JP4282926B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特には、少なくとも一方の基板にスペーサが形成された液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、一般的に用いられている液晶表示素子では、基板間にプラスチックビーズ等をスペーサとして散在させることにより、上記基板間の間隔(セルギャップ)を一定に保っている。しかしながら、このような方法では、プラスチックビーズが基板上に不均一に配置されることがある。この場合、ギャップムラを生じ、表示不良となることがある。
【0003】
このような問題の発生を回避可能な方法として、基板上にフォトリソグラフィ技術を用いて柱状スペーサを形成することが知られている。この方法によれば、所望の位置にスペーサを配置することができるため、プラスチックビーズに関連して上述した問題は生じ得ないと考えられる。
【0004】
しかしながら、実際には、フォトリソグラフィ技術を用いて柱状スペーサを形成した場合であっても、ギャップムラを生ずることがあった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ギャップムラを十分に抑制することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、一方の主面に第1領域と前記第1領域に対して***した第2領域とを有する第1基板と、前記第1基板の前記主面と対向した第2基板と、前記第1及び第2基板の少なくとも一方の対向面に設けられ且つ前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数の柱状スペーサと、前記第1及び第2基板間に介在した液晶層とを具備し、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離は、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離に比べてより長く、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものは前記第1領域上に位置したものと比べて数密度がより低く、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離D 1 に対する前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離D 2 の比D 2 /D 1 は1.1〜2の範囲内にあり、前記第1基板は前記第2基板との対向面にスイッチング素子と配線と画素電極とを備え、前記第1領域は前記画素電極と少なくとも部分的に重なり合い、前記第2領域の少なくとも一部は前記配線と重なり合っていることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【0007】
また、本発明は、一方の主面に第1領域と前記第1領域に対して***した第2領域とを有する第1基板と、前記第1基板の前記主面と対向した第2基板と、前記第1及び第2基板の少なくとも一方の対向面に設けられ且つ前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数の柱状スペーサと、前記第1及び第2基板間に介在した液晶層とを具備し、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものの径は、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものの径に比べてより小さく、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものの径d 1 と、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものの径d 2 との比d 1 /d 2 は1.2〜4の範囲内にあり、前記第1基板は前記第2基板との対向面にスイッチング素子と配線と画素電極とを備え、前記第1領域は前記画素電極と少なくとも部分的に重なり合い、前記第2領域の少なくとも一部は前記配線と重なり合っていることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【0008】
なお、本発明において、複数のスペーサのうち第2領域上に位置したものから最も近くに位置したものは、第1領域上に位置したスペーサ及び第2領域上に位置したスペーサのいずれであってもよい。同様に、複数のスペーサのうち第1領域上に位置したものから最も近くに位置したものは、第1領域上に位置したスペーサ及び第2領域上に位置したスペーサのいずれであってもよい。また、本発明で言う「スペーサの径」は、第1基板と第2基板との中間位置で両基板に平行にスペーサを切った断面において、この断面を両基板の法線方向から見たときに、この断面の外径の2点とこの断面の重心を通る線分のうち最短のものを意味する。
