JP4285096B2 - 内燃機関の排ガス浄化装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内燃機関の排出ガスに含まれるパティキュレートを捕集するためのパティキュレートフィルタを備える排ガス浄化装置に関し、詳しくは、パティキュレートフィルタ再生時のパティキュレートの急速燃焼を抑制可能なパティキュレートフィルタ構造に関する。
【従来の技術】
環境対策として、ディーゼルエンジンから排出されるパティキュレート(粒子状物質、以下PM)を低減するための装置が種々提案されている。その代表的なものに、パティキュレートフィルタがあり、排気管途中にパティキュレートフィルタまたは触媒を表面に塗布したパティキュレートフィルタを設置して、PMを捕集するシステムが知られている。パティキュレートフィルタは、ガス通路となる多数のセルを有し、これら多数のセルを区画する多孔質の隔壁を排ガスが通過する際に、PMを吸着、捕集する構成となっており、パティキュレートフィルタの表面に酸化触媒を塗布することもできる。パティキュレートフィルタは、PMの堆積量が増えると圧損が増加し、出力低下等の不具合を生じることから、間欠的に捕集したPMを燃焼除去する再生処理を行って、連続使用を可能としている。
【0002】
パティキュレートフィルタの再生方法としては、パティキュレートフィルタに流入する排ガスを高温に制御するか、あるいは未燃の燃料を多く含んだ状態にし、触媒反応により発熱させることで、パティキュレートフィルタを昇温しPMを燃焼させる手法が主流となっている。また、再生による燃費悪化を低減するためには、パティキュレートフィルタに多量のPMを堆積させ、一度に再生することが有効とされている。
【0003】
しかしながら、過剰のPMを堆積させると、再生中や高速運転中に急減速した場合に、PMが急速に連鎖的に燃焼する問題があった。すなわち、パティキュレートフィルタに堆積したPMが燃焼する際、パティキュレートフィルタの上流側端面から流入した排ガスが、PMの燃焼熱を徐々に奪いながら下流側端面へと流れていくため、パティキュレートフィルタ内は、通常、下流側ほど温度が高くなっている。ここで、例えば急減速により、急激にガス流量が低下すると、PMの燃焼熱を奪うことができなくなる。そして、高温状態のパティキュレートフィルタ下流部の温度が、さらに温度上昇し、PMが自己燃焼を起こして、急速な連鎖反応に至る。
【0004】
このようなPMの急速な燃焼が生じると、触媒の劣化や、甚だしい場合にはパティキュレートフィルタの基材の熱破壊(割れや溶損)をまねく原因となる。ここで、パティキュレートフィルタの熱破壊については、例えば、特許文献1に、フィルタ下流端部の通路閉鎖位置を互いにずらすことで、損傷を回避可能とすることが記載されている。また、特許文献2、3には、フィルタ両端部の目封止厚さを不均一としたり、外周側へ向けて漸次厚くすることで、耐熱衝撃性を改善することが記載されている。
【0005】
【特許文献1】
特開昭61−138812号公報
【特許文献2】
特開平8−281034号公報
【特許文献3】
特開平05−133217号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、これら特許文献1〜3は、PMが堆積する部位をずらして、燃焼により高温となる部位を分散させたり、熱衝撃による応力集中や燃焼熱が集中する部位を分散させて、クラック発生や溶損を防止するものである。これら特許文献1〜3は、パティキュレートフィルタの温度上昇そのものを抑制するものではなく、運転条件によって、PMが急速な連鎖反応に至った場合に、高温により損傷する危険は依然として残る。また、触媒をコートしたパティキュレートフィルタでは、触媒の劣化をまねくおそれがある。
【0007】
