を取得できるように、上記照射手段あるいは撮像手段を調整し、
上記撮像手段は、上記調整ステップが終了した後に撮像を開始することを特徴とする起伏検査方法。 - 上記照射手段の照射光の光束を絞る光束調整手段を備えることを特徴とする請求項1または8記載の起伏検査装置。
- 上記光束調整手段はスリットを有することを特徴とする請求項11記載の起伏検査装置。
- 上記スリットの位置および幅の少なくとも一方が可変であることを特徴とする請求項12記載の起伏検査装置。
- 請求項1記載の起伏検査装置を制御する、起伏検査装置の制御プログラムであって、
カラーフィルタ基板表面からの光の光強度分布を算出する工程と、
上記光強度分布に基づいて、正反射領域、乱反射領域および低反射領域を識別するとともに上記撮像手段が上記乱反射領域と低反射領域との境界近傍領域の光を取得できるように、上記照射手段および撮像手段の少なくとも一方を調整する工程と、
該調整が終了した後に撮像を開始した撮像手段の撮像結果に基づいて、上記カラーフィルタ基板表面に形成された絵素間の膜厚差を判定する工程とを、コンピュータに実行させることを特徴とする起伏検査装置の制御プログラム。 - 請求項14に記載の起伏検査装置の制御プログラムが記録されていることを特徴とするコンピュータの読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006162891A JP4322890B2 (ja) | 2005-06-13 | 2006-06-12 | 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体 |
US12/308,241 US20090303468A1 (en) | 2006-06-12 | 2007-06-12 | Undulation Inspection Device, Undulation Inspecting Method, Control Program for Undulation Inspection Device, and Recording Medium |
PCT/JP2007/061841 WO2007145223A1 (ja) | 2006-06-12 | 2007-06-12 | 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体 |
CNA200780021550XA CN101466997A (zh) | 2006-06-12 | 2007-06-12 | 起伏检测装置、起伏检测方法、起伏检测装置的控制程序、记录介质 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005172984 | 2005-06-13 | ||
JP2006162891A JP4322890B2 (ja) | 2005-06-13 | 2006-06-12 | 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007024873A JP2007024873A (ja) | 2007-02-01 |
JP4322890B2 true JP4322890B2 (ja) | 2009-09-02 |
Family
ID=37785804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006162891A Active JP4322890B2 (ja) | 2005-06-13 | 2006-06-12 | 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4322890B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007126027A1 (ja) | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | カラーフィルタ検査方法およびカラーフィルタ製造方法並びにカラーフィルタ検査装置 |
JP4973429B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2012-07-11 | 株式会社コスモグラフ | 透明搬送物検査装置及び検査方法 |
JP5285530B2 (ja) * | 2009-07-30 | 2013-09-11 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 塗膜形成ムラ検査装置 |
US9140546B2 (en) | 2010-07-30 | 2015-09-22 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and method for three dimensional inspection of wafer saw marks |
JP6110538B2 (ja) * | 2011-04-19 | 2017-04-05 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板検査装置及び基板検査装置の調整方法 |
JP5791101B2 (ja) * | 2011-05-16 | 2015-10-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 貼り合せ板状体検査装置及び方法 |
JP6038434B2 (ja) * | 2011-08-11 | 2016-12-07 | 株式会社ヒューテック | 欠陥検査装置 |
JP2014116656A (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Samsung R&D Institute Japan Co Ltd | 撮像装置、撮像方法及びプログラム |
JP2014178446A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Ricoh Co Ltd | 光学センサ、定着装置および画像形成装置、ならびに光学センサの配置方法 |
EP3315897B1 (en) * | 2015-06-25 | 2020-07-01 | Nireco Corporation | Web detection device and detection method |
JP6111313B1 (ja) | 2015-11-04 | 2017-04-05 | 協和界面科学株式会社 | 防曇性評価装置および防曇性評価方法 |
JP2018115864A (ja) * | 2017-01-16 | 2018-07-26 | 株式会社エフピコ | 合成樹脂製シートの防曇性評価方法、及び、包装用容器又は包装用容器の蓋の防曇性評価方法 |
CN108760765B (zh) * | 2018-05-24 | 2021-12-07 | 武汉精测电子集团股份有限公司 | 一种基于侧视相机拍摄的表面损伤缺陷检测装置及方法 |
JP7394799B2 (ja) * | 2021-02-10 | 2023-12-08 | Towa株式会社 | 検査装置、樹脂成形装置、切断装置、樹脂成形品の製造方法、及び、切断品の製造方法 |
-
2006
- 2006-06-12 JP JP2006162891A patent/JP4322890B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007024873A (ja) | 2007-02-01 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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