【0009】
本発明において、複数のスペーサは、第1基板の第2基板との対向面に設けられていてもよく、第2基板の第1基板との対向面に設けられていてもよく、第1及び第2基板の双方の対向面に設けられていてもよい。
【0011】
本発明において、第1及び第2基板の少なくとも一方の基板は他方の基板との対向面にカラーフィルタ層を備えていてもよい。この場合、カラーフィルタ層の着色層を部分的に重ね合わせ、それらの積層部を上記スペーサの少なくとも一部として利用してもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において同様の構成部材には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【0013】
図1は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置を示す断面図である。図1に示す液晶表示装置1は、TN駆動方式のカラー型液晶表示装置であって、アクティブマトリクス基板2と対向基板3とを対向させ、それら基板2,3間に液晶層4を介在させた構造を有している。これら基板2,3間の周縁部には、液晶材料を注入するための注入口(図示せず)を除いて接着剤層15が設けられており、その注入口は封止剤を用いて封止されている。また、この液晶表示装置1の両面には偏光板5がそれぞれ貼り付けられており、その背面側には図示しない光源が配置されている。
【0014】
図1に示す液晶表示装置1において、アクティブマトリクス基板2は、ガラス基板のような透明基板6を有している。透明基板6上には、配線7及びスイッチング素子(図示せず)が形成されている。また、透明基板6の配線7及びスイッチング素子が設けられた面には、カラーフィルタ層9及び周縁遮光層10が形成されており、カラーフィルタ層9上には画素電極11及び柱状スペーサ12が積層されている。一方、対向基板3は、ガラス基板のような透明基板13を有している。透明基板13上には、共通電極14が形成されている。なお、図示していないが、アクティブマトリクス基板2及び対向基板3のそれぞれの対向面には配向膜が設けられている。
【0015】
アクティブマトリクス基板2に形成する配線7は、透明基板6上で格子状に配列した走査線及び信号線などで構成されている。また、図示しないスイッチング素子は、例えば、アモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層とした薄膜トランジスタ(以下、TFTという)である。このスイッチング素子は、走査線及び信号線などの配線7並びに画素電極11と接続されており、それにより、所望の画素電極11に対して選択的に電圧を印加することを能としている。
【0016】
カラーフィルタ層9は、例えば、画素電極11に対応してストライプ状に設けられた赤色の着色層と緑色の着色層と青色の着色層とで構成されている。これら着色層は、感光性樹脂とそれぞれの色に対応した着色顔料或いは着色染料とを含有する混合物を用いて形成することができる。
【0017】
周縁遮光層10は、一般には額縁層などと呼ばれ、画面の周縁部に形成される。周縁遮光層10は、例えば、カーボン微粒子のような黒色顔料や黒色染料と感光性樹脂との混合物を用いて形成することができる。
【0018】
画素電極11及び共通電極14は、ITOのような透明導電材料で構成されている。電極11,14は、例えばスパッタリング法などにより形成することができる。
【0019】
柱状スペーサ12は、感光性樹脂を用いて形成することができる。すなわち、柱状スペーサ12は、例えば、カラーフィルタ層9上に感光性樹脂層を形成した後、この感光性樹脂層をパターン露光・現像することなどにより得られる。柱状スペーサ12は、その少なくとも一部を周縁遮光層10と同一の材料で及び同一の工程で形成することができる。また、カラーフィルタ層9を構成する各着色層を部分的に重ね合わせて、それらの積層部を柱状スペーサ12として利用することもできる。
【0020】
図示しない配向膜は、ポリイミドなどの透明樹脂からなる薄膜にラビング処理等の配向処理を施すことにより形成され得る。
【0021】
さて、上記液晶表示装置1のアクティブマトリクス基板2では、カラーフィルタ層9や画素電極11の表面に、配線7などの下部構造の形状に対応して、凹部21と凸部22とが生じている。そのため、スペーサ12の基板6からの高さは、凹部21と凸部22との間で互いに異なっている。従来技術でギャップムラを十分に抑制できなかった理由は、このような凹凸構造に起因している。これについては、図2を参照しながら説明する。
【0022】