このため、従来は、パティキュレートフィルタの損傷を防止するために、堆積可能なPMの限界量を低くして、パティキュレートフィルタの再生を頻繁に行っているのが実情であり、再生による燃費悪化が大きな課題となっている。そこで、多量のPMを堆積させることが可能で、再生による燃費悪化を低減可能な技術の開発が望まれている。
【0008】
すなわち、本発明の目的は、急減速等によりPMの急速な連鎖反応が生じた場合にも、パティキュレートフィルタ内の温度上昇を抑制して、触媒の劣化やパティキュレートフィルタの損傷を防止することが可能であり、より多量のPMを堆積させて一度に再生することにより、燃費悪化を防止できる排ガス浄化装置を実現することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1の内燃機関の排ガス浄化装置は、内燃機関の排気管途中に、排ガス中のパティキュレートを捕集するウオールフロータイプのパティキュレートフィルタを設置し、捕集したパティキュレートを適時燃焼除去してパティキュレートフィルタを再生する再生手段を備えている。上記パティキュレートフィルタは多孔質の壁により区画される多数のセルを有するモノリス構造体の両端面において、上記多数のセルを交互に栓詰めした栓詰め部を有し、排ガス流出側の端面における栓詰め部は、その一部の深さを、排ガス流入側の栓詰め部よりも深くした深栓詰め構造として、他の部位よりも熱容量が大きい熱吸収部を形成し、かつ上記熱吸収部を形成する上記深栓詰め構造の部位と、上記排ガス流入側と同等深さの部位を略均等に配置して、パティキュレートの燃焼熱を吸収分散しかつ通気抵抗を低減可能な間引き配置となっている。
【0010】
上記構成によれば、急減速等によりPMの急速な連鎖反応が生じた場合にも、その燃焼熱を上記熱吸収部が吸収分散させるので、上記パティキュレートフィルタの温度、特に高温となりやすい排ガス流出側の端部の温度上昇を抑制し、最高温度を低下させることができる。よって、上記パティキュレートフィルタに担持される触媒の劣化やフィルタ基材の損傷を防止しつつ、より多量のPMを堆積させることができるので、頻繁な再生による燃費悪化を防止して、安全性、経済性を向上できる。
上記パティキュレートフィルタとしては、モノリス構造体の両端面を交互に栓詰めしたウオールフロータイプのものが好適に用いられる。ウオールフロータイプのフィルタは、多孔質壁を介してセル間を流通する間に、パティキュレートが捕集されるもので、捕集効率が良好で、製作も容易である。
具体的には、上記モノリス構造体の排ガス流出側の端面における栓詰め部の深さを、排ガス流入側の栓詰め部よりも深くすることで、熱容量を増やした熱吸収部を形成することができる。特に、上記深栓詰め構造を、排ガス流出側の一部とすることで、通気抵抗の増加を抑制する効果が得られる。
【0011】
請求項2の発明では、上記熱吸収部を、再生時の上記パティキュレートフィルタの温度分布を基に、上記パティキュレートフィルタの最高温度が許容限界を超えない温度となるように設ける。
【0012】
具体的には、PMの燃焼熱が奪われることにより、上記パティキュレートフィルタが到達する最高温度が許容範囲となるように、上記熱吸収部の熱容量を設定するとよい。これにより、PMが急速燃焼しても、上記パティキュレートフィルタ温度が、触媒の劣化温度やフィルタの損傷のおそれがある温度を超えないようにして、安全性を確保できる。
【0013】
請求項3の発明では、上記熱吸収部となる上記深栓詰め構造の栓詰め深さを、略一定とする。
【0019】
請求項の発明では、請求項3の構成における上記熱吸収部を、上記モノリス構造体の排ガス流出側の端面の外周縁部を除いて形成する。
【0020】
排気管壁に接する上記モノリス構造体の外周縁部は、温度が比較的低いので、これを除く部位を深栓詰め構造とすることで、通気抵抗の増加をさらに抑制することができる。
【0021】
請求項の発明では、上記深栓詰め構造を、上記モノリス構造体の中心部が深く外周部が浅くなるように形成する。
【0022】