図2(a)は従来の液晶表示装置のアクティブマトリクス基板を概略的に示す断面図であり、図2(b)は図2(a)のアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置を概略的に示す断面図である。また、図3(a)は図1の液晶表示装置のアクティブマトリクス基板を概略的に示す断面図であり、図3(b)は図1の液晶表示装置を概略的に示す断面図である。なお、図2(a),(b)及び図3(a),(b)では、基板6,13、配線7、及び柱状スペーサ12のみを描いており、他の構成部材は省略している。
【0023】
スペーサ12はアクティブマトリクス基板2と対向基板3とを貼り合わせることにより変形する(潰れる)、しかしながら、図2(a)に示すように、柱状スペーサ12の数密度や径は凹部21と凸部22との間で同一である場合、凹部21と凸部22との間でスペーサ12の変形量(潰れ量)に大きな違いはない。そのため、従来技術では、図2(b)に示すようなギャップムラを生じていた。
【0024】
これに対し、本実施形態では、図3(a)に示すように、柱状スペーサ12の数密度を凹部21に比べて凸部22においてより低くしている。そのため、1つのスペーサに加えられる荷重は凹部21に比べて凸部22においてより大きくなる。したがって、本実施形態では、従来技術に比べて、凸部22に位置するスペーサの変形量がより大きくなり、図3(b)に示すようにギャップムラを抑制することができる。
【0025】
なお、通常、柱状スペーサ12の数密度と柱状スペーサ12の隣り合うもの同士の間の距離とは相関している。したがって、上記柱状スペーサ12の数密度とギャップムラとの間の関係は、柱状スペーサ12の隣り合うもの同士の間の距離とギャップムラとの間の関係に置き換えることができる。例えば、柱状スペーサ12のうち、凸部22上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離を、凹部21上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離に比べてより長くすることにより、ギャップムラを抑制することができる。
【0026】
本実施形態において、凹部21上に位置したスペーサ12とそれから最も近くに位置したスペーサ12との間の距離D1に対する凸部22上に位置したスペーサ12とそれから最も近くに位置したスペーサ12との間の距離D2の比D2/D1は1.1〜2の範囲内にあることが好ましく、1.2〜2の範囲内にあることがより好ましい。通常、比D2/D1を上記範囲内とした場合、ギャップムラを十分に抑制することができる。
【0027】
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図4は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置を示す断面図である。図4に示す液晶表示装置1は、スペーサ12の径が凹部21と凸部22との間で互いに異なっていること以外は図1に示す液晶表示装置1とほぼ同様の構造を有している。すなわち、本実施形態では、凸部22上に位置するスペーサ12の径を凹部22上に位置するスペーサ12の径に比べてより小さくしている。このような構成によると、第1の実施形態と同様、従来技術に比べて、凸部22に位置するスペーサの変形量がより大きくなる。したがって、本実施形態でもギャップムラを抑制することができる。
【0028】
本実施形態において、凹部21上に位置したスペーサ12の径d1と、凸部22上に位置したスペーサ12の径d2との比d1/d2は1.2〜4の範囲内にあることが好ましく、1.5〜4の範囲内にあることがより好ましい。通常、比d1/d2を上記範囲内とした場合、ギャップムラを十分に抑制することができる。
【0029】
なお、上述のように、スペーサ12は、アクティブマトリクス基板2と対向基板3とを貼り合わせることにより変形する。すなわち、スペーサ12の径は、基板2,3を貼り合わせる前後で変化し得る。しかしながら、通常、スペーサ12は順テーパ状の断面形状を有しており、そのため、スペーサ12の変形は主としてその頂部において為される。換言すれば、スペーサ12の径は、スペーサ12の底部或いはその近傍で測定した場合、基板2,3を貼り合わせる前後で殆ど変化しない。したがって、スペーサ12の底部或いはその近傍を観察することにより、完成した液晶表示装置1であっても、スペーサ12の径を凹部21と凸部22との間で異ならしめたか否かを容易に判別することができ、同様に、比d1/d2も容易に測定することができる。
【0030】
以上説明した第1及び第2の実施形態に係る技術は、互いに組み合わせることができる。すなわち、上述した液晶表示装置1は、例えば、不等式D1<D2に示す関係と不等式d1>d2に示す関係との双方を同時に満足していてもよい。
【0031】
第1及び第2の実施形態では、スペーサ12をアクティブマトリクス基板2に形成したが、スペーサ12は対向基板3に設けてもよく、基板2,3の双方に設けてもよい。また、第1及び第2の実施形態では、カラーフィルタ層9をアクティブマトリクス基板2に設けたが、カラーフィルタ層9は対向基板3に設けてもよい。但し、スペーサ12やカラーフィルタ層9をアクティブマトリクス基板2に設けた場合、基板2,3を貼り合わせる際の位置合わせが容易である。
【0032】
さらに、第1及び第2の実施形態では、スイッチング素子を用いた液晶表示装置1について説明したが、単純マトリクス駆動方式を採用してカラー型ドットマトリクス表示を行うこともできる。さらに、上記実施形態では、TN型の液晶表示装置1について説明したが、表示方式は、GH型、ECB型、或いは強誘電性液晶を利用したタイプ等であってもよい。
【0033】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
【0034】
(実施例1)
図1に示す液晶表示装置1を以下の方法により作製した。
まず、ガラス基板6上に通常の方法によりTFT及び配線7を形成して、XGA型TFTアレイ基板とした。
【0035】
次いで、基板6の配線7などを形成した面に赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCR−2000(富士フィルムオーリン社製)をスピナーを用いて塗布した。このようにして形成した塗膜の上方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が100mJ/cm2となるように波長365nmの紫外線を照射した。上述した条件で露光を終えた後、1%のKOH水溶液を用いて上記塗膜を20秒間現像することにより厚さ3.2μmの赤色の着色層を形成した。
【0036】
さらに、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCG−2000(富士フィルムオーリン社製)及び青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストCB−2000(富士フィルムオーリン社製)を用いて、赤色の着色層に関して説明したのと同様の方法により、緑色の着色層及び青色の着色層を順次形成した。以上のようにして、RGBカラーフィルタ層9を形成した。
【0037】
次に、カラーフィルタ層9上に、スパッタリング法を用いてITO膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより画素電極11を得た。なお、これら画素電極11は、それぞれカラーフィルタ層9に設けたコンタクトホールを介してTFTのソース電極と接続されるように形成した。
【0038】
その後、基板6の画素電極11を形成した面に、黒色の紫外線硬化樹脂を塗布した。これにより得られた塗膜をフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、周縁遮光層10とスペーサ12とを同時に形成した。なお、本実施例では、上記塗膜を露光する際にスペーサ部の開口サイズが15μm×20μmのフォトマスクを使用して、凸部22に相当する配線(補助容量線)7上には9画素に1個の割合でスペーサ12を形成し、凹部21上には9画素に2個の割合でスペーサ12を形成した。また、このような方法で得られたスペーサ12の高さは4.8μmであった。
【0039】
さらに、基板6の画素電極11を形成した面に、配向膜材料であるAL−3046(JSR社製)を600Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板2を完成した。
【0040】
上述した方法でアクティブマトリクス基板2を作製する一方で、以下の方法により対向基板を作製した。すなわち、まず、ガラス基板13上に、スパッタリング法を用いてITO膜を形成し、共通電極14を得た。その後、基板13の共通電極14を形成した面に、配向膜材料であるAL−3046(JSR社製)を600Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜を形成した。以上のようにして、対向基板3を完成した。
【0041】
次いで、対向基板3の配向膜を形成した面の周縁部に接着剤15を注入口が残されるように印刷した。さらに、アクティブマトリクス基板2から共通電極14に電圧を印加するための電極転移材(図示せず)を接着剤15の周辺部の電極転移材(図示せず)上に形成した。
【0042】