高温となりやすい上記モノリス構造体の中心部の栓詰め部の深さを深くし、比較的低温の外周部の栓詰め部を浅く形成することで、上記パティキュレートフィルタの温度上昇と通気抵抗の増加を効果的に抑制できる。
【0023】
請求項の発明では、請求項5の構成における上記熱吸収部を、上記モノリス構造体の排ガス流出側の端面の外周縁部を除いて形成する。
【0024】
排気管壁に接する上記モノリス構造体の外周縁部は、温度が比較的低いので、これを除く部位を深栓詰め構造とすることで、通気抵抗の増加をさらに抑制することができる。
【0030】
触媒が担持されるコート材は熱容量体であるので、上記触媒コート層を厚くすることによっても、熱容量を増加させることができ、これを熱吸収部とすることで、同様の効果が得られる。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の基本構成となる第1の参考形態を詳細に説明する。図1は、本発明を適用した内燃機関の排ガス浄化装置の全体構成を示す図で、図1(a)のように、内燃機関Eの排気管2途中には大径部が設けてあり、その内部にパティキュレートフィルタ1を収容している。内燃機関Eは、例えば、ディーゼルエンジンであり、パティキュレートフィルタ1は、ディーゼルエンジンから排出されるパティキュレート(PM)を捕集する、ディーゼルパティキュレートフィルタ(DPF)とする。パティキュレートフィルタ1は、捕集したPMを、パティキュレートフィルタ再生手段3を用いて、適時、燃焼除去することにより、再生される。
【0032】
図1(b)、(c)のように、パティキュレートフィルタ1は円柱状のモノリス構造体からなり、その内部は多孔質のセル壁11により軸方向に区画されて、ガス流れに平行な多数のセル12を形成している。パティキュレートフィルタ1のこれら多数のセル12は、排ガス流入側または流出側端面のいずれかで目封止がなされて一端が閉鎖されている(栓詰め部13)。この際、開口部が隣接するセルで互い違いとなるよう、交互に栓詰めすることで、排ガスがセル壁11を通じてセル12間を流通するウオールフロー構造となしてある。好ましくは、パティキュレートフィルタ1の内表面(セル壁11表面)に酸化触媒を担持させると、PMの燃焼温度を低くして安定した燃焼を行うことができる。酸化触媒以外の排ガス浄化触媒を担持させることもできる。
【0033】
セル12の断面形状は、通常、四角形であり、ここでは、正方形としているが、長方形であってもよい。それ以外にも、三角形等や他の多角形、その他の形状とすることができる。また、外周形状は、真円である必要は必ずしもなく、楕円や多角形などでもよい。パティキュレートフィルタ1の材質としては、例えば、コーディエライト等の耐熱性セラミックスを使用することができ、使用する原料の粒径や、焼成工程で焼失する添加材の量等を調製することで、セル壁11の気孔率、気孔径等を制御することができる。一般に、セル壁11の気孔率、気孔径が大きいほど低圧損となるが、あまり大きいとPM捕集能力が低下するため、必要性能に応じて適宜設定すればよい。栓詰め部13の材質は、例えば、パティキュレートフィルタ1と同材質のものを用いることができるが、異種のセラミックス材を用いてもよい。セル壁11の厚さ、各セル12の開口部面積等も、必要なPM捕集能力が得られ、かつ圧損が大きくなりすぎないように、適宜設定される。
【0034】
図1(b)に示すように、本形態では、パティキュレートフィルタ1の排ガス流出側の端部(図の右端部)に他の部位よりも熱容量が大きい熱吸収部4を設けて、パティキュレートの燃焼熱を吸収分散可能としてある。具体的には、図示するように、排ガス流出側の端面における栓詰め部13の深さを、排ガス流入側の栓詰め部13よりも深くした深栓詰め構造とすることで、熱吸収部4を形成することができる。熱吸収部4では、深栓詰め構造とした栓詰め部13により、熱容量が増加するため、PMの燃焼熱を吸収分散させて、高温となりやすい流出側端部の温度上昇を抑制することができる。本参考形態では、排ガス流出側の栓詰め部13の全体を所定深さの深栓詰め構造としている。深栓詰め構造の深さは、これにより増加する熱容量によって、PM急速燃焼時のパティキュレートフィルタ1の最高温度が許容限界を超えないように、設定すればよい。許容限界温度は、パティキュレートフィルタ1の材質や、担持される触媒によって異なる。