その後、アクティブマトリクス基板2と対向基板3とを、それらの配向膜同士が対向するように及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わせ、さらに加熱して接着剤15を硬化させることによりセルを形成した。このセル中に液晶材料としてZLI−1565(MERCK社製)を通常の方法により注入して液晶層4を形成した。さらに、注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、ガラス基板6,13のそれぞれに偏光板5を貼り付けた。
【0043】
以上のようにして得られた液晶表示装置1のセルギャップは4.80±0.20μmと非常に良好な値であった。また、この液晶表示装置1では、ギャップムラは見られず、表示品位は極めて良好であった。
【0044】
なお、本実施例では、スペーサ12を形成する際、スペーサ部の開口サイズが15μm×20μmのフォトマスクを使用したが、その開口サイズは5μm2〜40μm2の範囲内にあることが好ましい。また、本実施例では、スペーサ12を9画素に1個または2個の割合で形成したが、3画素に1個〜18画素に1個の割合で形成することが好ましい。
【0045】
(実施例2)
図4に示す液晶表示装置1を以下の方法により作製した。
まず、実施例1で説明したのと同様の方法により、ガラス基板6上に、TFT及び配線7、RGBカラーフィルタ層9、並びに画素電極11を形成した。
【0046】
その後、基板6の画素電極11を形成した面に、黒色の紫外線硬化樹脂を塗布した。これにより得られた塗膜をフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、周縁遮光層10と高さ4.8μmのスペーサ12とを同時に形成した。なお、本実施例では、凸部22に相当する配線(補助容量線)7上に9画素に1個の割合でスペーサ12を形成し、凹部21上にも9画素に1個の割合でスペーサ12を形成した。また、上記塗膜を露光する際には、スペーサ部の開口サイズが凹部21上で30μm×20μmであり且つ凸部22上で15μm×20μmであるフォトマスクを使用した。
【0047】
その後、基板6の画素電極11を形成した面に、実施例1で説明したのと同様の方法により配向膜を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板2を完成した。さらに、このアクティブマトリクス基板2を用いて、実施例1で説明したのと同様の工程を実施することにより、図4に示す液晶表示装置1を得た。
【0048】
以上のようにして得られた液晶表示装置1のセルギャップは4.80±0.15μmと非常に良好な値であった。また、この液晶表示装置1では、ギャップムラは見られず、表示品位は極めて良好であった。
【0049】
なお、本実施例では、スペーサ12を形成する際、スペーサ部の開口サイズが15μm×20μm及び30μm×20μmのフォトマスクを使用したが、その開口サイズは5μm2〜40μm2の範囲内にあることが好ましい。また、本実施例では、スペーサ12を9画素に1個の割合で形成したが、3画素に1個〜18画素に1個の割合で形成することが好ましい。
【0050】
(実施例3)
図5は、本発明の実施例3に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。本実施例では、図5に示す液晶表示装置1を以下の方法により作製した。
【0051】
まず、ガラス基板6上に、通常の方法により、TFT16及び配線を形成した。次いで、基板6のTFT16などを形成した面に、ポジ型の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法などにより1μm〜4μm程度の厚さに塗布した。これにより得られた塗膜をプリベークした後、その塗膜のコンタクトホールを形成すべき部分に露光量が200mJ/cm2〜2000mJ/cm2となるように波長365nmの紫外線を照射した。さらに、露光後の塗膜を現像することにより、コンタクトホールが設けられた絶縁膜17を形成した。
【0052】
次に、絶縁膜17上に、スパッタリング法を用いてITO膜を形成した。これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより画素電極11を得た。なお、これら画素電極11は、それぞれコンタクトホールを介してTFT10のソース電極と接続されるように形成した。
【0053】
次いで、基板6の画素電極11を形成した面に、ネガ型の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法などにより1μm〜4μm程度の厚さに塗布した。これにより得られた塗膜をプリベークした後、その塗膜のスペーサ12を形成すべき部分に露光量が200mJ/cm2〜2000mJ/cm2となるように波長365nmの紫外線を照射した。さらに、露光後の塗膜を現像することにより、高さ4.8μmの柱状スペーサ12を形成した。なお、本実施例では、スペーサ12のうち、アクティブマトリクス基板2と対向基板3とを貼り合わせた際に凹部に相当する周縁遮光層10上に位置するものの径は25μm×25μmとし、凸部に相当するカラーフィルタ層9上に位置するものの径は15μm×15μmとした。また、それらスペーサ12は、9画素に1個の割合で形成した。