【0035】
上記構造のパティキュレートフィルタ1は、例えば次のようにして製作される。まず、セラミック原料に、有機発泡材やカーボン等、通常使用される添加材を調合し、混練して粘土状としたものを、押出成形する。有機発泡材やカーボンは焼成過程で焼失して気孔を形成する。この成形体を仮焼した後、通常の方法で、各セル12の一方の端面を交互に栓詰めするが、その際、熱吸収部4となる部位は、栓詰め部13の深さを通常より深くする。その後、大気雰囲気中で焼成してまで昇温してパティキュレートフィルタ1とする。
【0036】
得られたパティキュレートフィルタ1に、触媒貴金属等の触媒成分を担持して触媒付パティキュレートフィルタとすることもできる。触媒成分の担持は、触媒成分の化合物を水、アルコール等の溶媒に溶解して触媒溶液を調製し、パティキュレートフィルタ1に含浸させる。その後、余剰の触媒溶液を除去して、乾燥し、大気雰囲気で触媒成分を焼き付ける。
【0037】
図2に示すように、排ガス流出側の栓詰め部13全体を深栓詰めとする構造(図2(a))の他、図2(b)に第2の実施の形態として示すように、排ガス流出側の栓詰め部13の一部のみを所定深さの深栓詰め構造として、熱吸収部4を構成することもできる。ここでは、深栓詰めの部分13Aと通常深さの部分13Bがほぼ均等になるように配置しているが、これらの比率や配置を変更することもでき、再生時のパティキュレートフィルタ1の温度分布から、最高温度が許容限界を超えないように、適宜設定すればよい。このように、熱吸収部4の栓詰め部13全体を深栓詰め構造とせず、間引き配置させることで、通気抵抗の増加を抑制する効果が得られる。
【0038】
図3に示す第3の実施の形態では、熱吸収部4を構成する深栓詰めの部分13Aを、外周縁部14を除いて配置し、中心部とその近傍にのみ所定深さの深栓詰めとした部分13Aを配置する。図では、中心部とその近傍においては、所定深さの深栓詰めとした部分13Aと通常深さの部分13Bがほぼ均等になるように配置しているが、外周縁部14を除く中心部とその近傍の全体を所定深さの深栓詰め構造とすることもできる。外周縁部14は、排気管2壁に接し中心部に比べて放熱しやすいために、深栓詰め構造としなくても、許容温度を超えるおそれは小さい。よって、外周縁部14を除く部位を深栓詰め構造とすることで、温度上昇を抑制しつつ、通気抵抗の増加を効果的に抑制することができる。
【0039】
図4(a)に示す第4の参考形態では、排ガス流出側の端部に深栓詰め構造の吸熱部4を構成する際に、深栓詰めの部分13Cの深さを中心部で深くし、中心部から外周縁部へ向けて次第に浅くなるようにする。パティキュレートフィルタ1の温度分布は、通常、中心部が最も高く外周縁部へ向けて温度が低くなるので、これに対応させて高温部ほど熱容量が大きくなる構成とすることで、より効果的に燃焼熱を吸収分散させることができる。図4(b)に第5の実施の形態として示すように、深栓詰めの部分13Cを全体に形成せず、一部を通常深さの部分13Bとすることもでき、通気抵抗を低下させる効果が得られる。
【0040】
熱吸収部4を、深栓詰め構造とする以外の方法で形成することもできる。図5(a)、(b)に示す第6の参考形態では、パティキュレートフィルタ1のセル壁11を、下流端から所定長で他の部位に比べて厚く形成することで、熱吸収部4を構成している。栓詰め部13は全体を通常の深さとする。熱吸収部4の厚さや長さは、パティキュレートフィルタ1の温度上昇を抑制するために必要な熱容量が得られるように、適宜設定することができる。なお、セル壁11を厚くするには、基材セラミックをモノリス状に成形して乾燥させた後、熱吸収部4となる部位を基材セラミックを含むスラリー溶液に浸漬し、乾燥後、焼成すればよい。所定厚さを得るために、浸漬、乾燥工程を繰り返し行なうこともできる。このようにしても、排ガス流出側の端部に熱容量の大きい熱吸収部4を形成することができ、燃焼熱を吸収分散させる同様の効果が得られる。また、セル壁11は多孔質であるので通気性を大きく低下させることがなく、PM捕集容積も増加する。