【0054】
その後、基板6の画素電極11を形成した面に、配向膜材料であるAL−3046(JSR社製)を600Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板2を完成した。
【0055】
このようにして得られたアクティブマトリクス基板2と対向基板3とを用いて、実施例1で説明したのと同様の工程を実施することにより、図5に示す液晶表示装置1を得た。なお、ここで使用した対向基板3は、ガラス基板13上に、赤の着色層9aと緑の着色層9bと青の着色層9cとを有するカラーフィルタ層9及び周縁遮光層10を形成し、カラーフィルタ層9上に共通電極14を形成した構造を有している。
【0056】
以上のようにして得られた液晶表示装置1のセルギャップは4.80±0.15μmと非常に良好な値であった。また、この液晶表示装置1では、表示領域と額縁近傍との間でギャップムラは見られず、表示品位は極めて良好であった。
【0057】
(実施例4)
凹部21に対する凸部22の高さ及びスペーサ12間の間隔が異なること以外は実施例1で説明したのと同様の方法により複数の液晶表示装置1を作製した。なお、本実施例では、それら液晶表示装置1の間で、凹部21に対する凸部22の高さを0.5μm〜2μmの範囲内で互いに異ならしめるとともに、凹部21上での柱状スペーサ12間の平均間隔に対する凸部22上での柱状スペーサ12間の平均間隔の比(ここでは、柱状スペーサ12を周期的に配置したので、上記の比D2/D1に相当する)を1〜5の範囲内で互いに異ならしめた。次に、これら液晶表示装置1のそれぞれについて、セルギャップ及びギャップムラ発生の有無を調べた。その結果を図6に示す。
【0058】
図6は、実施例4に係る液晶表示装置1におけるスペーサ間隔とギャップムラとの間の関係を示すグラフである。図中、横軸は比D2/D1を示し、縦軸は凹部21と凸部22との間のセルギャップの差を示している。また、図中、曲線31は凹部21に対する凸部22の高さを0.5μmとした場合のデータを示し、曲線32は凹部21に対する凸部22の高さを1.0μmとした場合のデータを示し、曲線33は凹部21に対する凸部22の高さを2.0μmとした場合のデータを示している。
【0059】
図6の曲線31から明らかなように、凹部21に対する凸部22の高さが0.5μmである場合、比D2/D1を1.1〜2の範囲内とすることにより、ギャップムラの発生を防止することができた。また、図6の曲線32,33から明らかなように、凹部21に対する凸部22の高さが1.0μmまたは2.0μmである場合、比D2/D1を1.2〜2の範囲内とすることにより、ギャップムラの発生を防止することができた。
【0060】
(実施例5)
凹部21に対する凸部22の高さ及びスペーサ12の径が異なること以外は実施例1で説明したのと同様の方法により複数の液晶表示装置1を作製した。なお、本実施例では、それら液晶表示装置1の間で、凹部21に対する凸部22の高さを0.5μm〜2μmの範囲内で互いに異ならしめるとともに、上記の比d1/d2を1〜5の範囲[(15μm×20μm)/(15μm×20μm)〜(30μm×50μm)/(15μm×20μm)の範囲]内で互いに異ならしめた。次に、これら液晶表示装置1のそれぞれについて、セルギャップ及びギャップムラ発生の有無を調べた。その結果を図7に示す。
【0061】
図7は、実施例5に係る液晶表示装置1におけるスペーサ径とギャップムラとの間の関係を示すグラフである。図中、横軸は比d1/d2を示し、縦軸は凹部21と凸部22との間のセルギャップの差を示している。また、図中、曲線41は凹部21に対する凸部22の高さを0.5μmとした場合のデータを示し、曲線42は凹部21に対する凸部22の高さを1.0μmとした場合のデータを示し、曲線43は凹部21に対する凸部22の高さを2.0μmとした場合のデータを示している。
【0062】
図7の曲線41から明らかなように、凹部21に対する凸部22の高さが0.5μmである場合、比d1/d2を1.2〜4の範囲内とすることにより、ギャップムラの発生を防止することができた。また、図7の曲線42,43から明らかなように、凹部21に対する凸部22の高さが1.0μmまたは2.0μmである場合、比d1/d2を1.5〜4の範囲内とすることにより、ギャップムラの発生を防止することができた。
【0063】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、凹部に比べて凸部においてスペーサ間の距離をより長くすることや、凹部に比べて凸部においてスペーサの径をより小さくすることにより、スペーサの変形量を凹部に比べて凸部においてより大きくすることができるため、ギャップムラの発生を抑制することができる。
すなわち、本発明によると、ギャップムラを十分に抑制することが可能な液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置を示す断面図。
【図2】(a)は従来の液晶表示装置のアクティブマトリクス基板を概略的に示す断面図、(b)は(a)のアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図3】(a)は図1の液晶表示装置のアクティブマトリクス基板を概略的に示す断面図、(b)は図1の液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図4】本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置を示す断面図。
【図5】本発明の実施例3に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図6】実施例4に係る液晶表示装置におけるスペーサ間隔とギャップムラとの間の関係を示すグラフ。
【図7】実施例5に係る液晶表示装置におけるスペーサ径とギャップムラとの間の関係を示すグラフ。
【符号の説明】
1…液晶表示装置
2…アクティブマトリクス基板
3…対向基板
4…液晶層
15…接着剤層
5…偏光板
6…透明基板
7…配線
9…カラーフィルタ層
10…周縁遮光層
11…画素電極
12…柱状スペーサ
13…透明基板
14…共通電極
21…凹部
22…凸部
9a〜9c…着色層
16…スイッチング素子
17…絶縁層
31〜33…曲線
41〜43…曲線
Claims (3)
- 一方の主面に第1領域と前記第1領域に対して***した第2領域とを有する第1基板と、
前記第1基板の前記主面と対向した第2基板と、
前記第1及び第2基板の少なくとも一方の対向面に設けられ且つ前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数の柱状スペーサと、
前記第1及び第2基板間に介在した液晶層とを具備し、
前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離は、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離に比べてより長く、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものは前記第1領域上に位置したものと比べて数密度がより低く、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離D 1 に対する前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものとそれから最も近くに位置したものとの間の距離D 2 の比D 2 /D 1 は1.1〜2の範囲内にあり、前記第1基板は前記第2基板との対向面にスイッチング素子と配線と画素電極とを備え、前記第1領域は前記画素電極と少なくとも部分的に重なり合い、前記第2領域の少なくとも一部は前記配線と重なり合っていることを特徴とする液晶表示装置。 - 一方の主面に第1領域と前記第1領域に対して***した第2領域とを有する第1基板と、
前記第1基板の前記主面と対向した第2基板と、
前記第1及び第2基板の少なくとも一方の対向面に設けられ且つ前記第1及び第2基板間の距離を一定に保つ複数の柱状スペーサと、
前記第1及び第2基板間に介在した液晶層とを具備し、
前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものの径は、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものの径に比べてより小さく、前記複数の柱状スペーサのうち前記第1領域上に位置したものの径d 1 と、前記複数の柱状スペーサのうち前記第2領域上に位置したものの径d 2 との比d 1 /d 2 は1.2〜4の範囲内にあり、前記第1基板は前記第2基板との対向面にスイッチング素子と配線と画素電極とを備え、前記第1領域は前記画素電極と少なくとも部分的に重なり合い、前記第2領域の少なくとも一部は前記配線と重なり合っていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1基板は前記第2基板との対向面にカラーフィルタ層を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。
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