【0041】
図5(c)に示す第7の参考形態のように、パティキュレートフィルタ1のセル壁11を厚くする代わりに、セル壁11の気孔率を低下させることで、熱吸収部4を構成することもできる。図では、パティキュレートフィルタ1の下流端から所定長の範囲におけるセル壁11を緻密化し、気孔率を他の部位より小さくすることで、熱容量を増加させた熱吸収部4とする。栓詰め部13は全体を通常の深さとする。セル壁11の気孔率は、通常、50〜70%程度であり、熱吸収部4となる部位の気孔率は、これより小さくするのがよい。この場合も、熱吸収部4の厚さや長さは、パティキュレートフィルタ1の温度上昇を抑制するために必要な熱容量が得られるように、適宜設定することができる。なお、セル壁11の気孔率を低下させるには、基材セラミックをモノリス状に成形して乾燥させた後、熱吸収部4となる部位に、基材セラミックの気孔内に浸入して緻密化するセラミックの溶液を含浸させ、乾燥後、焼成すればよい。このようにすると、セル壁11が緻密化することにより熱伝導性が良好となり、燃焼熱がセル壁11内を伝熱して外周側へ放熱されやすくなる。また、セル壁11を厚くすることなく、熱容量を増やすことができるので、通気抵抗の増加を抑制できる。
【0042】
図6(a)、(b)に示す第8の参考形態では、排ガス流出側の端部のパティキュレートフィルタ1のセル壁11に、熱容量体5をコーティングすることにより、熱吸収部4を構成している。熱容量体5としては、例えば、アルミナ、シリカ、タルク等の基材セラミックと異なるセラミックが使用できる。熱吸収部4を構成する熱容量体5のコーティング方法は、上記第6の実施の形態と同様であり、基材セラミックをモノリス状に成形して乾燥させた後、下流端から所定長のセル壁11に、熱容量体5を含むスラリー溶液に浸漬し、乾燥後、焼成すればよい。下流端から所定長で他の部位に比べて厚く形成することで、熱吸収部4を構成している。栓詰め部13は全体を通常の深さとする。熱吸収部4の厚さや長さは、パティキュレートフィルタ1の温度上昇を抑制するために必要な熱容量が得られるように、適宜設定することができる。なお、セル壁11を厚くするには、モノリス状に成形したセラミック基材を、乾燥させた後、熱吸収部4となる部位を基材セラミックを含むスラリー溶液に浸漬し、乾燥、焼成すればよい。所定厚さを得るために、浸漬、乾燥工程を繰り返し行なうこともできる。セル壁11は多孔質で通気性を有するので、通気抵抗の増加を抑制しつつ、燃焼熱を吸収分散させる効果が得られる。
【0043】
図7(a)、(b)に示す第9の参考形態では、排ガス流出側の端部において、パティキュレートフィルタ1に担持される触媒コート層6により、熱吸収部4を構成している。表面に触媒コート層6を形成したパティキュレートフィルタ1の場合は、下流端から所定長のセル壁11表面に形成される触媒コート層6の厚さを、他の部位より厚くして(図に6Aとして示す部分)、熱吸収部4とする。触媒コート層6は、触媒を熱容量体であるアルミナ等のセラミックに担持させたものからなるので、これを厚くすることで、熱容量を大きくし、燃焼熱を吸収分散させる同様の効果が得られる。なお、熱吸収部4となる触媒コート層6に含まれる触媒量は従来と同等の量とするのがよい。
【0044】
上記構成の排ガス浄化装置の作動について、次に説明する。図1(a)において、パティキュレートフィルタ再生手段は、図示しない差圧センサ等を用いてパティキュレートフィルタ1の前後差圧を検出することにより、パティキュレートフィルタ1のPM堆積量を算出する。そして、算出されたPM堆積量が予め設定した既定値に達したと判断された時に、PMを燃焼除去してパティキュレートフィルタ1を再生させる。パティキュレートフィルタ1の再生は、例えば、内燃機関Eからパティキュレートフィルタ1に排出される排ガスを高温に制御するか、あるいは未燃燃料を多量に含んだ状態とし、触媒反応により発熱させることにより行われる。これにより、パティキュレートフィルタ1が昇温して、PM燃焼が進行する充分高い温度となり、PMが燃焼除去される。
【0045】
この際、例えば急減速により急激にガス流量が低下すると、PMの燃焼熱が放熱されにくくなるが、本発明では、パティキュレートフィルタ1の下流端部に設けた熱吸収部4が、PMの燃焼熱を吸収分散させる。よって、従来のように、パティキュレートフィルタ1の最下流部の温度が急上昇することがなく、パティキュレートフィルタ1内の最高温度が許容限界を超えないようにすることができる。
【0046】
図8は、本発明の熱吸収部4による効果を確認するために行った試験結果を示す図である。図8(b)に示す本発明品として、排ガス流出側の栓詰め部13において、深栓詰めの部分13Aと通常深さの部分13Bがほぼ均等になるように配置することにより熱吸収部4を設けたパティキュレートフィルタ1を用いた(図2(b)の第2の実施の形態の構成)。パティキュレートフィルタ1の基材はコーディエライトとし、熱吸収部4となる深栓詰めの部分13A:30mm、通常深さの部分13B:3〜4mm、半径:64.5mm、軸方向長:150mm、セル壁厚:0.3mm、300メッシュ(正方形セル)として、上記方法で製作したパティキュレートフィルタ1を内燃機関Eの排気管4に取り付け、昇温試験を行って、パティキュレートフィルタ1内部の温度分布を測定した。また、図8(a)に示す熱吸収部4を形成しない従来品についても同様の試験を行った。従来品は、排ガス流入側、流出側とも栓詰め部13を通常の深さ(3〜4mm)とした以外は、本発明品と同様の構成を有する。
【0047】
図8(c)の(ロ)に明らかなように、熱吸収部4を有しない従来品では、PMの急速燃焼が生じた場合に、パティキュレートフィルタ1の最下流部の温度が急上昇し、パティキュレートフィルタ1内の最高温度が許容限界温度を超えるおそれがある。このため、従来は、再生を実施するPM堆積量を少なく設定し(ロ´)、Mの急速燃焼が生じた場合でも許容限界温度を超えないようにする必要があった。これに対し、熱吸収部4を設けた本発明品では、図8(c)の(ハ)に示されるように、熱吸収部4によって、パティキュレートフィルタ1の温度上昇が抑制され、パティキュレートフィルタ1内の最高温度を許容限界以下とすることができる。従って、再生を実施するPM堆積量を多く設定することができ、頻繁な再生による燃費の悪化を防止することができる。
【0048】
なお、図8(c)に明らかなように、パティキュレートフィルタ1内の温度分布は、下流側ほど温度が高く、また中心部で高く外周部側ほど低くなる。よって、この温度分布に応じて、高温となりやすい中心部または下流端部の熱容量が大きくなるように、熱吸収部4を形成すればよく、パティキュレートフィルタ1内の最高温度を許容限界以下に維持できることがわかる。
【0049】
以上のように、本発明によれば、急減速等によりPMの急速な連鎖反応が生じた場合にも、パティキュレートフィルタ内の温度上昇を抑制して、触媒の劣化やパティキュレートフィルタの損傷を防止することが可能である。よって、より多量のPMを堆積させて一度に再生することができるので、安全性と燃費向上を両立できる。また、簡易な構成で、製作も容易である。
【0050】
上記各実施の形態では、パティキュレートフィルタとして、モノリス構造体の両端面を交互に栓詰めしたウオールフロータイプのものを用いたが、これに限定されるものではない。例えば、セラミック繊維や金属繊維を用いた不織布フィルタや、焼結金属からなるフィルタ等を用いることができ、パティキュレートフィルタの排出側端部に熱容量の大きい熱吸収部を設けることで、同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の参考形態を示し、(a)は内燃機関の排ガス浄化装置の全体概略構成図、(b)はパティキュレートフィルタの全体断面図、(c)はパティキュレートフィルタの端面構造を示す図である。
【図2】 (a)は第1の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は第2の実施の形態のパティキュレートフィルタの全体断面図である。
【図3】 第3の実施の形態のパティキュレートフィルタの全体断面図である。
【図4】 (a)は第4の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は第5の実施の形態のパティキュレートフィルタの全体断面図である。
【図5】 (a)は第6の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は(a)の要部拡大断面図、(c)は第7の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図である。
【図6】 (a)は第8の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は(a)の要部拡大断面図である。
【図7】 (a)は第9の参考形態のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は(a)の要部拡大断面図である。
【図8】 本発明の効果を説明するための図で、(a)は従来のパティキュレートフィルタの全体断面図、(b)は本発明のパティキュレートフィルタの全体断面図、(c)はパティキュレートフィルタのY−Y断面およびパティキュレートフィルタのX−X断面における温度分布を示す図である。

Claims (6)

  1. 内燃機関の排気管途中に、排ガス中のパティキュレートを捕集するウオールフロータイプのパティキュレートフィルタを設置し、捕集したパティキュレートを適時燃焼除去してパティキュレートフィルタを再生する再生手段を備えた内燃機関の排ガス浄化装置において、
    上記パティキュレートフィルタは、多孔質の壁により区画される多数のセルを有するモノリス構造体の両端面において、上記多数のセルを交互に栓詰めした栓詰め部を有し、
    排ガス流出側の端面における栓詰め部は、その一部の深さを、排ガス流入側の栓詰め部よりも深くした深栓詰め構造として、他の部位よりも熱容量が大きい熱吸収部を形成し、かつ上記熱吸収部を形成する上記深栓詰め構造の部位と、上記排ガス流入側と同等深さの部位を略均等に配置して、パティキュレートの燃焼熱を吸収分散しかつ通気抵抗を低減可能な間引き配置としたことを特徴とする内燃機関の排ガス浄化装置。
  2. 上記熱吸収部は、再生時の上記パティキュレートフィルタの温度分布を基に、上記パティキュレートフィルタの最高温度が許容限界を超えない温度となるように設けられる請求項1記載の内燃機関の排ガス浄化装置。
  3. 上記熱吸収部となる上記深栓詰め構造の栓詰め深さを、略一定とした請求項1または2記載の内燃機関の排ガス浄化装置。
  4. 上記熱吸収部は、上記モノリス構造体の排ガス流出側の端面の外周縁部を除いて形成される請求項3記載の内燃機関の排ガス浄化装置。
  5. 上記深栓詰め構造は、上記モノリス構造体の中心部が深く外周部が浅くなるように形成される請求項1または2記載の内燃機関の排ガス浄化装置。
  6. 上記熱吸収部は、上記モノリス構造体の排ガス流出側の端面の外周縁部を除いて形成される請求項記載の内燃機関の排ガス浄化装置。
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